显示面板及其制备方法和检测方法技术

技术编号:14564988 阅读:114 留言:0更新日期:2017-02-05 22:20
本发明专利技术公开了一种显示面板及其制备方法和检测方法,该显示面板包括:阵列基板和对盒基板,阵列基板包括:第一衬底基板,第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层,对盒基板包括:第二衬底基板,第二衬底基板上设置与第一基准标记对应的有第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层,其中,第一基准标记和第二基准标记的材料为荧光材料。本发明专利技术的技术方案,通过在第一衬底基板和第二衬底基板上分别预先设置好对应的第一基准标记和第二基准标记,从而可在对盒处理之后对阵列基板和对盒基板的对盒程度进行检测。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
,特别涉及一种显示面板及其制备方法和检测方法
技术介绍
显示面板是由阵列基板和对盒基板构成,在实际生产过程中,当阵列基板与对盒基板完成对盒后,需要将形成的显示面板进行多项指标检测,并根据检测结果对生产工艺进行调整,以使得产线具备更高的良品率。显示面板成盒后的对位程度和发生挤压后各结构层与对应衬底基板的位移,是影响显示面板质量的重要指标。显示面板成盒之前我们可以分别管控阵列基板中的衬底基板和对盒基板上的衬底基板的TP值,来保证阵列基板和对盒基板的对盒度。但是填充液晶后导致两个衬底基板产生小范围的位置偏移、以及对显示面板进行挤压而使得阵列基板和/或对盒基板上的至少部分结构层与对应的衬底基板之间产生小范围的位置偏移,会对显示面板的质量产生一定影响。然而,在实际操作过程中,由于两个衬底基板之间产生的位置偏移和各结构层在被挤压后产生的位置偏移,无法进行宏观观察和测量,从而导致在针对这两种位置偏移指标进行生产工艺调整时没有数据基础,进而导致无法对生产工艺进行有针对性的调整。由上述内容可见,提供一种对显示面板成盒后的对位程度和发生挤压后各结构层与对应衬底基板之间的位移的检测方法,是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示面板及其制备方法和检测方法,可对阵列基板与对盒基板之间的对位程度进行检测。为实现上述目的,本专利技术提供了一种显示面板,包括:阵列基板和对盒基板,所述阵列基板包括:第一衬底基板,所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层,所述对盒基板包括:第二衬底基板,所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层,所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料。可选地,所述第一基准标记和所述第二基准标记被第一激活光线照射发出不同颜色的光。可选地,所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层,所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记,所述第一检测标记的材料为荧光材料;和/或,所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层,所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成有第二检测标记,所述第二检测标记的材料为荧光材料。可选地,当所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时,各所述第一检测标记和所述第一基准标记在被第二激活光线照射后发出的光的颜色均不同。可选地,当所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层时,各所述第二检测标记和所述第二基准标记在被第三激活光线照射后发出的光的颜色均不同。可选地,所述第一基准标记位于所述第一衬底基板朝向所述第二衬底基板的一侧,所述第二基准标记位于所述第二衬底基板朝向所述第一衬底基板的一侧。为实现上述目的,本专利技术还提供了一种显示面板的制备方法,包括:在第一衬底基板上形成第一基准标记,所述第一基准标记的材料为荧光材料;通过阵列基板制程在所述第一衬底基板上依次形成若干层第一结构层,以制备出阵列基板;在第二衬底基板上形成与所述第一基准标记对应的第二基准标记,所述第二基准标记的材料为荧光材料;通过对盒基板制程在所述第二衬底基板上依次形成若干层第二结构层,以制备出对盒基板;将所述阵列基板和所述对盒基板进行对盒处理。可选地,至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层,所述通过阵列基板制程在所述第一沉积基板上依次形成若干层第一结构层的过程中,每形成一层所述第一待检测结构层之后,在所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成第一检测标记,所述第一检测标记的材料为荧光材料;和/或,至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层,所述通过对盒基板制程在所述第二沉积基板上依次形成若干层第二结构层的过程中,每形成一层所述第二待检测结构层之后,在所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成第二检测标记,所述第二检测标记的材料为荧光材料。为实现上述目的,本专利技术还提供了一种显示面板的检测方法,所述显示面板包括:阵列基板和对盒基板,所述阵列基板包括:第一衬底基板,所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层,所述对盒基板包括:第二衬底基板,所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层,所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料;所述显示面板的检测方法包括:采用第一激活光线照射所述第一基准标记和所述第二基准标记,以使得第一基准标记和第二基准标记发光;根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度。可选地,所述根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度的步骤包括:判断所述第一基准标记与所述第二基准标记在与所述第一衬底基板平行的平面上的正投影是否完全重合;当判断出所述第一基准标记与第二基准标记在与所述第一衬底基板平行的平面上的正投影不完全重合时,则在与所述第一衬底基板平行的平面上建立第一直角坐标系,并获取第一基准标记在所述第一直角坐标系上的正投影对应的第一位置坐标,以及获取第二基准标记在所述第一直角坐标系上的正投影对应的第二位置坐标;根据所述第一位置坐标和所述第二位置坐标评估所述阵列基板与所述对盒基板的对位程度。可选地,所述第一基准标记和所述第二基准标记被所述第一激活光线照射发出不同颜色的光。可选地,所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层,所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记,所述第一检测标记的材料为荧光材料;和/或,所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层,所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成有第二检测标记,所述第二检测标记的材料为荧光材料。可选地,当所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时,所述显示面板的检测方法还包括:对所述显示面板进行接触云纹检测处理;当检测出所述显示面板存在接触云纹时,采用第二激活光线照射所述第一基准标记和各所述第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示面板,其特征在于,包括:阵列基板和对盒基板,所述阵列基板包括:第一衬底基板,所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层,所述对盒基板包括:第二衬底基板,所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层,所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:阵列基板和对盒基板,
所述阵列基板包括:第一衬底基板,所述第一衬底基板上设置有第一
基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层,所述对
盒基板包括:第二衬底基板,所述第二衬底基板上设置有与所述第一
基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干
层第二结构层,所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧
光材料。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一基
准标记和所述第二基准标记被第一激活光线照射发出不同颜色的光。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基
板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层,所述第一待检
测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记,所述
第一检测标记的材料为荧光材料;
和/或,所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检
测结构层,所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形
成有第二检测标记,所述第二检测标记的材料为荧光材料。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,当所述阵列
基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时,各所述第
一检测标记和所述第一基准标记在被第二激活光线照射后发出的光
的颜色均不同。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,当所述对盒
基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层时,各所述第
二检测标记和所述第二基准标记在被第三激活光线照射后发出的光
的颜色均不同。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一基
准标记位于所述第一衬底基板朝向所述第二衬底基板的一侧,所述第
二基准标记位于所述第二衬底基板朝向所述第一衬底基板的一侧。
7.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
在第一衬底基板上形成第一基准标记,所述第一基准标记的材
料为荧光材料;
通过阵列基板制程在所述第一衬底基板上依次形成若干层第一
结构层,以制备出阵列基板;
在第二衬底基板上形成与所述第一基准标记对应的第二基准标
记,所述第二基准标记的材料为荧光材料;
通过对盒基板制程在所述第二衬底基板上依次形成若干层第二
结构层,以制备出对盒基板;
将所述阵列基板和所述对盒基板进行对盒处理。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层,所述通过阵列
基板制程在所述第一沉积基板上依次形成若干层第一结构层的过程
中,每形成一层所述第一待检测结构层之后,在所述第一待检测结构
层上对应所述第一基准标记的位置形成第一检测标记,所述第一检测
标记的材料为荧光材料;
和/或,至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层,所述通
过对盒基板制程在所述第二沉积基板上依次形成若干层第二结构层
的过程中,每形成一层所述第二待检测结构层之后,在所述第二待检
测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成第二检测标记,所述第
二检测标记的材料为荧光材料。
9.一种显示面板的检测方法,其特征在于,所述显示面板包括:
阵列基板和对盒基板,所述阵列基板包括:第一衬底基板,所述第一

\t衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若
干层第一结构层,所述对盒基板包括:第二衬底基板,所述第二衬底
基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒
基板制程依次形成的若干层第二结构层,所述第一基准标记和所述第
二基准标记的材料均为荧光材料;
所述显示面板的检测方法包括:
采用第一激活光线照射所述第一基准标记和所述第二基准标
记,以使得第一基准标记和第二基准标记发光;
根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测
所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度。
10.根据权利要求9所述的显示面板的检测方法,其特征在于,
所述根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测
所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度的步骤包括:
判断所述第一基准标记与所述第二基...

【专利技术属性】
技术研发人员:李晓光汪栋肖宇姜晶晶冯贺
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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