一种彩膜基板涂布装置及涂布方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种彩膜基板涂布装置及涂布方法，涉及液晶显示装置制造领域。为解决现有技术彩膜基板的平坦性较低，第一膜层的喷涂厚度较大的问题而发明专利技术。本发明专利技术彩膜基板涂布装置，包括：涂布喷嘴，所述涂布喷嘴用于在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层；研磨组件，所述研磨组件用于对彩色膜层进行研磨，以消除彩色膜层覆盖于黑矩阵上的角段差；检测控制单元，所述检测控制单元可控制研磨组件的运行，所述检测控制单元可测量出角段差的高度，并根据角段差的高度确定所述研磨组件的研磨量，使得涂布在彩色膜层上的第一膜层表面平坦。本发明专利技术彩膜基板涂布装置及涂布方法可用于涂布彩膜基板的平坦层或取向膜层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示装置
，尤其涉及。
技术介绍
液晶显示器是由彩膜基板、阵列基板以及在它们之间封入的液晶层和PI (Polyimide，聚酰亚胺配向层)层构成的平板显示装置，其中，PI层通常采用喷墨设备喷涂于彩膜基板表面，用于使彩膜基板和阵列基板之间的液晶层的液晶分子按照一定的规律排布，PI层的喷涂工艺对彩膜基板的平坦性有着较高的要求，如果彩膜基板的平坦性不好，喷涂时容易导致涂布和扩散不均匀，最终影响显示器的显示品质。现有技术彩膜基板的截面视图如图1所示，参见图1，彩膜基板包括基板01、黑矩阵02、彩色膜层03、平坦层04和柱状隔垫物05。其中，黑矩阵02包括多个黑矩阵单元，多个黑矩阵单元间隔一定距离设置在基板01上，相邻两个黑矩阵单元之间形成间隔区，彩色膜层03设置于相邻两个黑矩阵单元所形成的间隔区内，并延伸至两侧的黑矩阵单元上与黑矩阵单元搭接，以有效避免亚像素边缘漏光，此时由于彩色膜层03与黑矩阵单元之间存在交叠，使得重叠区处彩色膜层03的顶部高度增大，形成彩色膜层03的角段差，影响了平坦层04喷涂之后的彩膜基板的平坦性，从而影响了显示器的显示品质。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供，能够磨除彩色膜层的角段差，提升彩膜基板的平坦性，且能够减小涂布厚度，节省涂布成本。为达到上述目的，本专利技术的实施例提供了一种彩膜基板涂布装置，包括:涂布喷嘴，所述涂布喷嘴用于在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层；研磨组件，所述研磨组件用于对彩色膜层进行研磨，以消除彩色膜层覆盖于黑矩阵上形成的角段差；检测控制单元，所述检测控制单元可控制研磨组件的运行，所述检测控制单元可测量出角段差的高度，并根据角段差的高度确定所述研磨组件的研磨量，使得涂布在彩色膜层上的第一膜层表面平坦。本专利技术实施例提供的一种彩膜基板涂布装置，由于检测控制单元可以测量出彩色膜层覆盖于黑矩阵上形成的角段差高度，并可以根据角段差的高度确定研磨组件的研磨量，使得涂布在彩色膜层上的第一膜层表面平坦，因此可通过检测控制单元确定研磨组件的研磨量，并根据此研磨量控制研磨组件的运行，以去除彩色膜层的角段差，然后采用涂布喷嘴在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层，以提升彩膜基板的平坦性。与现有技术相比，采用上述彩膜基板涂布装置涂布第一膜层，能够去除彩色膜层的角段差，提升彩膜基板的平坦性，且去除彩色膜层的角段差能够降低彩色膜层的高度，减小涂布厚度，从而降低了涂布材料的用量，节省了涂布成本。本专利技术实施例还提供了一种彩膜基板涂布方法，包括以下步骤:检测控制单元对彩色膜层覆盖于黑矩阵上形成的角段差的高度进行测量，获得角段差的高度，并根据角段差的高度控制研磨组件对彩色膜层的角段差进行研磨；研磨组件研磨完成后，操作涂布喷嘴在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层。本专利技术实施例提供的一种彩膜基板涂布方法，检测控制单元首先测量出彩色膜层覆盖于黑矩阵上形成的角段差高度，并根据角段差高度确定研磨组件的研磨量，然后控制研磨组件对彩色膜层进行研磨，以消除彩色膜层的角段差，最后控制操作涂布喷嘴在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层，以完成彩膜基板第一膜层的涂布操作。与现有技术相比，采用上述彩膜基板涂布装置涂布第一膜层，能够去除彩膜层的角段差，提升彩膜基板的平坦性，且去除彩膜层的角段差能够降低彩膜层的高度，减小涂布厚度，从而减小了涂布材料的用量，节省了涂布成本。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为彩膜基板的截面结构示意图；图2为本专利技术实施例彩膜基板涂布装置的结构示意图；图3为本专利技术实施例彩膜基板涂布装置中第一传送装置的截面结构示意图；图4为本专利技术实施例彩膜基板涂布装置中研磨组件的结构示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。参照图2，图2为本专利技术实施例彩膜基板涂布装置的一个具体实施例，本实施例的彩膜基板涂布装置包括:涂布喷嘴1，所述涂布喷嘴I用于在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层；研磨组件2，所述研磨组件2用于对彩色膜层03进行研磨，以消除彩色膜层03覆盖于黑矩阵02上形成的角段差；检测控制单元3，所述检测控制单元3可控制研磨组件2的运行，所述检测控制单元3可测量出角段差的高度，并根据角段差的高度确定所述研磨组件2的研磨量，使得涂布在彩色膜层上的第一膜层表面平坦。本专利技术实施例提供的一种彩膜基板涂布装置，由于检测控制单元3可以测量出彩色膜层03的角段差高度，并可以根据角段差的高度确定研磨组件2的研磨量，因此可通过检测控制单元3确定研磨组件2的研磨量，并根据此研磨量控制研磨组件2的运行，以去除彩色膜层03的角段差，然后采用涂布喷嘴I在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层，以提升彩膜基板的平坦性。与现有技术相比，采用上述彩膜基板涂布装置涂布第一膜层，能够消除彩色膜层03的角段差，提升彩膜基板的平坦性，且去除彩色膜层03的角段差能够降低彩色膜层03的高度，减小第一膜层的涂布厚度，从而降低了第一膜层材料的用量，节省了第一膜层的涂布成本。在本专利技术实施例中，第一膜层可以是平坦层，也可以是取向膜层，在此不做限定。为了实现彩色膜层03的角段差高度的检测，同时为了实现研磨组件2的控制，具体地，参见图2，检测控制单元3可以包括:光学测量系统31，光学测量系统31可对彩膜基板进行扫描拍照，获得彩色膜层03的整体形貌；控制单元32，控制单元32分别与研磨组件2和光学测量系统31连接，控制单元32可根据彩色膜层03的整体形貌得出彩色膜层03的角段差平均值，以实现彩色膜层03的角段差高度的检测，并根据彩色膜层03的角段差平均值确定研磨组件2的研磨量，进而根据所确定的研磨量控制连接的研磨组件2，以实现研磨组件2的控制。由此，可确定出精确的研磨量，防止因研磨量过少而研磨不掉角段差或因研磨量过多而使得彩色膜层03过薄。为了使研磨组件2研磨彩色膜层03覆盖在黑矩阵上形成的角段差，参见图3，研磨组件2包括研磨布21和第一传送装置22，研磨布21作为研磨工具，当研磨布21与角段差接触并产生相对位移时，研磨布21能够消除角段差部分，第一传送装置22能够使研磨布21与彩色膜层03的角段差之间产生相对平行移动。为了使研磨布21与彩色膜层03产生相对平行移动，以消除彩色膜层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板涂布装置，其特征在于，包括：涂布喷嘴，所述涂布喷嘴用于在彩膜基板的彩色膜层上涂布第一膜层；研磨组件，所述研磨组件用于对彩色膜层进行研磨，以消除彩色膜层覆盖于黑矩阵上形成的角段差；检测控制单元，所述检测控制单元可控制研磨组件的运行，所述检测控制单元可测量出角段差的高度，并根据角段差的高度确定所述研磨组件的研磨量，使得涂布在彩色膜层上的第一膜层表面平坦。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓光，汪栋，姜晶晶，肖宇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11