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本实用新型公开了一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座，所述安装座上设有固定架，所述固定架上设有定位管，所述固定架的两侧设有液压升降装置，所述液压升降装置的上方设有移动座，所述移动座与液压升降装置的液压杆连接，所述移动座...
该专利属于云南大学所有，仅供学习研究参考，未经过云南大学授权不得商用。

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