本发明专利技术的课题在于提供对曝光的敏感度充分、可通过固化而提供透过率充分的固化物的感光性组合物、使用其的图案形成方法、使用其形成的固化物、和具有该固化物的显示装置。本发明专利技术涉及的感光性组合物含有式(1)表示的光聚合引发剂(A1)、及具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)。式(1)中，R1为氢原子或一价有机基团，R2及R3各自为可具有取代基的链状烷基、可具有取代基的环状有机基团、或氢原子，R2与R3可相互键合而形成环，R4为具有特定环状结构的有机基团，R5为氢原子、可具有取代基的碳原子数1～11的烷基、或可具有取代基的芳基，n为0～4的整数。其中，光聚合引发剂(A1)不具有硝基。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及感光性组合物、使用该感光性组合物的图案形成方法、使用该感光性组合物而形成的固化物、以及具有该固化物的显示装置。
技术介绍
对于液晶显示装置这样的显示装置而言，需要绝缘膜、间隔物(spacer)这样的材料高效地使从背光源这样的光源发出的光透过。因此，为了形成绝缘膜、间隔物的图案，可使用通过曝光而提供透明的固化膜的感光性组合物。通过将这样的感光性组合物选择性地曝光，可形成透明的固化膜的图案。作为可形成透明的固化膜的感光性组合物，例如，提出了含有树脂、聚合性化合物、特定结构的聚合引发剂、和溶剂的组合物(专利文献1)。具体而言，在专利文献1的实施例中，公开了下述感光性组合物，所述感光性组合物含有：甲基丙烯酸与具有脂环式环氧基的丙烯酸酯的共聚物，二季戊四醇六丙烯酸酯，下述任一式表示的聚合引发剂，和包含3-甲氧基-1-丁醇、丙二醇单甲基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、及乙酸3-甲氧基丁酯的混合溶剂。感光性组合物通过以下方式固化：作为所述感光性组合物成分的一部分而被含有的光聚合引发剂通过曝光产生自由基，该自由基使感光性组合物中含有的聚合性的化合物发生聚合，由此进行固化。因此，感光性组合物的敏感度受其中含有的光聚合引发剂种类的影响，这是已知的。作为可使得感光性组合物的敏感度良好的光聚合引发剂，专利文献2中提出了具有环烷基的肟酯化合物。在专利文献2中记载的实施例中，具体公开了下述化学式(a)及(b)表示的化合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-58728号公报专利文献2：中国专利申请公开公报第101508744号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，专利文献1或专利文献2中记载的感光性组合物对曝光的敏感度并不充分，使用该感光性组合物形成的固化膜的透过率不充分。本专利技术是鉴于上述课题而完成的，目的在于提供一种对曝光的敏感度充分、可通过固化而提供透过率充分的固化物的感光性组合物、使用该感光性组合物的图案形成方法、使用该感光性组合物而形成的固化物、和具有该固化物的显示装置。用于解决课题的手段本申请的专利技术人发现，通过在含有光聚合引发剂的感光性组合物中，使用具有特定的结构的光聚合引发剂(A1)、和具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)作为该光聚合引发剂，可解决上述课题，从而完成了本专利技术。本专利技术的第一方式是一种感光性组合物，其含有：下述式(1)表示的光聚合引发剂(A1)、及具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)。(R1为氢原子或一价有机基团，R2及R3各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子，R2与R3可以相互键合而形成环，R4为下述式(R4-1)或(R4-2)表示的基团，R5为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1～11的烷基、或可以具有取代基的芳基，n为0～4的整数。其中，式(1)表示的光聚合引发剂不具有硝基。)(式(R4-1)及(R4-2)中，R7及R8各自为一价有机基团，p为0～4的整数，R7及R8存在于苯环上的相邻的位置时，R7与R8可以相互键合而形成环，q为1～8的整数，r为1～5的整数，s为0～(r+3)的整数，R9为一价有机基团。)本专利技术的第二方式是一种图案形成方法，其包括以下工序：使用第一方式涉及的感光性组合物形成涂膜或成型体，向该涂膜或成型体以规定图案状照射电磁波，进行显影。本专利技术的第三方式是一种固化物，其是使用第一方式涉及的感光性组合物而形成的。本专利技术的第四方式是一种显示装置，其具有第三方式涉及的固化物。专利技术的效果通过本专利技术，能够提供对曝光的敏感度充分、可通过固化而提供透过率充分的固化物的感光性组合物、使用该感光性组合物的图案形成方法、使用该感光性组合物而形成的固化物、和具有该固化物的显示装置。具体实施方式《感光性组合物》本专利技术涉及的感光性组合物含有上述式(1)表示的光聚合引发剂(A1)、及具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)。以下，对感光性组合物中含有的各成分进行说明。＜光聚合引发剂(A)＞根据光聚合引发剂的种类，存在含有光聚合引发剂的感光性组合物的透过率降低的情况，以及使用该感光性组合物形成、且实施了后烘的图案的透过率降低的情况。另外，根据光聚合引发剂的种类，还存在含有光聚合引发剂的感光性组合物的透过率降低的情况。然而，使用含有上述式(1)表示的光聚合引发剂(A1)(以下也称为“光聚合引发剂(A1)”或“(A1)成分”。)的感光性组合物时，不容易发生因加热而导致的图案透过率的降低。同时，也有不容易发生感光性组合物透过率的降低的情况。另外，光聚合引发剂(A1)对光具有较高的敏感度。另一方面，具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)(以下也称为“光聚合引发剂(A2)”或“(A2)成分”。)对光具有高敏感度。对于本专利技术涉及的感光性组合物而言，通过光聚合引发剂(A1)与光聚合引发剂(A2)的组合，从而对光的敏感度优异，并且可提供维持高透过率的固化物。因此，通过使用本专利技术的感光性组合物，能以低曝光量形成所期望的形状的图案，形成的图案具有高透过率。另外，通过使用敏感度优异的本专利技术涉及的感光性组合物，可抑制图案形成时的图案剥落，并抑制形成线图案(linepattern)时在图案的边缘产生的起伏。[式(1)表示的光聚合引发剂(A1)]本专利技术涉及的感光性组合物含有上述式(1)表示的光聚合引发剂(A1)。光聚合引发剂(A1)可单独使用或组合2种以上而使用。式(1)中，R1为氢原子或一价有机基团。R1在式(1)中的芴环上键合于与-CO-所示的基团所键合的六元芳香环不同的六元芳香环。只要满足上述条件，则在式(1)中，R1相对于芴环的键合位置没有特别限制。光聚合引发剂(A1)具有1个以上的R1时，从容易合成光聚合引发剂(A1)等方面考虑，优选地，1个以上的R1中的1个R1键合于芴环中的2位。R1为多个时，多个R1可以相同也可以不同。R1为一价有机基团时，R1在不妨碍本专利技术的目的的范围内没有特别限制，可从各种一价有机基团中适当选择。作为R1为一价有机基团时的优选例，可举出烷基、烷氧基、环烷基、环烷氧基、饱和脂肪族酰基、烷氧基羰基、饱和脂肪族酰基氧基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的苯氧基、可以具有取代基的苯甲酰基、可以具有取代基的苯氧基羰基、可以具有取代基的苯甲酰基氧基、可以具有取代基的苯基烷基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的萘氧基、可以具有取代基的萘甲酰基、可以具有取代基的萘氧基羰基、可以具有取代基的萘甲酰基氧基、可以具有取代基的萘基烷基、可以具有取代基的杂环基(heterocyclyl)、可以具有取代基的杂环基羰基、被1个或2个有机基团取代的氨基、吗啉-1-基、及哌嗪-1-基等。R1为烷基时，烷基的碳原子数优选为1～20，更优选为1～6。另外，R1为烷基时，可以为直链，也可以为支链。作为R1为烷基时的具体例，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、异辛基、仲辛基、叔辛基、正壬基、异壬基、正癸基、及异癸基等。另外，R1为烷基时，烷基可在碳链中包含醚键(-O-)。作为在碳链中具有醚键的烷基的例子，可举出甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧本文档来自技高网...
【技术保护点】
感光性组合物，其含有：下述式(1)表示的光聚合引发剂(A1)、及具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)，式(1)中，R1为氢原子或一价有机基团，R2及R3各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子，R2与R3可以相互键合而形成环，R4为下述式(R4‑1)或(R4‑2)表示的基团，R5为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1～11的烷基、或可以具有取代基的芳基，n为0～4的整数，其中，式(1)表示的光聚合引发剂不具有硝基，式(R4‑1)及(R4‑2)中，R7及R8各自为一价有机基团，p为0～4的整数，R7及R8存在于苯环上的相邻的位置时，R7与R8可以相互键合而形成环，q为1～8的整数，r为1～5的整数，s为0～(r+3)的整数，R9为一价有机基团。
【技术特征摘要】
2015.08.27 JP 2015-168175;2016.08.25 JP 2016-164981.感光性组合物，其含有：下述式(1)表示的光聚合引发剂(A1)、及具有键合有硝基的芳香环骨架的光聚合引发剂(A2)，式(1)中，R1为氢原子或一价有机基团，R2及R3各自为可以具有取代基的链状烷基、可以具有取代基的环状有机基团、或氢原子，R2与R3可以相互键合而形成环，R4为下述式(R4-1)或(R4-2)表示的基团，R5为氢原子、可以具有取代基的碳原子数1～11的烷基、或可以具有取代基的芳基，n为0～4的整数，其中，式(1)表示的光聚合引发剂不具有硝基，式(R4-1)及(R4-2)中，R7及R8各自为一价有机基团，p为0～4的整数，R7及R8存在于苯环上的相邻的位置时，R7与R8可以相互键合而形成环，q为1～8的整数，r为1～5的整数，s为0～...
【专利技术属性】
技术研发人员：大内康秀，染谷和也，引田二郎，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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