显示基板的制备方法技术

本发明专利技术提供一种显示基板的制备方法，属于显示基板制备技术领域，其可至少部分解决现有显示基板中的平坦化层平整度不足、制备工艺复杂且成本高的问题。本发明专利技术的显示基板的制备方法包括：在具有第一显示结构的基底上形成可固化材料层；用纳米压印模具对所述可固化材料层进行压印，使所述可固化材料层平坦化，并在所述可固化材料层中形成与第一显示结构连通的过孔；使所述可固化材料层固化，形成平坦化层；形成第二显示结构，第二显示结构通过所述过孔与第一显示结构连接。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示基板制备
，具体涉及一种显示基板的制备方法。
技术介绍
如图1所示，在有机发光二极管(OLED)阵列基板中，基底9上设有栅线、数据线、薄膜晶体管等显示结构，由于显示结构仅位于部分位置，且不同显示结构的高度(厚度)不同，故它们会造成段差。为消除段差，需要用平坦化层1覆盖这些显示结构，平坦化层1中有通过光刻工艺形成的过孔11。之后，再于平坦化层1上继续形成有机发光二极管的阳极、发光层、阴极等(图中未示出)，其中阳极通过以上过孔11与薄膜晶体管的漏极2连接。由于喷墨打印工艺(IJP，InkJetPrint)具有成本低、工艺简单、精度高等优点，故有机发光二极管的发光层可通过喷墨打印工艺制备。但是，如图1所示，现有的平坦化层1消除段差的能力不足，故其表面仍然有起伏，平整度不能满足喷墨打印工艺的要求。同时，平坦化层1中的过孔11要通过单独的光刻工艺形成，其需要使用掩膜版，故工艺复杂且成本高。
技术实现思路
本专利技术至少部分解决现有显示基板中的平坦化层平整度不足、制备工艺复杂且成本高的问题，提供一种平坦化层平整度高、制备工艺简单、成本低的显示基板的制备方法。解决本专利技术技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在具有第一显示结构的基底上形成可固化材料层；用纳米压印模具对所述可固化材料层进行压印，使所述可固化材料层平坦化，并在所述可固化材料层中形成与第一显示结构连通的过孔；使所述可固化材料层固化，形成平坦化层；形成第二显示结构，第二显示结构通过所述过孔与第一显示结构连接。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在具有第一显示结构的基底上形成可固化材料层；用纳米压印模具对所述可固化材料层进行压印，使所述可固化材料层平坦化，并在所述可固化材料层中形成与第一显示结构连通的过孔；使所述可固化材料层固化，形成平坦化层；形成第二显示结构，第二显示结构通过所述过孔与第一显示结构连接。2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述第一显示结构包括薄膜晶体管。3.根据权利要2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板为有机发光二极管阵列基板；所述第二显示结构包括有机发光二极管的阳极或阴极，所述阳极或阴极通过过孔与薄膜晶体管的漏极连接。4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述形成第二显示结构的步骤后，还包括：通过喷墨打印工艺形成所述有...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，宋振，谢蒂旎，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11