一种IGBT半桥电路制造技术

技术编号:15162112 阅读:145 留言:0更新日期:2017-04-12 20:29
一种IGBT半桥电路,在外壳底板上真空烧结氮化铝DBC基板,在氮化铝DBC基板上真空烧结IGBT芯片和FWD芯片;氮化铝DBC基板与主电极引线间用真空烧结的连接桥进行电联接,氮化铝DBC基板与IGBT芯片、FWD芯片及辅助电极引线间用超声压焊高纯铝丝进行电联接;壳盖扣设在外壳底板上。其优点是:它采用金属全封装外壳,芯片采用真空烧结工艺,通过氮化铝DBC基板实现同壳体的绝缘,其耐温度循环性能和密封性、散热性能等都比较理想。它体积小、重量轻、大电流、抗冲击、抗振动、散热性好,能耐更高的冷热剧变,可组合为H桥电路与三相全桥电路。适合于在高压、高频、自然条件恶劣的环境下对直流电进行逆变;壳盖与壳体的连接采用平行缝焊工艺,使其能耐更高的温度冲击。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于交直流转换电路
,具体涉及一种IGBT半桥电路。
技术介绍
现在国内进口的IGBT,大多为工业级,一般采用裸芯片灌胶工艺。封装多采用塑封外壳灌胶,其耐温度循环性能及密封性能、散热性能重量等均不能满足用户及标准的要求。同时进口IGBT的采购,也存在限购和停产的风险。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:克服现有技术改进的不足,提供一种体积小、重量轻、大电流、抗冲击、振动、散热性好的IGBT半桥电路。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种IGBT半桥电路,包括一外壳底板、一壳盖,其特征在于:在所述外壳底板上设置一氮化铝DBC基板,在所述氮化铝DBC基板上设置一IGBT芯片和FWD芯片;所述氮化铝DBC基板与主电极引线之间采用真空烧结的一连接桥进行电联接,所述氮化铝DBC基板与所述IGBT芯片和FWD芯片及辅助电极引线之间采用高纯铝丝进行电联接;所述壳盖扣设在所述外壳底板上。优选的,所述氮化铝DBC基板真空烧结在外壳底板上。优选的,所述外壳底板为钼铜材料。优选的,所述IGBT芯片和FWD芯片真空烧结在所述氮化铝DBC基板上。优选的,所述连接桥为一无氧铜导带。优选的,所述高纯铝丝与氮化铝DBC基板、所述IGBT芯片和FWD芯片及辅助电极引线之间采用超声压焊工艺进行焊接。与现有技术相比,本技术的有益效果是:本技术工艺标准采用GJB2438A-2002金属全封装的外壳,芯片采用真空烧结工艺,通过氮化铝DBC基板实现同壳体的绝缘,同时底板材料采用钼铜。耐温度循环性能和密封性、散热性能等都比较理想,满足指标要求,并且此种体积小重量轻,可与原进口产品实现功能互换。本技术体积小、重量轻、大电流、抗冲击、抗振动、散热性好,能耐更高的冷热剧变等,可以组合为H桥电路与三相全桥电路。它适合于在高压、高频、自然条件恶劣的环境下对直流电进行逆变,绝缘电压大于2000V,壳盖与壳体的连接采用平行缝焊工艺,使其能耐更高的温度冲击。附图说明图1是本技术实施例的半剖结构示意图;图2是本技术实施例中去除壳盖后的结构俯视图。图中标记为:1、外壳底板;2、氮化铝DBC基板;3、IGBT芯片和FWD芯片;4、连接桥;5、高纯铝丝;6、壳盖。具体实施方式下面结合附图实施例,对本技术做进一步描述:实施例一如图1、2所示,一种IGBT半桥电路,包括钼铜材料制作的外壳底板1、壳盖6,钼铜的膨胀系数与硅芯片相当,使产品耐更大的冷热剧变;在外壳底板1上真空烧结氮化铝DBC基板2,氮化铝DBC基板2的导热率大,使产品耐更高温度;在氮化铝DBC基板2上真空烧结IGBT芯片和FWD芯片3,氮化铝DBC基板2的膨胀系数与IGBT芯片和FWD芯片3相当,使产品耐更大的冷热剧变;氮化铝DBC基板2与主电极引线之间采用真空烧结的连接桥4进行电联接,连接桥4材料为一根无氧铜导带,使产品电流过载能力显著提高;氮化铝DBC基板2与IGBT芯片和FWD芯片3及辅助电极引线之间采用超声压焊高纯铝丝5进行电联接;壳盖6扣设在外壳底板1上。以上所述,仅是本技术的较佳实施例而已,并非是对本技术作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的
技术实现思路
加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本技术技术方案内容,依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型,仍属于本技术技术方案的保护范围。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种IGBT半桥电路,包括一外壳底板、一壳盖,其特征在于:在所述外壳底板上设置一氮化铝DBC基板,在所述氮化铝DBC基板上设置一IGBT芯片和FWD芯片;所述氮化铝DBC基板与主电极引线之间采用真空烧结的一连接桥进行电联接,所述氮化铝DBC基板与所述IGBT芯片和FWD芯片及辅助电极引线之间采用高纯铝丝进行电联接;所述壳盖扣设在所述外壳底板上。

【技术特征摘要】
1.一种IGBT半桥电路,包括一外壳底板、一壳盖,其特征在于:在所述外壳底板上设置一氮化铝DBC基板,在所述氮化铝DBC基板上设置一IGBT芯片和FWD芯片;所述氮化铝DBC基板与主电极引线之间采用真空烧结的一连接桥进行电联接,所述氮化铝DBC基板与所述IGBT芯片和FWD芯片及辅助电极引线之间采用高纯铝丝进行电联接;所述壳盖扣设在所述外壳底板上。2.根据权利要求1所述的IGBT半桥电路,其特征在于:所述氮化铝DBC基板真空烧结在外壳底板...

【专利技术属性】
技术研发人员:郝秋强施可成宋毅龙李德鹏
申请(专利权)人:青岛航天半导体研究所有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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