电浆炬激发装置的水分子供应装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，包括一火焰出口端形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置内具有一水腔室，该火焰出口端固置有一罩体，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内并开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，所述多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰，以利捕捉F2气体成为较容易接受水洗过滤的氟化氢(HF)。

Water Molecule Supply Device of Plasma Torch Excitation Device

【技术实现步骤摘要】
电浆炬激发装置的水分子供应装置
本技术涉及半导体制程废气以电浆炬(PlasmaTorch)进行烧结反应后的生成物的捕捉技术，特别是有关于一种电浆炬激发装置的水分子供应装置。
技术介绍
周知，半导体制程所生成的废气包含有SiH4、H2SiCl2(DCS)、WF6、BF3、NF3、SF6、CF4、C2F6C3F8等，其中NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等归属有害的氟化物(PerFluorinatedCompounds,PFC)，倘若排放至大气中，会造成环境污染，甚至于温室效应，对地球暖化造成严重的影响，因此必须将所述的这些废气处理成无害的气体。坊间所泛用的半导体废气处理设备，就是用于将上述废气处理成无害的气体。一般而言，已知的半导体废气处理设备都设有废气的反应腔室，半导体制程所生成的废气导入反应腔室内，并且在反应腔室内以燃气火焰、热棒或电浆炬火焰所提供的高温，对所述废气进行烧结(即烧结反应)；特别的，通过高温的烧结反应，可将例如是有害的NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等氟化物气体分解成无害的氟离子(F-)，进而达到净化废气的目的。上述的电浆炬(Plasmatorch)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征是包括：一火焰出口端，形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置包含一极棒与一极芯，该极芯具有一作为带电离子的电场使用的圆锥形芯孔，该极棒投射带电离子在芯孔内生成电浆炬火焰，该电浆炬火焰并由该火焰出口端喷出；一水腔室，形成于该极芯外围，该极芯的外壁制成鳍片状而接触该水腔室内的循环水；及一罩体，固置于该火焰出口端，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰。

【技术特征摘要】
2018.08.15 TW 1071284791.一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征是包括：一火焰出口端，形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置包含一极棒与一极芯，该极芯具有一作为带电离子的电场使用的圆锥形芯孔，该极棒投射带电离子在芯孔内生成电浆炬火焰，该电浆炬火焰并由该火焰出口端喷出；一水腔室，形成于该极芯外围，该极芯的外壁制成鳍片状而接触该水腔室内的循环水；及一罩体，固置于该火焰出口端，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰。2.如权利要求1所述电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征在于：该火焰通道的四周形成为一圆锥形孔壁，所述多个导水孔由该圆锥形孔壁供应水分子至该火焰通道喷出。3.如权利要求2所述电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征在于：所述多个导水孔分别连通一形成于圆锥形孔壁上的出水孔，所述多个导水孔分别经由各该出水孔而供应水分子至该火焰通...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯五裕，
申请(专利权)人：东服企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71