彩膜基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，属于彩膜基板技术领域，其可解决现有的顶发射有机发光二极管显示面板不能有效避免漏光的问题。本发明专利技术的彩膜基板包括：彩膜基板，其包括：基底；设于所述基底一侧的彩色滤光膜；黑矩阵，位于所述彩色滤光膜背离基底的一侧，且所述黑矩阵与所述彩色滤光膜在所述基底上的投影有至少部分重叠。

Color film substrate and preparation method thereof, display panel

The invention provides a color film substrate and preparation method thereof, belonging to the technical field of display panel, color film substrate, which can solve the existing top emitting organic light-emitting diode display panel can effectively avoid the problem of light leakage. Color film substrate of the invention includes a color film substrate, which comprises: a substrate; a color filter film is arranged on the side of the substrate; the black matrix, the color filter film from one side of a substrate, the projection and the black matrix and the color filter film on the substrate is at least partially overlapped.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于彩膜基板
，具体涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
如图1所示，在顶发射有机发光二极管(OLED)显示面板中，阵列基板2的每个像素中设有作为发光器件的有机发光二极管21，用于向与阵列基板2对盒的彩膜基板1发白光；各像素之间则被像素界定层(PDL)隔开。彩膜基板1的各像素中设有位于基底19上的相应颜色的彩色滤光膜(CF,ColorFilter)11，以使通过的光成为所需颜色；而各像素之间设有黑矩阵12。其中，黑矩阵(BM,BlackMatrix)12是先于彩色滤光膜11形成的，故可能有部分彩色滤光膜11与黑矩阵12重叠并位于黑矩阵12上。为保护彩色滤光膜11和黑矩阵12，它们还可被保护层(OVC，OverCoat)覆盖。由于工艺限制，彩色滤光膜11与有机发光二极管21之间必然存在数微米至数十微米(如5μm到20μm)的间隙(Gap)，而有机发光二极管21向各个方向都发光(下方有反射层，故向下发的光会被反射回来)。因此，每个像素的有机发光二极管21发出的光都会射到其他像素的彩色滤光膜11上；显然，若这些光从其他像素处射出则会影响显示，造成漏光，若其他像素的颜色不同还会引起混色。为避免漏光，必须保证射到其他像素的光从彩膜基板1射出时都会发生全发射，即要保证能射到其他像素的光线(图中最外侧的两条光线)足够“斜”。也就是说，黑矩阵12必须能将射向其他像素但不会发生全反射的光(即不够斜的光)都挡住。为保证黑矩阵12的挡光效果，需要减小像素面积而尽量增大黑矩阵12的面积，但这会降低显示面板的实际发光面积，提高能耗。总之，现有技术中没有的解决漏光问题的有效方法。
技术实现思路
本专利技术针对现有的顶发射有机发光二极管显示面板不能有效避免漏光的问题，提供一种可简单的避免漏光且可提高出光效率的彩膜基板及其制备方法、显示面板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种彩膜基板，其包括：基底；设于所述基底一侧的彩色滤光膜；黑矩阵，位于所述彩色滤光膜背离基底的一侧，且所述黑矩阵与所述彩色滤光膜在所述基底上的投影有至少部分重叠。优选的是，所述彩色滤光膜分为至少两种不同颜色。进一步优选的是，所述不同颜色的相邻彩色滤光膜之间具有间隙，所述黑矩阵设于所述间隙和间隙两侧。优选的是，所述彩膜基板还包括保护层，其覆盖所述彩色滤光膜，所述黑矩阵位于保护层背离基底的一侧。优选的是，所述彩膜基板还包括保护层，其覆盖所述彩色滤光膜和黑矩阵。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示面板，其特包括彩膜基板和与其对盒的阵列基板；其中，所述彩膜基板为上述彩膜基板，且所述彩膜基板具有黑矩阵的一侧朝向所述阵列基板，彩膜基板另一侧为显示面板的出光面。优选的是，所述显示面板为有机发光二极管显示面板；所述阵列基板包括有机发光二极管，所述有机发光二极管位于阵列基板朝向彩膜基板的一侧，并用于向所述彩膜基板发光。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种彩膜基板的制备方法，其包括：在基底上形成彩色滤光膜；在完成前述步骤的基底上形成黑矩阵，所述黑矩阵与所述彩色滤光膜在所述基底上的投影有至少部分重叠。优选的是，在所述形成彩色滤光膜和形成黑矩阵之间，还包括：在完成前述步骤的基底上形成保护层。优选的是，在所述形成黑矩阵之后，还包括：在完成前述步骤的基底上形成保护层。本专利技术的彩膜基板中，有黑矩阵位于彩色滤光膜上方，即比彩色滤光膜更远离基底，故在各结构具体厚度、尺寸相同的情况下，其可使显示面板中黑矩阵与阵列基板间的距离减小，显然，黑矩阵离阵列基板越近其能遮蔽的射向其他像素的光就越多，而允许其相邻像素进行出光的面积就越大；由此，该彩膜基板仅通过结构层叠顺序的改变就避免了漏光、混色，且增大了实际出光面积，并进而提高了出光效率，降低了能耗，改善了显示质量。附图说明图1为现有的有机发光显示面板的局部剖面结构示意图；图2为本专利技术的实施例的一种彩膜基板的局部剖面结构示意图；图3为本专利技术和现有的显示面板发生的对比光路示意图；其中，附图标记为：1、彩膜基板；11、彩色滤光膜；12、黑矩阵；13、保护层；19、基底；2、阵列基板；21、有机发光二极管；22、像素界定层。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。在本专利技术中，“A位于B上方”是指A和B设于基底同一侧，且A在形成B之后形成，故在A、B重叠的位置，A必然比B更远离基底。相应的，“A位于B上”则是指在重叠位置，A不仅比B更远离基底，且还与B接触。实施例1：如图2、图3所示，本实施例提供一种彩膜基板1，其包括：基底19；设于所述基底19一侧的彩色滤光膜(CF)11；黑矩阵(BM)12，其位于彩色滤光膜11背离基底19的一侧，黑矩阵12与彩色滤光膜11在基底19上的投影有至少部分重叠。其中，该彩膜基板1用于与阵列基板2进行对盒以得到显示面板，彩色滤光膜11至少设于各像素处，以使从像素中射出的光变为所需颜色，而黑矩阵12则位于各像素之间的间隔处。可见，本实施例的彩膜基板1与现有常规的彩膜基板1不同，本实施例的彩膜基板1中，黑矩阵12是后于彩色滤光膜11形成的，因此黑矩阵12是设在彩色滤光膜11上方的。当然，以上描述虽然表示黑矩阵12在彩色滤光膜11之后形成，但并不表示所有黑矩阵12都比彩色滤光膜11离基底19更远。例如，在有些没有彩色滤光膜11而有黑矩阵12的位置，黑矩阵12与其他位置的彩色滤光膜11距基底11的距离相同。本实施例的彩膜基板1中，黑矩阵12位于彩色滤光膜11上方，比彩色滤光膜11更远离基底19，故在各结构具体厚度、尺寸相同的情况下，其可使显示面板中黑矩阵11与阵列基板2间的距离减小。显然，如图3所示，黑矩阵11离阵列基板2越近其能遮蔽的射向其他像素的光就越多，而允许其相邻像素进行出光的面积就越大；由此，该彩膜基板1仅通过结构层叠顺序的改变就避免了漏光、混色，且增大了实际出光面积，并进而提高了出光效率，降低了能耗，改善了显示质量。优选的，彩色滤光膜11分为至少两种不同颜色。也就是说，彩膜基板1中优选包括多种不同颜色的彩色滤光膜11，如红色滤光膜，蓝色滤光膜、绿色滤光膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：基底；设于所述基底一侧的彩色滤光膜；黑矩阵，位于所述彩色滤光膜背离基底的一侧，且所述黑矩阵与所述彩色滤光膜在所述基底上的投影有至少部分重叠。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
基底；
设于所述基底一侧的彩色滤光膜；
黑矩阵，位于所述彩色滤光膜背离基底的一侧，且所述黑矩
阵与所述彩色滤光膜在所述基底上的投影有至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，
所述彩色滤光膜分为至少两种不同颜色。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，
所述不同颜色的相邻彩色滤光膜之间具有间隙，所述黑矩阵
设于所述间隙和间隙两侧。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
保护层，其覆盖所述彩色滤光膜，所述黑矩阵位于保护层背
离基底的一侧。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
保护层，其覆盖所述彩色滤光膜和黑矩阵。
6.一种显示面板，其特征在于，包括彩膜基板和与其对盒的
阵列基板；其中，
所述彩膜基板为权利要求1至5中任意一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：井口真介，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11