静电卡盘和包括其的衬底处理装置制造方法及图纸

一种衬底处理装置包括静电卡盘，该静电卡盘由底座、底座上的电介质板、电介质板中的卡盘电极和电介质板中的在卡盘电极与底座之间的第一加热器部分组成。第一加热器部分包括在第一方向上彼此分开的第一加热器，以及设置在第一加热器与底座之间的各个第一上板电极。第一上板电极在第一方向上彼此分开并且分别连接到第一加热器。

Electrostatic chuck and substrate processing device including the same

A substrate processing apparatus includes an electrostatic chuck, the electrostatic chuck is composed of a base, the base of the dielectric plate, the dielectric plate electrode and dielectric plate chuck in the chuck base between the first electrode and the heater parts. The first heater section includes a first heater that is separated from each other in the first direction, and each first upper plate electrode disposed between the first heater and the base. The first upper plate electrodes are separated from each other in the first direction and are respectively connected to the first heater.

【技术实现步骤摘要】
静电卡盘和包括其的衬底处理装置
描述的示例性实施方式涉及用于制造半导体器件的装置，且更具体地，涉及用于保持衬底的静电卡盘和衬底处理装置。
技术介绍
通常，半导体器件通过应用多个单元工艺被制造。单元工艺可以包括薄膜沉积工艺、光刻工艺和蚀刻工艺。等离子体可以主要用于执行薄膜工艺和蚀刻工艺。等离子体可以在高温下处理衬底。静电卡盘可以通过静电电压保持高温衬底。
技术实现思路
公开的示例性实施方式提供能够将衬底加热为具有极其稳定的或均匀的温度分布的一种静电卡盘和一种衬底处理装置。根据示例性实施方式，一种静电卡盘可以包括：底座；在底座上的电介质板；在电介质板中的卡盘电极；以及在电介质板中的在卡盘电极与底座之间的第一加热器部分。第一加热器部分可以包括：在第一方向上彼此分开的多个第一加热器；以及在所述多个第一加热器与底座之间的多个第一上板电极。所述多个第一上板电极可以在第一方向上彼此分开并且分别连接到所述多个第一加热器。根据示例性实施方式，一种衬底处理装置可以包括：腔室；以及构造为在腔室中保持衬底的静电卡盘。静电卡盘可以包括：底座；在底座上的电介质板；在电介质板中的卡盘电极；以及在电介质板中的在卡盘电极与底座之间的第一加热器部分。第一加热器部分可以包括：在第一方向上彼此分开的多个第一加热器；以及在所述多个第一加热器与底座之间的多个第一上板电极。所述多个第一上板电极可以在第一方向上彼此分开并且分别连接到所述多个第一加热器。附图说明图1示出根据示例性实施方式的衬底处理装置。图2和3示出图1的静电卡盘的一示例。图4示出图2的金属底座的一示例。图5示出图2的下加热器部分的一示例。图6示出图2的上加热器部分的一示例。图7示出图1的静电卡盘的一示例。具体实施方式现在将在下文中参照其中示出各种示例性实施方式的附图更充分地描述本公开。然而，本专利技术可以以许多不同的形式被体现，并且不应被解释为限于在此陈述的示例性实施方式。这些示例性实施方式仅仅是示例，并且不需要在此提供的细节的许多实现和变化是可能的。还应强调的是，本公开提供替代示例的细节，但是这样的替代的列表不是穷举的。此外，各种示例性实施方式之间的细节的任何一致性不应被解释为需要这样的细节—为在此描述的每个特征列出每个可能的变化是不切实际的。权利要求的语言应在确定本专利技术的要求方面被参考。虽然在此描述的附图可以使用诸如“一种实施方式”或“某些实施方式”的语言被引用，但是这些附图及其相应的描述不旨在与另外的附图或描述互相排斥，除非上下文如此指示。因此，来自某些附图的某些方面可以与另外的附图中的某些特征相同，和/或某些附图可以是特定示例性实施方式的不同表现或不同部分。将理解，虽然术语第一、第二、第三等可以在此用于描述各种各样的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语限制。除非上下文另有说明，否则这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开，例如作为命名惯例。因此，以下在说明书的一个部分中讨论的第一元件、组件、区域、层或部分能在说明书的另一个部分中或者在权利要求中被称为第二元件、组件、区域、层或部分，而不背离本专利技术的教导。此外，在某些情况下，即使术语在说明书中不使用“第一”、“第二”等来描述，但它在权利要求中仍然可以被称为“第一”或“第二”以便将不同的要求保护的元件彼此区分开。还将理解，当在本说明书中使用时，术语“包括”和/或“包含”指定阐明的特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在，但不排除一个或更多个另外的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在或添加。将理解，当一元件被称为“连接”或“联接”到另一元件或“在”另一元件“上”时，它能直接连接或联接到所述另一元件或直接在所述另一元件上，或者可以存在中间元件。相反，当一元件被称为“直接连接”或“直接联接”到另一元件，或者被称为“接触”另一元件或“与”另一元件“接触”时，没有中间元件存在。用于描述元件之间的关系的另外的词语应以类似的方式解释(例如，“在……之间”与“直接在……之间”，“相邻”与“直接相邻”等等)。在此描述的实施方式将经由理想的示意图参照俯视图和/或剖面图被描述。因此，示例性视图可以取决于制造技术和/或公差被修改。因此，公开的示例性实施方式不限于视图中显示的那些，而是包括在制造工艺的基础上形成的构造上的修改。因此，图中例示的区域可以具有示意的性质，并且图中示出的区域的形状可以例示元件的区域的具体形状，本专利技术的方面不限于所述具体形状。为了描述的方便，在这里可以使用诸如“在……下面”、“在……下方”、“下部”、“在……上方”、“上部”等的空间关系术语来描述如图中所示的一个元件的或特征的与另外的元件(们)或特征(们)的关系。将理解，除了图中所绘的取向之外，空间关系术语旨在涵盖装置在使用或操作中的不同取向。例如，如果图中的装置被翻转，则被描述为“在”另外的元件或特征“下方”或“下面”的元件将取向为“在”所述另外的元件或特征“上方”。因此，术语“在……下面”能涵盖上方和下方两个方向。装置可以被另行取向(旋转90度或处于另外的取向)，且在此使用的空间关系描述语被相应地解释。此外，如在此使用的诸如“在……上方”和“在……下方”的这些空间关系术语具有其普通的宽泛含义—例如元件A能在元件B上方，即使当向下看这两个元件时它们之间没有重叠(正如天空中的某物通常在地面上某物上方，即使它不是直接在上方)。描述为热连接或热连通的组件被布置使得热将遵循组件之间的路径以允许热从第一组件传递到第二组件。仅仅因为两个组件是相同的设备或封装的部分，并不使它们热连接。一般而言，导热的且直接连接到另外的导热的或发热的组件(或通过中间导热组件连接到那些组件或者紧密靠近以致允许实质上的热传递)的组件将被描述为热连接到那些组件，或与那些组件热连通。相反，其间具有隔热材料的两个组件不被描述为彼此热连接或热连通，所述材料显著地防止所述两个组件之间的热传递或仅允许偶然的热传递。术语“导热的”或“热传导的”不仅仅因为它提供偶然的热传导而应用于特定材料，而是旨在表示通常作为良好热导体被熟知的或者被熟知为具有用于传递热的效用的材料，或者具有与那些材料相似的导热性能的组件。除非另外规定，否则在此使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属的领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。还将理解，术语，诸如通用词典中定义的术语，应解释为具有与在相关技术和/或本申请的背景下的它们的含义相一致的含义，且将不在理想化的或过度形式化的意义上被解释，除非在此明确地如此定义。图1示出根据示例性实施方式的衬底处理装置100。如图1中所示，衬底处理装置100可以包括电感耦合等离子体(ICP)蚀刻装置。或者，衬底处理装置100可以包括电容耦合等离子体(CCP)蚀刻装置、机械气相沉积装置或化学气相沉积装置。在一示例性实施方式中，衬底处理装置100可以包括腔室10、升降单元20、气体供应30、射频(RF)电极单元40、RF电源单元50、静电卡盘60、静电电压源70和温度控制器80。衬底W可以提供在腔室10中。升降单元20可以被构造为移动腔室10和腔室10中的衬底W。升降单元20可以被构造为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静电卡盘，包括：底座；所述底座上的电介质板；所述电介质板中的卡盘电极；以及所述电介质板中的在所述卡盘电极与所述底座之间的第一加热器部分，其中所述第一加热器部分包括：在第一方向上彼此分开的多个第一加热器；以及在所述多个第一加热器与所述底座之间的多个第一上板电极，所述多个第一上板电极在所述第一方向上彼此分开并且分别连接到所述多个第一加热器。

【技术特征摘要】
2016.03.15 KR 10-2016-00310141.一种静电卡盘，包括：底座；所述底座上的电介质板；所述电介质板中的卡盘电极；以及所述电介质板中的在所述卡盘电极与所述底座之间的第一加热器部分，其中所述第一加热器部分包括：在第一方向上彼此分开的多个第一加热器；以及在所述多个第一加热器与所述底座之间的多个第一上板电极，所述多个第一上板电极在所述第一方向上彼此分开并且分别连接到所述多个第一加热器。2.如权利要求1所述的静电卡盘，其中所述第一上板电极的每一个具有弧形和顶点。3.如权利要求2所述的静电卡盘，其中所述第一上板电极的每一个包括：邻近所述顶点的内弧板电极；以及从所述顶点延伸并且设置在所述内弧板电极的至少一部分外部的外弧板电极。4.如权利要求3所述的静电卡盘，其中所述外弧板电极和所述内弧板电极设置在相同的方位方向上。5.如权利要求3所述的静电卡盘，其中所述第一加热器的每一个包括：在所述外弧板电极上的外弧加热器；以及在所述内弧板电极上的内弧加热器。6.如权利要求1所述的静电卡盘，还包括在所述电介质板中的在所述多个第一上板电极与所述底座之间的第二加热器部分，其中所述第二加热器部分包括：在交叉所述第一方向的第二方向上彼此分开的多个第二加热器，所述多个第二加热器的每一个具有比所述多个第一加热器的每一个的面积更大的面积；以及设置在所述多个第二加热器下方并且连接到所述多个第二加热器的多个第一下板电极。7.如权利要求6所述的静电卡盘，其中所述第一方向是方位方向，以及所述多个第一下板电极在所述方位方向上彼此分开并且所述第一下板电极的每一个具有第一方位角，该第一方位角大于所述多个第一上板电极的每一个的第二方位角。8.如权利要求6所述的静电卡盘，其中所述第一加热器部分还包括设置在所述多个第一加热器与所述多个第一上板电极之间的第二上板电极，所述第二上板电极共同连接到所述第一加热器。9.如权利要求8所述的静电卡盘，还包括设置在所述第二加热器部分与所述底座之间的第二下板电极，所述第二下板电极连接到所述第一上板电极。10.如权利要求1所述的静电卡盘，还包括提供在所述底座的中央区域的多个连接器，其中所述第一加热器部分还包括将所述多个连接器连接到所述多个第一上板电极以及将所述多个第一上板电极连接到所述多个第一加热器的多个过孔接触电极。11.一种衬底处理装置，包括：腔室；以及构造为在所述腔室中保持衬底的静电卡盘，其中所述静电卡盘包括：底座；在所述底座上的电介质板；在所述电介质板中的卡盘电极；以及在所述电介质板中的在所述卡盘电极与所述底座之间的第一加热器部分，以及其中所述第一加热器部分包括：在第一方向上彼此分开的多个第一加热器；以及在...

【专利技术属性】
技术研发人员：金珉成，朴明修，成德镛，全允珖，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR