电浆炬激发装置的水分子供应装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，包括一火焰出口端形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置内具有一水腔室，该火焰出口端固置有一罩体，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内并开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，所述多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰，以利捕捉F2气体成为较容易接受水洗过滤的氟化氢(HF)。

Water Molecule Supply Device of Plasma Torch Excitation Device

【技术实现步骤摘要】
电浆炬激发装置的水分子供应装置
本技术涉及半导体制程废气以电浆炬(PlasmaTorch)进行烧结反应后的生成物的捕捉技术，特别是有关于一种电浆炬激发装置的水分子供应装置。
技术介绍
周知，半导体制程所生成的废气包含有SiH4、H2SiCl2(DCS)、WF6、BF3、NF3、SF6、CF4、C2F6C3F8等，其中NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等归属有害的氟化物(PerFluorinatedCompounds,PFC)，倘若排放至大气中，会造成环境污染，甚至于温室效应，对地球暖化造成严重的影响，因此必须将所述的这些废气处理成无害的气体。坊间所泛用的半导体废气处理设备，就是用于将上述废气处理成无害的气体。一般而言，已知的半导体废气处理设备都设有废气的反应腔室，半导体制程所生成的废气导入反应腔室内，并且在反应腔室内以燃气火焰、热棒或电浆炬火焰所提供的高温，对所述废气进行烧结(即烧结反应)；特别的，通过高温的烧结反应，可将例如是有害的NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等氟化物气体分解成无害的氟离子(F-)，进而达到净化废气的目的。上述的电浆炬(Plasmatorch)是一种能够生成一束定向电浆喷流的高温火焰，电浆炬火焰的温度能够高达3000℃～10000℃，因此常见用于材料加工、熔接、废物处理、陶瓷切割、金属切割及半导体废气烧结等用途上。且知，所述废气经过燃气火焰、热棒或电浆炬火焰高温烧结处理之后，会于反应腔室内生成F2气体及其他生成物，这些生成物通常需经后段的水洗程序(scrubber)的捕捉及刷洗，使上述生成物能沉积于水中而被过滤筛离。但是，由于F2气体的分子极小，在已知半导体废气处理设备中所用的水洗程序，其提供的水柱或水滴并无法充分捕捉上述的F2气体，造成半导体制程废气的净化效率不彰，因此有业者刻意供水(H2O)进入该反应腔室内，并凭借上述燃气火焰、热棒或电浆炬火焰的高温将水(H2O)所含带的水分子解离为氢离子(H+)与氢氧离子(OH-)，利用其中的氢离子(H+)与F2气体结合而形成易溶于水中的氟化氢(HF)，以利于后段水洗程序的捕捉及刷洗。然而，现有半导体废气处理设备的反应腔室中，供应水分子与上述燃气火焰、热棒或电浆炬火焰相互接触的腔室暨空间结构并不理想，乃至于水分子难以瞬间捕捉电浆炬火焰烧结废气后生成F2气体成为氟化氢(HF)，甚而影响废气中有害物质的净化效率，故亟待加以改善。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的主要目的在于改善传统电浆炬火焰周围欠缺供应充足水分子而影响F2气体的捕捉效率的问题，进而提供一种电浆炬激发装置的水分子供应装置。在一较佳实施中，本技术的技术手段包括：一火焰出口端，形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置包含一极棒与一极芯，该极芯具有一作为带电离子的电场使用的圆锥形芯孔，该极棒投射带电离子于芯孔内生成电浆炬火焰，该电浆炬火焰并由该火焰出口端喷出；一水腔室，形成于该极芯外围，该极芯的外壁制成鳍片状接触该水腔室内的循环水；及一罩体，固置于该火焰出口端，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内并开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，所述多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰。在进一步实施中，该火焰通道的四周形成为一圆锥形孔壁，所述多个导水孔由该圆锥形孔壁供应水分子至该火焰通道喷出。其中所述多个导水孔分别连通一形成于圆锥形孔壁上的出水孔，所述多个导水孔分别经由各该出水孔而供应水分子至该火焰通道喷出。所述各该出水孔分别具有一孔心线，且该火焰通道具有一轴心线，该孔心线与该轴心线之间具有一夹角，且0<该夹角<90°。在进一步实施中，该罩体具有一顶面及一底面，该火焰通道的圆锥形孔壁由该顶面逐渐扩张至该底面而形成。在进一步实施中，该极芯的外围罩设有一极芯座，该水腔室形成于该极芯与该极芯座之间。在进一步实施中，该电浆炬激发装置还包含一极芯架，该极芯架具有一中空的舱室，该极棒固置于该极芯架的顶部，该极棒之一用以投射带电离子的电离子投射端植入于该舱室内而形成一围绕于极棒与舱室壁面之间的集气槽，该极芯固置于该极芯架的底部，该芯孔连通该集气槽，且该电离子投射端邻近于该芯孔。在进一步实施中，该电浆炬激发装置配置于一半导体废气处理槽上，该半导体废气处理槽内形成有一反应腔室，该电浆炬激发装置的火焰出口端植入于该反应腔室内。根据上述技术，本技术所能产生的技术效果在于：1.凭借出水孔开设于火焰通道周围，使导水孔或出水孔所喷出的水分子能集中到电浆炬火焰的周围，促使水分子能够立即地接触电浆炬火焰，并且接受电浆炬火焰解离成氢离子(H+)与氢氧离子(OH-)，让氢离子(H+)能够与废气烧结后生成的F2气体迅速地结合成为易溶于水中的氟化氢(HF)，以促进废气中有害物质的净化效率。2.由于出水孔所喷出的水分子是由水腔室中用来冷却极芯的水所供应，因此无需额外增设供水用的管路，使得水分子供应装置的结构较为简化。3.凭借火焰通道的圆锥形孔壁的构造设计，以及供应水分子的导水孔或出水孔是连通或形成于圆锥形孔壁上，使得火焰出口端所喷出的电浆炬火焰，能于圆锥形孔壁进行保焰的过程中迅速地与水分子接触。以上所述技术手段及其产生效能的具体实施细节，请参照下列实施例及图式加以说明。附图说明图1是本技术电浆炬激发装置的水分子供应装置的剖示图；图2是图1的A-A剖示图；图3是图1的动作示意图；图4是本技术电浆炬激发装置的水分子供应装置配置于废气处理槽的剖示图。附图标记说明：1-电浆炬激发装置；10-极棒；101-电离子投射端；102-接电端；11-绝缘套；20-极芯；21-芯孔；211-内端；212-外端；213-孔壁；22-环部；221-固定孔；222-导引孔；223-导引沟；23-螺丝；24-火焰出口端；30-罩体；301-顶面；302-底面；31-火焰通道；311-圆锥形孔壁；32-导水孔；33-出水孔；40-极芯座；41-水腔室；42-螺孔；43-入水管；44-出水管；50-极芯架；501-顶部；502-底部；51-舱室；52-集气槽；53-承套；54-承座；55-环状导气槽；56-导气孔；57-进气管；60-半导体废气处理槽；61-反应腔室；62-头盖；63-废气导入管；631-出口；632-进气压力侦测口；64-紫外线侦测口；L1-孔心线；L2-轴心线；θ-夹角。具体实施方式首先，请参阅图1，揭示本技术所提供一种电浆炬激发装置的水分子供应装置的较佳实施形态，说明该水分子供应装置包括一火焰出口端24、一水腔室41及一罩体30，其中：该火焰出口端24是形成于电浆炬激发装置1的底端。该电浆炬激发装置1在实施上包含一极棒10与一极芯20。该极棒10是由导电金属制成条棒状，而使得极棒10具有一电离子投射端101及一接电端102。该极芯20是由导电金属制成，该极芯具有一作为带电离子的电场使用的圆锥形芯孔21，该极棒10的电离子投射端101投射带电离子于芯孔21内生成电浆炬火焰。进一步的说，该芯孔21具有一内端211及一外端212，该芯孔21由该内端211逐渐扩张至该外端212而呈现圆锥形，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征是包括：一火焰出口端，形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置包含一极棒与一极芯，该极芯具有一作为带电离子的电场使用的圆锥形芯孔，该极棒投射带电离子在芯孔内生成电浆炬火焰，该电浆炬火焰并由该火焰出口端喷出；一水腔室，形成于该极芯外围，该极芯的外壁制成鳍片状而接触该水腔室内的循环水；及一罩体，固置于该火焰出口端，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰。

【技术特征摘要】
2018.08.15 TW 1071284791.一种电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征是包括：一火焰出口端，形成于电浆炬激发装置的底端，该电浆炬激发装置包含一极棒与一极芯，该极芯具有一作为带电离子的电场使用的圆锥形芯孔，该极棒投射带电离子在芯孔内生成电浆炬火焰，该电浆炬火焰并由该火焰出口端喷出；一水腔室，形成于该极芯外围，该极芯的外壁制成鳍片状而接触该水腔室内的循环水；及一罩体，固置于该火焰出口端，该罩体具有一提供电浆炬通过的火焰通道，且该罩体内开设有多个围绕于火焰通道周围的导水孔，多个导水孔各自连通于该水腔室与该火焰通道之间，用以供应水分子由该火焰通道喷出，令水分子接触该火焰通道内的电浆炬火焰。2.如权利要求1所述电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征在于：该火焰通道的四周形成为一圆锥形孔壁，所述多个导水孔由该圆锥形孔壁供应水分子至该火焰通道喷出。3.如权利要求2所述电浆炬激发装置的水分子供应装置，其特征在于：所述多个导水孔分别连通一形成于圆锥形孔壁上的出水孔，所述多个导水孔分别经由各该出水孔而供应水分子至该火焰通...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯五裕，
申请(专利权)人：东服企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71