The utility model discloses a wet etching cover plate, which is positioned above the vertical position of the TFT substrate in the wet etching device for etching the TFT substrate, wherein the cover plate comprises a lower surface facing and inclining to the TFT substrate. The cover plate is composed of two lateral plates which are mutually connected with an adult herringbone structure, and each side plate comprises a lower surface facing and inclining to the TFT substrate. The lower part of the cover plate is arranged with a plurality of convex strips arranged in the direction perpendicular to the inclined direction arranged on the cover plate. The convex strip comprises two side edges which are mutually connected with an adult herringbone structure, and both ends of the convex strip are fixed with the lower surface of the cover plate, and the spacing between the connecting points of the herringbone structure of the two sides and the lower surface of the cover plate is spaced. The utility model provides a wet etching with cover, using cover strip surface will be on both sides of the medicine drop drainage to the TFT substrate cover condensation, avoid the influence of etching uniformity of acidic liquid onto the TFT substrate, so as to improve the qualified rate of products.
【技术实现步骤摘要】
本技术属于湿法刻蚀的
,尤其涉及一种湿法刻蚀用盖板。
技术介绍
湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学品对被刻蚀物进行去除的技术。对TFT(ThinFilmTransistor)基板进行湿法刻蚀时,利用化学药液与刻蚀物进行化学反应,使无光刻胶覆盖的部分脱离TFT基板表面。在生产过程中,酸性液体的挥发和喷淋出的液滴附着在湿法刻蚀槽的盖板上,附着在盖板上的酸性小液滴逐渐累积,将逐渐凝结成大的酸性液滴,最终掉落到基板上,导致刻蚀不均,影响产品合格率。
技术实现思路
本技术提供一种湿法刻蚀用盖板,可以避免液滴落在基板上,提高产品合格率。本技术提供一种湿法刻蚀用盖板,在刻蚀TFT基板的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板的竖直上方,所述盖板包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。进一步地,所述盖板由相互连接成人字形结构的两个侧板组成,每个侧板均包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。进一步地,所述盖板的下表面沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔形成有多个凹槽。进一步地,所述盖板的下方沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔排列有多个凸条。进一步地,所述凸条相对于盖板的下表面倾斜设置,且凸条的两端中距离TFT基板较近的一端与盖板的下表面相固定,距离TFT基板较远一端与盖板的下表面之间留有间距。进一步地,所述凸条的上表面与盖板的下表面之间的夹角为10°~30°。进一步地,所述凸条包括相互连接成人字形结构的两个侧边,且凸条的两端与盖板的下表面相固定,两个侧边的人字形结构连接处与盖板的下表 ...
【技术保护点】
一种湿法刻蚀用盖板,在刻蚀TFT基板的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板的竖直上方,其特征在于,所述盖板包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
【技术特征摘要】
1.一种湿法刻蚀用盖板,在刻蚀TFT基板的湿法刻蚀设备中位于所述TFT基板的竖直上方,其特征在于,所述盖板包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀用盖板,其特征在于,所述盖板由相互连接成人字形结构的两个侧板组成,每个侧板均包括面向并倾斜于所述TFT基板的下表面。
3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀用盖板,其特征在于,所述盖板的下表面沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔形成有多个凹槽。
4.根据权利要求2所述的湿法刻蚀用盖板,其特征在于,所述盖板的下方沿与盖板设置的倾斜方向相垂直的方向间隔排列有多个凸条。
5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀用盖板,其特征在于,所述凸条相对于盖板的下表面倾斜设置,且凸条的两端中距离TFT基板较近的一端与盖板的下表面相固定,距离TFT基板较远一端与盖板的下表面之间留有间距...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘海亮,李素华,高峰,
申请(专利权)人:昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司,昆山国显光电有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。