一种在高温、真空下连续生长薄膜的方法技术

本发明专利技术属于薄膜生长或薄膜制备领域，更确切地说涉及在衬底上进行沉积或喷镀等方法进行薄膜制备的领域以及类似装置。本发明专利技术提供了一种在高温、真空下连续生长薄膜的方法，解决了单腔体生长薄膜时遇到的抽放气时间长、升降温速度慢等延长生长周期的问题。每当有一批薄膜从三腔式流水线的终端流出时，就有一批衬底从流水线的始端流入进行薄膜生长，因此避免了重复抽放气、升降温的时间损耗和能耗。此外，本发明专利技术使用的不锈钢腔体易于扩大尺寸，可以容纳大尺寸的、多层的衬底，从而极大地提高了单批次生长的薄膜的产量。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在高温、真空下连续生长薄膜的方法，其特点在于：通过构造连续真空腔体来分别承担预备、生长、降温的功能，避免了重复的升降压和升降温过程，大大缩短了薄膜生长周期；通过设计多层承载衬底的货架，提高了单批次的产量，克服了薄膜生长工艺中普遍存在的缺陷。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董国材，张祥，刘进行，王雷，李金龙，
申请(专利权)人：常州碳维纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32