【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种化合物及其合成方法,特别是涉及一种含吡啶侧基双酚及其合成方法。
技术介绍
阴离子交换膜在扩散渗析、电渗析、碱性膜燃料电池、液流电池、微生物电化学系统等领域具有广泛用途。然而,阴离子交换膜的传统制备路线是氯甲基化-胺化路线,首先需要对含芳环聚合物(如聚苯乙烯、聚芳醚等)进行氯甲基化,引入氯甲基进而胺化引入荷正电的阴离子交换基团制备阴离子交换膜。氯甲基化-胺化路线存在一些严重不足,例如,氯甲基化过程中使用毒性较大的氯甲基甲醚;氯甲基化反应时容易发生交联等副反应;更重要的是,氯甲基化时基团引入位置和数量可控性差,导致膜性能不易调控。采用含可功能化的单体聚合制备出含可功能化基团的聚合物,进而功能化可以得到基团位置和数量精确可控的膜材料,革除氯甲基化-胺化路线的弊端。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种含吡啶侧基双酚及其合成方法,本专利技术利用酚类化合物、含吡啶基甲酮类化合物为原料合成含吡啶侧基双酚化合物,吡啶基团引入聚合物中,提高了聚合物的极性和在金属和非金属表面的附着力。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的:一种含吡啶侧基双酚,所述含吡啶侧基双酚具有如下结构式:其中,R3,R4,R5,R6为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子,R7为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子或羧基,R8,R9,R10,R11为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子。一种含吡啶侧基双酚的合成方法,所述含吡啶侧基双酚通过下述步骤获得:在有机溶剂中,酸性催化剂存在下,酚类化合物与含吡啶基甲酮类化合物在10-150℃ 下生成含吡啶侧基双酚化合物;其中,酚类化合物与含吡啶基 ...
【技术保护点】
一种含吡啶侧基双酚,其特征在于,所述含吡啶侧基双酚具有如下结构式:其中,R3,R4,R5,R6为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子,R7为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子或羧基,R8,R9,R10,R11为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子。
【技术特征摘要】
1.一种含吡啶侧基双酚,其特征在于,所述含吡啶侧基双酚具有如下结构式:其中,R3,R4,R5,R6为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子,R7为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子或羧基,R8,R9,R10,R11为氢原子或苯基或烷基或烷氧基或卤原子。2.一种含吡啶侧基双酚的合成方法,其特征在于,所述含吡啶侧基双酚通过下述步骤获得:在有机溶剂中,酸性催化剂存在下,酚类化合物与含吡啶基甲酮类化合物在10-150℃ 下生成含吡啶侧基双酚化合物;其中,酚类化合物与含吡啶基甲酮类化合物的摩尔比为2-10:1...
【专利技术属性】
技术研发人员:张本贵,张勇强,姜恩鹏,聂鑫,
申请(专利权)人:沈阳化工大学,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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