System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 磁芯气隙加工方法、电子设备和存储介质技术_技高网

磁芯气隙加工方法、电子设备和存储介质技术

技术编号:40836342 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-01 15:01
一种磁芯气隙加工方法,包括步骤:将磁芯夹装于磨床上,所述磁芯具有磁芯中柱和磁芯边缘,所述磁芯边缘围绕着所述磁芯中柱布置,并且与所述磁芯中柱相互间隔;使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,研磨量≤3微米,研磨后的砂轮保持位置;使用所述砂轮对所述磁芯中柱进行二次研磨,在所述磁芯中柱与磁芯边缘间产生预设的高度差,以使二者之间形成磁芯气隙。本申请提供的加工方法通过一次研磨能够消除磁芯中柱和磁芯边缘出厂时存在的细微误差,使二者高度一致。一次研磨后砂轮保持在研磨后的位置,二次研磨开始时的砂轮则与磁芯中柱处于刚好接触的位置,通过二次研磨就能够准确地在磁芯中柱与磁芯边缘间产生预设的高度差。

【技术实现步骤摘要】

本申请实施例涉及磁芯气隙加工,特别是涉及一种磁芯气隙加工方法、电子设备和存储介质


技术介绍

1、现有的一种铁氧体磁芯包括磁芯中柱和磁芯边缘,磁芯边缘围绕着磁芯中柱布置,并且与磁芯中柱具有间隔,磁芯中柱与磁芯边缘默认等高(供货标准为等高,实际存在误差)。目前对该种铁氧体磁芯加工时,需要将铁氧体磁芯装夹于磨床工作平台上。工人操作磨床上的旋转砂轮接触磁芯中柱,按照预设的砂轮进给量将磁芯中柱向下磨削至预设高度,进而在磁芯边缘与磁芯中柱间产生预设的高度差(即形成磁芯气隙)。

2、但是,现有技术首先需要将砂轮调整到与磁芯中柱刚好发生接触的位置(即砂轮初始位置),该步骤受工人的主观意识影响很大(依赖于操作者的观察力,经验等),通常情况下是过度接触而非刚好接触,会造成即便后续砂轮进给量非常精确,也导致磁芯中柱被磨削至的高度(或称研磨量)超过预设,并且会导致不同批次的铁氧体磁芯的磁芯气隙一致性差。


技术实现思路

1、本专利技术实施例提供了一种磁芯气隙加工方法、磁芯气隙加工模型训练方法、装置和电子设备,用于至少解决上述技术问题之一。

2、第一方面,本专利技术实施例提供了一种磁芯气隙加工方法,包括步骤:

3、将磁芯夹装于磨床上,所述磁芯具有磁芯中柱和磁芯边缘,所述磁芯边缘围绕着所述磁芯中柱布置,并且与所述磁芯中柱相互间隔;

4、使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,研磨量≤3微米,研磨后的砂轮保持位置;

5、使用所述砂轮对所述磁芯中柱进行二次研磨,在所述磁芯中柱与磁芯边缘间产生预设的高度差,以使二者之间形成磁芯气隙。

6、在本专利技术的一些实施方式中,所述砂轮的直径小于所述磁芯边缘的直径,以使其能够单独对所述磁芯中柱进行二次研磨。

7、在本专利技术的一些实施方式中,所述砂轮直径大于所述磁芯中柱的直径,以使其能够与所述磁芯中柱全面接触。

8、在本专利技术的一些实施方式中,所述使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,包括:移动所述砂轮对所述磁芯边缘和磁芯中柱进行研磨,直至将所述磁芯边缘和所述磁芯中柱研磨至预设高度。

9、在本专利技术的一些实施方式中,所述使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,包括:移动所述磁芯使所述砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行研磨,直至将所述磁芯边缘和所述磁芯中柱研磨至预设高度。

10、在本专利技术的一些实施方式中,所述使用所述砂轮对所述磁芯中柱进行二次研磨,包括:水平移动所述砂轮,所述砂轮与所述磁芯中柱对齐后将所述磁芯中柱研磨至与所述磁芯边缘形成预设的高度差。

11、在本专利技术的一些实施方式中,所述使用所述砂轮将所述磁芯中柱进行二次研磨,包括:水平移动所述磁芯,所述磁芯中柱与所述砂轮对齐后将所述磁芯中柱研磨至与所述磁芯边缘形成预设的高度差。

12、第二方面,本专利技术实施例提供一种电子设备,其包括:至少一个处理器,以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器,其中,所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令,所述指令被所述至少一个处理器执行,以使所述至少一个处理器能够执行本专利技术上述任一项磁芯气隙加工方法。

13、第三方面,本专利技术实施例提供一种存储介质,所述存储介质中存储有一个或多个包括执行指令的程序,所述执行指令能够被电子设备(包括但不限于计算机,服务器,或者网络设备等)读取并执行,以用于执行本专利技术上述任一项磁芯气隙加工方法。

14、第四方面,本专利技术实施例还提供一种计算机程序产品,所述计算机程序产品包括存储在存储介质上的计算机程序,所述计算机程序包括程序指令,当所述程序指令被计算机执行时,使所述计算机执行上述任一项磁芯气隙加工方法。

15、本专利技术提供的磁芯气隙加工方法通过一次研磨能够消除磁芯中柱和磁芯边缘出厂时存在的细微误差,使二者高度一致。并且,一次研磨后砂轮保持在研磨后的位置,二次研磨开始时的砂轮则与磁芯中柱处于刚好接触的位置,通过二次研磨就能够准确地在磁芯中柱与磁芯边缘间产生预设的高度差(即准确地形成磁芯气隙)。该方法仅对磁芯采用一次夹装,能够有效避免多次夹装、拆卸带来的误差,并且采用同一个砂轮进行二次研磨,也避免了更换砂轮带来的误差,从而可以提高磁芯气隙的形成精度。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种磁芯气隙加工方法,其特征在于,包括步骤:

2.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其特征在于:

3.根据权利要求2所述的一种磁芯气隙加工方法,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,包括:

5.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,包括:

6.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用所述砂轮对所述磁芯中柱进行二次研磨,包括:

7.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用所述砂轮将所述磁芯中柱进行二次研磨,包括:

8.一种电子设备,其包括:至少一个处理器,以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器,其中,所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令,所述指令被所述至少一个处理器执行,以使所述至少一个处理器能够执行权利要求1~7中任一项所述方法的步骤。

9.一种存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述程序被处理器执行时实现权利要求1~7中任一项所述方法的步骤。

...

【技术特征摘要】

1.一种磁芯气隙加工方法,其特征在于,包括步骤:

2.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其特征在于:

3.根据权利要求2所述的一种磁芯气隙加工方法,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,包括:

5.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用磨床砂轮对所述磁芯边缘和所述磁芯中柱进行一次研磨,包括:

6.根据权利要求1所述的一种磁芯气隙加工方法,其中,所述使用所述砂轮对...

【专利技术属性】
技术研发人员:王振华韩成章杨斌
申请(专利权)人:青岛航天半导体研究所有限公司
类型:发明
国别省市:

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