粉末净化处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种粉末净化处理装置，包括在一器壳内规划形成有一第一水洗腔室、一粉末捕捉腔室及一第二水洗腔室，其中该第一水洗腔室具有一导入废气的入口，该第一水洗腔室内配置有一第一喷水器，该粉末捕捉腔室内配置有至少一喷水头与多个捕集环，该第二水洗腔室具有一排放废气的出口，该第二水洗腔室内配置有一第二喷水器，该入口、该第一水洗腔室、该粉末捕捉腔室、该第二水洗腔室以及该出口依序成为导引废气通过的一气体流道；如此，改善半导体废气在经过高温烧结处理的后所生成的微细粉末难以充分捕捉的问题。

Powder Purification Processing Unit

【技术实现步骤摘要】
粉末净化处理装置
本技术涉及半导体制程废气进行烧结反应后的生成物的捕捉技术，特别是有关于一种粉末净化处理装置。
技术介绍
周知，半导体制程所生成的废气包含有SiH4、H2SiCl2(DCS)、WF6、BF3、NF3、SF6、CF4、C2F6、C3F8等，其中NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等归属有害的氟化物(PerFluorinatedCompounds,PFC)，倘若排放至大气中，会造成环境污染，甚至于温室效应，对地球暖化造成严重的影响，因此必须将所述的这些废气处理成无害的气体。坊间所泛用的半导体废气处理设备，就是用于将上述废气处理成无害的气体。一般而言，已知的半导体废气处理设备都设有废气的反应腔室，半导体制程所生成的废气系导入反应腔室内，并且在反应腔室内以火焰或热空气所提供的高温，对所述废气进行烧结(即烧结反应)；特别的，通过高温的烧结反应，可将例如是有害的NF3、SF6、CF4、C2F6及C3F8等氟化物气体分解成无害的氟离子(F-)，进而达到净化废气的目的。且知，所述废气经过上述高温烧结处理之后，会于反应腔室内生成SiO2、PO2、AlO2、W3O5、BO3的粉末生本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粉末净化处理装置，其特征是包括在一器壳内规划形成有提供含藏有粉末的废气通过的：一第一水洗腔室，具有一导入含藏粉末的废气的入口，且该第一水洗腔室内配置有一第一喷水器；一粉末捕捉腔室，内部间隔形成一第一过滤槽及一第二过滤槽，该第一过滤槽及该第二过滤槽之间经由一通道相连通，且该第一过滤槽及该第二过滤槽上方分别配置有一喷水头，该第一过滤槽及该第二过滤槽内还分别摆放有多个捕集环；及一第二水洗腔室，具有一排放净化后废气的出口，且该第二水洗腔室内配置有一第二喷水器，该第二水洗腔室形成于该第一水洗腔室的一侧，使得该粉末捕捉腔室坐落于该第一水洗腔室与该第二水洗腔室之间；其中，该第一过滤槽底部形成有多个连...

【技术特征摘要】
2018.09.07 TW 1071314351.一种粉末净化处理装置，其特征是包括在一器壳内规划形成有提供含藏有粉末的废气通过的：一第一水洗腔室，具有一导入含藏粉末的废气的入口，且该第一水洗腔室内配置有一第一喷水器；一粉末捕捉腔室，内部间隔形成一第一过滤槽及一第二过滤槽，该第一过滤槽及该第二过滤槽之间经由一通道相连通，且该第一过滤槽及该第二过滤槽上方分别配置有一喷水头，该第一过滤槽及该第二过滤槽内还分别摆放有多个捕集环；及一第二水洗腔室，具有一排放净化后废气的出口，且该第二水洗腔室内配置有一第二喷水器，该第二水洗腔室形成于该第一水洗腔室的一侧，使得该粉末捕捉腔室坐落于该第一水洗腔室与该第二水洗腔室之间；其中，该第一过滤槽底部形成有多个连通该第一水洗腔室的第一透气孔，且该第二过滤槽底部形成有多个连通该第二水洗腔室的第二透气孔；该入口、该第一水洗腔室、所述多个第一透气孔、该第一过滤槽、该粉末捕捉腔室、该第二过滤槽、所述多个第二透气孔、该第二水洗腔室以及该出口依序成为导引废气通过的一气体流道。2.如权利要求1所述粉末净化处理装置，其特征在于：该入口及该出口分别形成于该器壳的顶部。3.如权利要求1或2所述粉末净化处理装置，其特征在于：该第一喷水器的一端通过该入口凸伸至该器壳外，该第二喷水器的一端通过该出口凸伸至该器壳外。4.如权利要求1所述粉末净化处理装置，其特征在于：该第一过滤槽及该...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯五裕，
申请(专利权)人：东服企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71