【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】吡唑衍生物的制造方法
本专利技术涉及具有磷酸二酯酶10(以下记为“PDE10”)抑制作用的式(I)所示的4-取代-N-(2-苯基-[1,2,4]三唑并[1,5-a]吡啶-7-基)-1H-吡唑-5-甲酰胺衍生物的制造方法、或该制造方法的中间体。
技术介绍
式(I)所示的4-取代-N-(2-苯基-[1,2,4]三唑并[1,5-a]吡啶-7-基)-1H-吡唑-5-甲酰胺衍生物具有优异的PDE10抑制作用,对于针对PDE10所参与的精神障碍(例如,妄想型、错乱型、紧张型、未分化型、或残留型的精神分裂症等)的各种症状等的治疗和/或预防是有用的,并且,可以期待其作为副作用得以减轻的治疗药物的可能性。作为N-([1,2,4]三唑并[1,5-a]吡啶-7-基)-1H-吡唑-5-甲酰胺衍生物(式(i))的制造方法,国际公开第2012/076430号单行本26页的方案1(专利文献1)中公开了通过羧酸衍生物(式(ii))与7-氨基-[1,2,4]三唑并[1,5-a]吡啶衍生物(式(iii))的缩合反应进行的制造方法。[化学式1]。作为4-杂芳基-N-(2-苯基-[1,2,4]三唑并[1,5-a]吡啶-7-基)-1H-吡唑-5-甲酰胺衍生物(式(I-a))的制造方法,国际公开第2014/133046号单行本184页(专利文献2)中公开了通过羧酸衍生物(式(CA))与7-氨基-[1,2,4]三唑并[1,5-a]吡啶衍生物(式(AM))的缩合反应进行的制造方法。[化学式2]。根据专利文献1,式(iii)的化合物使用O-(2,4,6-三甲苯磺酰基)羟胺(式(v))来制造。[化学式3]。 ...
【技术保护点】
制造下述式(I)的化合物的方法,所述制造方法包括下述阶段:使用选自二甲基亚砜和吡啶中的不参与反应的溶剂,在0℃至溶剂回流的温度下使式(PY‑1)所示的2‑氨基‑4‑碘吡啶衍生物、以及式(IM‑1)所示的化合物、或其盐进行反应,得到式(IM‑2)所示的化合物,接着,在氯化亚铜(CuCl)的铜试剂和选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯中的无机碱的存在下,使用吡啶溶剂,在存在空气的情况下,在0℃至溶剂回流的温度下使式(IM‑2)和式(AD‑1)所示的化合物进行反应,从而在反应体系中形成式(IM‑3)所示的反应中间体后使所述式(AD‑1)所示的化合物进行反应,由此,得到式(I)所示的化合物;[化学式119]
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.30 JP 2014-155539;2014.09.17 JP 2014-189461.制造下述式(I)的化合物的方法,所述制造方法包括下述阶段:使用选自二甲基亚砜和吡啶中的不参与反应的溶剂,在0℃至溶剂回流的温度下使式(PY-1)所示的2-氨基-4-碘吡啶衍生物、以及式(IM-1)所示的化合物、或其盐进行反应,得到式(IM-2)所示的化合物,接着,在氯化亚铜(CuCl)的铜试剂和选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯中的无机碱的存在下,使用吡啶溶剂,在存在空气的情况下,在0℃至溶剂回流的温度下使式(IM-2)和式(AD-1)所示的化合物进行反应,从而在反应体系中形成式(IM-3)所示的反应中间体后使所述式(AD-1)所示的化合物进行反应,由此,得到式(I)所示的化合物;[化学式119][式(I)中,q表示0~3的整数;R2表示任意地选自C1~6烷基、卤代C1~6烷基、羟基C1~6烷基、C1~6烷氧基、和C1~6烷氧基C1~6烷基中的基团;R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团;R4各自独立地表示任意地选自羟基、卤素原子、C1~6烷基、卤代C1~6烷基、C1~6烷氧基、卤代C1~6烷氧基、和C1~6烷氧基C1~6烷基中的基团;Z表示任意地选自式(II)、式(III)、和CONR6R7基(CONR6R7基中,R6和R7各自独立地表示任意地选自氢原子、C1~6烷基(该C1~6烷基任选被1~3个任意地选自杂芳基(该杂芳基任选被1~3个C1~6烷基取代)、和C1~6烷氧基羰基中的基团取代)、卤代C1~6烷基、羟基C1~6烷基、C1~6烷氧基C1~6烷基、C3~8环烷基、和杂环基中的基团)中的基团;[化学式120](式(II)中,p表示0~3的整数;R1各自独立地表示任意地选自卤素原子、氰基、C1~6烷基、C3~8环烷基、卤代C1~6烷基、C2~6烯基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、羟基C1~6烷基、和C2~7烷酰基中的基团;环A基表示任意地选自噻唑-2-基、噻唑-4-基、1-甲基-1H-咪唑-2-基、1,3,4-噻二唑-2-基、1,2,4-噻二唑-5-基、吡啶-2-基、哒嗪-3-基、嘧啶-2-基、嘧啶-4-基、和吡嗪-2-基中的基团);[化学式121](式(III)中,r表示0~3的整数;R5表示任意地选自羟基、卤素原子、C1~6烷基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、卤代C1~6烷基、和氧代基中的基团;环B基表示任意地选自单环式非芳族杂环基、桥连非芳族杂环基、和螺非芳族杂环基中的基团)];[化学式122][式(PY-1)中,R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团];[化学式123][式(IM-1)中,q、R4与权利要求1中的式(I)中的定义相同;RB表示C1~6烷基];[化学式124][式(IM-2)中,q、R3和R4与权利要求1中的式(I)中的定义相同];[化学式125][式(AD-1)中,Z和R2与权利要求1中的式(I)中的定义相同];[化学式126][式(IM-3)中,q、R3和R4与权利要求1中的式(I)中的定义相同]。2.制造下述式(I)的化合物的方法,所述制造方法包括下述阶段:使用选自二甲基亚砜和吡啶中的不参与反应的溶剂,在0℃至溶剂回流的温度下使式(PY-1)所示的2-氨基-4-碘吡啶衍生物、以及式(IM-1)所示的化合物、或其盐进行反应,得到式(IM-2)所示的化合物,接着,在氯化亚铜(CuCl)的铜试剂存在下,使用吡啶溶剂,在存在空气的情况下,在0℃至溶剂回流的温度下使式(IM-2)进行反应,由此,得到式(IM-3)所示的化合物,接着,在氯化亚铜(CuCl)的铜试剂和选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯中的无机碱的存在下,使用吡啶溶剂,在存在空气的情况下,在0℃至溶剂回流的温度下使式(IM-3)和式(AD-1)所示的化合物进行反应,由此,得到式(I)所示的化合物;[化学式127][式(I)中,q表示0~3的整数;R2表示任意地选自C1~6烷基、卤代C1~6烷基、羟基C1~6烷基、C1~6烷氧基、和C1~6烷氧基C1~6烷基中的基团;R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团;R4各自独立地表示任意地选自羟基、卤素原子、C1~6烷基、卤代C1~6烷基、C1~6烷氧基、卤代C1~6烷氧基、和C1~6烷氧基C1~6烷基中的基团;Z表示任意地选自式(II)、式(III)、和CONR6R7基(CONR6R7基中,R6和R7各自独立地表示任意地选自氢原子、C1~6烷基(该C1~6烷基任选被1~3个任意地选自杂芳基(该杂芳基任选被1~3个C1~6烷基取代)、和C1~6烷氧基羰基中的基团取代)、卤代C1~6烷基、羟基C1~6烷基、C1~6烷氧基C1~6烷基、C3~8环烷基、和杂环基中的基团)中的基团;[化学式128](式(II)中,p表示0~3的整数;R1各自独立地表示任意地选自卤素原子、氰基、C1~6烷基、C3~8环烷基、卤代C1~6烷基、C2~6烯基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、羟基C1~6烷基、和C2~7烷酰基中的基团;环A基表示任意地选自噻唑-2-基、噻唑-4-基、1-甲基-1H-咪唑-2-基、1,3,4-噻二唑-2-基、1,2,4-噻二唑-5-基、吡啶-2-基、哒嗪-3-基、嘧啶-2-基、嘧啶-4-基、和吡嗪-2-基中的基团);[化学式129](式(III)中,r表示0~3的整数;R5表示任意地选自羟基、卤素原子、C1~6烷基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、卤代C1~6烷基、和氧代基中的基团;环B基表示任意地选自单环式非芳族杂环基、桥连非芳族杂环基、和螺非芳族杂环基中的基团)];[化学式130][式(PY-1)中,R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团];[化学式13...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤勉,工藤高志,岩间哲男,
申请(专利权)人:持田制药株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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