装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器制造技术

技术编号:13526291 阅读:67 留言:0更新日期:2016-08-14 23:46
本实用新型专利技术提供一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器,包括一器壳,内部形成一提供含藏有水分子及粉尘的气体通过的腔室,且该腔室内以能抽取方式植入至少一过滤箱,该过滤箱内设有用来过滤气体中水分子及粉尘的多个捕集环及一过滤棉,该气体依序通过捕集环及过滤棉,藉以改善传统粉尘过滤器的结构复杂且不易清洗的问题。

【技术实现步骤摘要】
201521100149

【技术保护点】
一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器,其特征在于其包括:一器壳,其内部形成一提供含藏有水分子及粉尘的气体通过的腔室;及至少一过滤箱,以能抽取方式植入于该腔室内,该过滤箱内设有用来过滤气体中水分子及粉尘的多个捕集环及一过滤棉,该气体依序通过该捕集环及过滤棉。

【技术特征摘要】
2015.11.26 TW 1042190291.一种装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器,其特征在于其包括:
一器壳,其内部形成一提供含藏有水分子及粉尘的气体通过的腔室;及
至少一过滤箱,以能抽取方式植入于该腔室内,该过滤箱内设有用来过滤气体中
水分子及粉尘的多个捕集环及一过滤棉,该气体依序通过该捕集环及过滤棉。
2.如权利要求1所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器,其特征在于:
该捕集环呈环圈状,且具有一轴心线。
3.如权利要求2所述装设于半导体废气处理设备中的粉尘过滤器,其特征在于:
该捕集环的环壁向其轴心方向延伸形成有多个舌片。
4.如权利要求3所述装设于半导体废气处理设备...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯五裕
申请(专利权)人:东服企业股份有限公司
类型:新型
国别省市:中国台湾;71

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1