各区域冷却温度不同的衬底托盘制造技术

本实用新型专利技术公开一种各区域冷却温度不同的衬底托盘，上托盘设有中心凹位、凹位中圈和凹位外圈；下托盘设有的中心凹槽、凹槽中圈和凹槽外圈的位置与上托盘上的中心凹位、凹位中圈和凹位外圈相对应；横截面为阶梯形的密封圈设置在中心凹槽、凹槽中圈和凹槽外圈中与密封圈相适应的阶梯形密封槽内，所述的凹槽外圈由内向外为向下的斜坡面，并在斜坡面的下端设有储气槽；所述的凹槽中圈由内向外为向下的斜坡面；所述的凹槽中圈的斜坡面与水平面的夹角小于凹槽外圈的斜坡面与水平面的夹角。能使衬底的各个部分冷却温度不同，从而保证衬底蚀刻的均匀性；保证上托盘与衬底之间的密封性，有效防止离子对下托盘的蚀刻，延长下托盘的使用寿命。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Substrate trays with different cooling temperatures for each region

The utility model discloses a regional cooling temperature of different substrate tray, tray is concave, concave and concave outer circle; under the center of the tray is provided with a groove, groove groove of the outer ring and the circle and position on the tray center concave, concave concave outer circle and corresponding seal; ring cross section ladder set stepped in the center of the circle and the outer ring groove, groove groove and the sealing ring in the suitable seal groove, the groove of the outer ring from the inside to the outside to slope downward, and a gas storage tank at the bottom of the slope; the middle groove is inclined outwards the downward slope; slope angle and slope angle between the horizontal plane and the horizontal plane of the middle groove is smaller than the outer ring groove. The cooling temperature of each portion of the substrate, so as to ensure the uniformity of etching of a substrate; ensure the sealing between the tray and the substrate, effectively prevent ion etching on the lower tray, prolong the service life of the tray under.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种衬底托盘，具体是一种各区域冷却温度不同的衬底托盘。
技术介绍
在半导体领域为了在衬底表面形成薄膜，或加工想要的图案（干刻），广泛使用到离子进行作业，衬底进行离子处理的主要工艺为等离子化学气相沉积工艺，以及等离子蚀刻工艺。一般来说，制作LED使用的蓝宝石规格为2英寸,4英寸,6英寸等小型衬底。在加工这些小型衬底时，为提高生产效率，加工时一次会进行多片加工，这就需要使用衬底托盘装载多片衬底，并将其运送至设备腔体内。同时起到固定衬底，并有效冷却衬底的作用。但是作为LED上游工序，衬底中的蚀刻工艺是在热传导效率相对偏低的蓝宝石衬底上进行，工艺过程为先使用光刻胶,而后使用图案(干刻)整齐排列的光罩进行曝光工艺处理，部分光刻胶被光刻掉，保留下来的光刻胶形成圆柱形，供后续等离子蚀刻工艺使用。由于光刻胶对热比较敏感，但是等离子的均匀性不佳，在蚀刻过程中中心部位的等离子强度最大，越往外中圈,外圈的等离子强度会降低。冷却温度是影响衬底蚀刻速度的决定性因素，温度越低衬底蚀刻的速度越快，虽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种各区域冷却温度不同的衬底托盘，包括上托盘（10）、下托盘（20）和通气孔（24），上托盘（10）设有中心凹位（13）、凹位中圈（12）和凹位外圈（11），中心凹位（13）置于上托盘（10）的圆心处；凹位中圈（12）置于中心凹位（13）的外侧，并围绕着中心凹位（13）；凹位外圈（11）置于凹位中圈（12）的外侧，并围绕着凹位中圈（12）；下托盘（20）设有的中心凹槽（23）、凹槽中圈（22）和凹槽外圈（21）的位置与上托盘（10）上的中心凹位（13）、凹位中圈（12）和凹位外圈（11）相对应；所述的中心凹槽（23）、凹槽中圈（22）和凹槽外圈（21）内各设有一个通气孔（24），其特征在于，还...

【技术特征摘要】
1.一种各区域冷却温度不同的衬底托盘，包括上托盘（10）、下托盘（20）和通气孔
（24），上托盘（10）设有中心凹位（13）、凹位中圈（12）和凹位外圈（11），中心凹位（13）
置于上托盘（10）的圆心处；凹位中圈（12）置于中心凹位（13）的外侧，并围绕着中心
凹位（13）；凹位外圈（11）置于凹位中圈（12）的外侧，并围绕着凹位中圈（12）；下托
盘（20）设有的中心凹槽（23）、凹槽中圈（22）和凹槽外圈（21）的位置与上托盘（10）
上的中心凹位（13）、凹位中圈（12）和凹位外圈（11）相对应；所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔相玉，
申请(专利权)人：徐州同鑫光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32