显示基板及其制造方法、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板，所述显示基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的导电图形层，所述导电图形层包括设置在所述衬底基板上的低反射图形层和形成在所述低反射图形层上的金属图形层，所述低反射图形层的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物通过对所述金属图形层的金属材料进行氧化获得。衬底基板本发明专利技术还提供一种显示面板、一种显示装置，以及所述基板的制造方法。当外界的光线穿过透明衬底基板照射在导电图形层的上表面上时一部分光会被低反射图形层吸收，没被吸收的光也会形成漫反射，散射向不同的方向，不会形成镜面反射，从而可以降低因外部环境光的反射而对使用本发明专利技术所提供的显示装置的出射光的影响，获得较好的显示效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，具体地，涉及一种显示基板、该基板的制造方法、包括所述显示基板的显示面板和包括该显示面板的显示装置。
技术介绍
一些显示装置的基板包括衬底基板100和直接设置在该衬底基板100上的导电图形层200，该导电图形层200由金属材料制成，如图1所示。在一些具体的应用场合中，设置在衬底基板上的金属层位于显示装置的最外侧，例如，在触控显示装置中，导电图形层包括触控感应电极和触控驱动电极。如图1中所示，当包括所述基板的触控显示装置进行显示时，显示面板发出的光线穿过衬底基板出射。但是，外部环境光(图1中的实线箭头)在所述基板的上表面形成的镜面反光现象比较严重，当外部环境光较强时，甚至会影响到显示装置的出射光(图1中的虚线箭头)，进而影响到显示装置的正常显示。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示基板，该基板不会因金属层反光而影响显示装置的显示效果。本专利技术还提供一种包括所述基板的显示装置和所述基板的制造方法。为了实现上述目的，作为本专利技术的一个方面，提供一种显示基板，所述显示基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的导电图形层，其中，所述导电图形层包括设置在所述衬底基板上的低反射图形层和形成在所述低反射图形层上的金属图形层，所述低反射图形层的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物通过对所述金属图形层的金属材料进行氧化获得。优选地，所述金属图形层的材料为钼、钛、钼合金和钛合金中的任意一者或任意几者。优选地，所述低反射图形层的材料还包括所述金属图形层的材料形成的金属颗粒。优选地，所述低反射图形层的厚度为至优选地，所述显示基板为阵列基板或触控基板。作为本专利技术的另一个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其中，所显示基板为本专利技术所提供的上述显示基板。优选地，所述显示基板为阵列基板，所述显示面板还包括对盒基板、背光源和液晶层，所述对盒基板位于所述背光源和所述液晶层之间，所述液晶层设置在所述对盒基板和所述阵列基板之间。优选地，所述显示基板为触控基板，所述显示面板还包括显示屏，所述触控基板设置在所述显示屏的出光面上，且所述金属图形层朝向所述显示屏，所述低反射图形层朝向所述衬底基板。作为本专利技术的还一个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括显示基板，其中，所述显示基板为本专利技术所提供的上述显示基板。作为本专利技术的还一个方面，提供一种制造本专利技术所提供的上述显示基板的制造方法，其中，所述制造方法包括：提供衬底基板；溅射形成低反射层，溅射靶材为金属，工艺气体包括氧气；停止通入氧气，继续溅射形成金属层；对形成为一体的低反射层和金属层进行图形化，以获得所述导电图形层。优选地，在溅射形成低反射层的步骤中，工艺气体还包括不与溅射靶材反应的惰性气体。优选地，所述惰性气体为氩气。优选地，所述靶材的材料为钼、钛、钼合金和钛合金中的任意一者或任意几者，在形成低反射层的步骤中，氩气的流速为500sccm至700sccm，氧气的流速为600sccm至800sccm。优选地，所述低反射层的厚度在至之间。在本申请所提供的技术方案中，与衬底基板直接接触的是低反射图形层，由于低反射图形层包括制成金属图形层的材料的氧化物，因此，低反射图形层的表面并不光滑，并且形成有一些诸如空隙之类的缺陷，从而在导电图形层的上表面变得相对粗糙。当外界的光线穿过衬底基板照射在导电图形层的上表面上时，一部分光被低反射图形层吸收，没被吸收的光会形成漫反射，散射向不同的方向，不会形成镜面反射，从而可以降低因外部环境光的反射而对使用本专利技术所提供的显示装置的出射光，获得较好的显示效果。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1是现有的基板的示意图；图2是本专利技术所提供的基板的示意图；图3是本专利技术所提供的显示装置的一种实施方式；图4是本专利技术所提供的显示装置的另一种实施方式；图5是本专利技术所提供的制造方法的流程图。附图标记说明100：衬底基板200：导电图形层210：低反射图形层220：金属图形层300：对盒基板400：背光源500：液晶层600：显示屏具体实施方式以下结合附图对本专利技术的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本专利技术，并不用于限制本专利技术。在本专利技术中，方位词“上”、“下”通常是指图2中的“上”、“下”方向。作为本专利技术的一个方面，提供一种显示基板，如图2所示，所述显示基板包括衬底基板100和设置在该衬底基板100上的导电图形层200，其中，导电图形层200包括设置在衬底基板100上的低反射图形层210和形成在该低反射图形层210上的金属图形层220，低反射图形层210的材料包括金属氧化物，该金属氧化物为通过对金属图形层220的金属材料进行氧化获得。例如，当金属图形层220的材料为Mo时，低反射图形层210的材料则可包括Mo的氧化物，当金属图形层220的材料为Cu时，低反射图形层210的材料则可以包括Cu的氧化物。在本专利技术中，由于所述显示基板是用于显示面板中的，因此，衬底基板100可以由透明材料制成，以形成为显示面板的出光面。除此之外，外界的环境光也是直接照射在衬底基板100的表面。在本申请所提供的技术方案中，与衬底基板100直接接触的是低反射图形层210，由于低反射图形层210包括金属氧化物，因此，低反射图形层210的表面并不光滑，例如会有一些空隙等形状的存在，从而使得导电图形层200的朝向外部环境的表面(即，图2中的上表面)变得相对粗糙。当外界的光线穿过衬底基板100照射在导电图形层200的上表面上时，一部分光被低反射图形层210吸收，没被吸收的光形成漫反射，散射向不同的方向，不会形成镜面反射，从而可以降低因外部环境光的反射而对使用本专利技术所提供的显示装置的出射光造成不良的影响，以获得较好的显示效果。在本专利技术中，对所述显示基板的具体结构并没有特殊的限制，例如，所述基板可以是阵列基板，也可以是触控基板。下文中将对这两种情况进行详细的解释，这里先不赘述。在本专利技术中，对金属图形层220的具体材料并不做特殊的限制，例如，金属图形层220的材料为可以钼、钛、钼合金和钛合金中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，所述显示基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的导电图形层，其特征在于，所述导电图形层包括设置在所述衬底基板上的低反射图形层和形成在所述低反射图形层上的金属图形层，所述低反射图形层的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物通过对所述金属图形层的金属材料进行氧化获得。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，所述显示基板包括衬底基板和设置在所述衬
底基板上的导电图形层，其特征在于，所述导电图形层包括设置在所
述衬底基板上的低反射图形层和形成在所述低反射图形层上的金属
图形层，所述低反射图形层的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物
通过对所述金属图形层的金属材料进行氧化获得。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属图
形层的材料为钼、钛、钼合金和钛合金中的任意一者或任意几者。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述低反射
图形层的材料还包括所述金属图形层的材料形成的金属颗粒。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的显示基板，其特征在
于，所述低反射图形层的厚度为至5.根据权利要求1至3中任意一项所述的显示基板，其特征在
于，所述显示基板为阵列基板或触控基板。
6.一种显示面板，所述显示面板包括显示基板，其特征在于，
所显示基板为权利要求1至5中任意一项所述的显示基板。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示基
板为阵列基板，所述显示面板还包括对盒基板、背光源和液晶层，所
述对盒基板位于所述背光源和所述液晶层之间，所述液晶层设置在所
述对盒基板和所述阵列基板之间。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示基
板为触控...

【专利技术属性】
技术研发人员：李梁梁，郭会斌，王守坤，冯玉春，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11