一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座，所述安装座上设有固定架，所述固定架上设有定位管，所述固定架的两侧设有液压升降装置，所述液压升降装置的上方设有移动座，所述移动座与液压升降装置的液压杆连接，所述移动座上设有放置架，所述放置架的上方设有转动电机，所述转动电机的传动轴连接转动杆，所述转动杆贯穿移动座设置在定位管内，且所述转动杆的一端穿过安装座与掩模库连接，所述掩模库内设有基片架。本实用新型专利技术可实现掩模库和基片架的上下移动和旋转，实现蒸发距离的调整及基片的交接取放，结构简单，使用方便，基片制备效率高。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜设备
，尤其涉及一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件。
技术介绍
有机发光器件或称有机电致发光器件或有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode：OLED)是指有机半导体材料和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入与复合导致发光的现象。OLED是由几种不同的有机夹层置于两个电极之间而构成总厚度约为几百纳米的多层膜结构，它要求其中至少一个电极对可见光透明。在OLED阴极金属(cathode)与阳极(anode)之间，广泛应用的组件结构一般可分为四层。从靠近阳极一侧依次为空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)。常用的阳极材料ITO（铟锡氧化物）是透明的，以便发光层所发射的光能向外辐射。当OLED器件的两极之间加电压时，电子就会从阴极注入到电子传输层，同时空穴从阳极注入到空穴传输层。电子和空穴分别经过ETL和HTL传输到发光层，并在发光层相遇，形成电子-空穴对(激子)在发光层复合，所产生的复合能以光子的形式释放而发出可见光。OLED以其发光亮度高、驱动电压低、易于实现大屏幕显示，并能在柔性衬底上制备，而且兼有环保、无污染、高效、节能、重量轻、超薄、柔软、明亮、少阴影、使用安全方便、可智能化等多种潜在优点，符合未来社会的发展需要。所以其未来应用广泛，开发前景诱人，是现代显示技术和照明灯具的重要发展方向，因而OLED成为当今科学家和产业界关注的焦点之一。现有的有机薄膜沉积系统一次只能制备几片或十几片基片，工作效率较低，并且蒸发距离难以进行调整。r>
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座，所述安装座上设有固定架，所述固定架上设有定位管，所述固定架的两侧设有液压升降装置，所述液压升降装置的上方设有移动座，所述移动座与液压升降装置的液压杆连接，所述移动座上设有放置架，所述放置架的上方设有转动电机，所述转动电机的传动轴连接转动杆，所述转动杆贯穿移动座设置在定位管内，且所述转动杆的一端穿过安装座与掩模库连接，所述掩模库内设有基片架。优选的，所述定位管上设有柱塞旋钮。优选的，所述固定架设置在安装座的中心处，且所述液压升降装置相对固定架对称设置。优选的，所述转动电机与放置架之间设有减震垫。本技术中，转动电机通过转动杆带动掩模库和基片架实现连续旋转，转动前需将用于定位的柱塞旋钮拔出，使其与转动杆脱开，在固定架的两侧设有液压升降装置，液压升降装置的上方设有移动座，移动座与液压升降装置的液压杆连接，可通过液压升降装置带动移动座上下移动，从而实现掩模库和基片架的上下移动，实现蒸发距离的调整及基片的交接取放，结构简单，使用方便，基片制备效率高。附图说明图1为本技术提出的一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件的结构示意图。图中：1安装座、2定位管、3柱塞旋钮、4固定架、5液压升降装置、6移动座、7放置架、8转动电机、9转动杆、10掩模库、11基片架。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。参照图1，一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座1，安装座1上设有固定架4，固定架4上设有定位管2，固定架4的两侧设有液压升降装置5，液压升降装置5的上方设有移动座6，移动座6与液压升降装置5的液压杆连接，移动座6上设有放置架7，放置架7的上方设有转动电机8，转动电机8的传动轴连接转动杆9，转动杆9贯穿移动座6设置在定位管2内，且转动杆9的一端穿过安装座1与掩模库10连接，掩模库10内设有基片架11。定位管2上设有柱塞旋钮3，固定架4设置在安装座1的中心处，且液压升降装置5相对固定架4对称设置，转动电机8与放置架7之间设有减震垫。工作时，转动电机8通过转动杆9带动掩模库10和基片架11实现连续旋转，转动前需将用于定位的柱塞旋钮3拔出，使其与转动杆9脱开，在固定架4的两侧设有液压升降装置5，液压升降装置5的上方设有移动座6，移动座6与液压升降装置5的液压杆连接，可通过液压升降装置5带动移动座6上下移动，从而实现掩模库10和基片架11的上下移动，实现蒸发距离的调整及基片的交接取放，结构简单，使用方便，基片制备效率高。以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座（1），其特征在于，所述安装座（1）上设有固定架（4），所述固定架（4）上设有定位管（2），所述固定架（4）的两侧设有液压升降装置（5），所述液压升降装置（5）的上方设有移动座（6），所述移动座（6）与液压升降装置（5）的液压杆连接，所述移动座（6）上设有放置架（7），所述放置架（7）的上方设有转动电机（8），所述转动电机（8）的传动轴连接转动杆（9），所述转动杆（9）贯穿移动座（6）设置在定位管（2）内，且所述转动杆（9）的一端穿过安装座（1）与掩模库（10）连接，所述掩模库（10）内设有基片架（11）。

【技术特征摘要】
1.一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座（1），其特征在于，所述安装座（1）上设有固定架（4），所述固定架（4）上设有定位管（2），所述固定架（4）的两侧设有液压升降装置（5），所述液压升降装置（5）的上方设有移动座（6），所述移动座（6）与液压升降装置（5）的液压杆连接，所述移动座（6）上设有放置架（7），所述放置架（7）的上方设有转动电机（8），所述转动电机（8）的传动轴连接转动杆（9），所述转动杆（9）贯穿移动座（6）设置在定位管（2）内，且所述转动杆（9）的一端穿过安装座（1）与掩模库（...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕正红，王登科，江楠，何守杰，
申请(专利权)人：云南大学，
类型：新型
国别省市：云南;53