用于对半导体废气进行处理的净气器制造技术

本发明专利技术公开一种用于对半导体制造工艺中产生的半导体废气进行处理的净气器，该净气器以高温火焰燃烧废气、过滤及收集废气燃烧后所产生的微粒、将滤掉了微粒的废气排出到大气中。该半导体废气处理净气器包括：供应部分，用于供应半导体废气、燃料和氧气；燃烧器，连接于供应部分而通过火焰来燃烧半导体废气；燃烧室，结合于燃烧器而使半导体废气燃烧时所产生的微粒掉落；湿塔，安装在燃烧室的侧部而使从燃烧室传送的微粒在用水吸附后掉落；以及储水罐，连接于燃烧室和湿塔，从而收集从燃烧室和湿塔掉落的微粒。本发明专利技术增加了废气燃烧效率、使得微粒不会沉积在燃烧室的内壁上且使得易于对燃烧室进行维护和修复。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于对源于半导体工艺的废气进行处理的净气器(scrubber)(在下文中称为“半导体废气处理净气器”)，并特别涉及一种半导体废气处理净气器，其使用高温火焰来燃烧来自于半导体工艺的废气、使用水来过滤和收集燃烧后的废气、然后将所过滤和收集的气体排到大气中。
技术介绍
通常，在半导体制造工艺中用于在晶片上形成薄膜或蚀刻晶片的各种反应气体包含有氧化物组分、磷化物组分、有毒组分，等等。因此，如果这样的反应气体(在下文中称为“废气”)在使用后原封不动地排出到大气中，它不仅对人体是有害的，而且会造成环境污染。从而，在半导体设备中设置有净气器，以在除去氧化物组分、磷化物组分、有毒组分等后再把这些废气排出。用于在半导体制造工艺中除去废气的半导体废气处理净气器分成三类1)间接燃烧湿式净气器，其燃烧废气然后再次用水过滤该废气，其中该净气器也称为“热湿式净气器”；2)湿式净气器，其用水来收集废气然后对水进行净化，其中该净气器也称为“湿式净气器”；以及3)直接燃烧湿式净气器，其使用高温火焰来燃烧废气然后用水来收集该气体，其中该净气器也称为“燃烧湿式净气器”。在此，半导体废气主要是含硅的气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理半导体废气的净气器，其包括：供应部分，用于供应半导体废气、燃料和氧气；燃烧器，该燃烧器连接于所述供应部分而通过火焰来燃烧半导体废气；燃烧室，该燃烧室结合于所述燃烧器而使得在半导体废气燃烧时所产生的微粒掉落；湿塔，该湿塔安装在所述燃烧室的侧部而使得从所述燃烧室传送的微粒在用水吸附后掉落；以及储水罐，该储水罐连接于所述燃烧室和湿塔而用以收集从所述燃烧室和湿塔掉落的微粒。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李瑢灿，金滢克，李相根，
申请(专利权)人：清洁系统韩国股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[]