【技术实现步骤摘要】
201610136521
【技术保护点】
一种阵列基板，所述阵列基板被划分为多个像素单元，其特征在于，所述像素单元内设置有滤光结构，所述滤光结构包括在所述阵列基板的厚度方向上间隔设置的第一遮光件和第二遮光件，所述第一遮光件位于所述第二遮光件下方，所述第二遮光件包括第二遮光件本体和沿厚度方向贯穿所述第二遮光件本体的透光孔，所述第一遮光件位于所述透光孔的下方，所述第二遮光件本体在所述第一遮光件所在的层上的正投影的内边缘与所述第一遮光件的边缘之间存在透光间隙，所述第一遮光件上方形成有透明的透光空间，所述透光间隙使得具有预定波长的光透过。
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，所述阵列基板被划分为多个像素单元，其特征在于，所述像素单元内设置有滤光结构，所述滤光结构包括在所述阵列基板的厚度方向上间隔设置的第一遮光件和第二遮光件，所述第一遮光件位于所述第二遮光件下方，所述第二遮光件包括第二遮光件本体和沿厚度方向贯穿所述第二遮光件本体的透光孔，所述第一遮光件位于所述透光孔的下方，所述第二遮光件本体在所述第一遮光件所在的层上的正投影的内边缘与所述第一遮光件的边缘之间存在透光间隙，所述第一遮光件上方形成有透明的透光空间，所述透光间隙使得具有预定波长的光透过。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板被划分为多个像素单元组，每个所述像素单元组包括三个所述像素单元，所述像素单元组中的三个像素单元的透光间隙分别设置为使得透过三个所述像素单元的透光间隙的光为红光、绿光和蓝光。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光结构包括透明滤光层，所述透明滤光层中形成有滤光槽，所述第一遮光件设置在所述滤光槽中，且位于所述滤光槽的底部，所述第二遮光件本体设置在所述透明滤光层的上表面，所述透光空间的至少一部分位于所述滤光槽中。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元内设置有薄膜晶体管，所述第二遮光件本体与所述薄膜晶体管的源极和漏极同层设置且材料相同。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第二遮光件本体的一部分与所述薄膜晶体管的漏极形成为一体。6.根据权利要求4或5所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管具有底栅结构，所述薄膜晶体管的有源层由氧化物制成，所述透明滤光层位于所述薄膜晶体管的有源层和所述源极所在的层之间。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述透明滤光层由硅的氧化物和/或铝的氧化物制成。8.根据权利要求4或5所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括钝化层和像素电极，所述钝化层位于所述源极和所述漏极所在层的上方，所述像素电极形成在所述钝化层上方，且通过过孔与相应的漏极电连接。9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括平坦化层，所述平坦化层设置在所述钝化层上，所述像素电极设置在所述平坦化层上，连接所述像素电极和相应漏极的过孔贯穿所述平坦化层和所述钝化层。10.根据权利要求3至5中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述透明滤光层的厚度在40nm至120nm之间。11.根据权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一遮光件由金属材料制成。12.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述阵列基板为权利要求1至11中任意一项所述的阵列基板，所述制造方法包括：提供衬底基板，所述衬底...
【专利技术属性】
技术研发人员：王东方，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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