滤色片的制作方法、滤色片以及液晶显示装置制造方法及图纸

一种滤色片的制作方法、滤色片和液晶显示装置，所述滤色片的制作方法包括：在基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；在所述绝缘层中形成凹槽；在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极用于构成进行触控检测的互电容，第一金属网格电极和第二金属网格电极的材料为金属，与ITO材料的触控检测电极相比阻抗较低，降低了触控检测的噪声，有利于提高触控监测的灵敏度，本发明专利技术滤色片的制作方法与现有滤色片的制作技术兼容性好，制作而成的滤色片良率较高，并且能降低滤色片的成本。

【技术实现步骤摘要】
滤色片的制作方法、滤色片以及液晶显示装置
本专利技术涉及显示领域，具体涉及一种滤色片的制作方法、滤色片和液晶显示装置。
技术介绍
液晶显示装置以体积小，重量轻，低辐射等优点广泛应用于各种领域。液晶显示面板是液晶显示装置中最主要的组成部分。所述液晶显示面板包括阵列基板(即TFT基板)、与所述阵列基板相对的滤色片(CF基板)以及填充于阵列基板和滤色片之间的液晶。其中，所述阵列基板和滤色片上的电极通过控制液晶分子的偏转，以调节外界光的通过率，进而达到显示的目的。参考图1，示出了现有技术一种滤色片的剖面示意图，所述滤色片包括：第一玻璃基板10、位于所述第一玻璃基板10上的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)层11、位于黑色矩阵之间的彩色光阻层(RGB层)12、覆盖在所述黑色矩阵和彩色光阻层12上的平坦层(OC层)13、设置于所述平坦层13上的间隔柱(PhotoSpacer，PS)14。其中，彩色光阻层12包括：蓝色(B)光阻121、红色(R)光阻122和绿色(G)123，用于分别透过白光中的蓝光、红光和绿光。参考图2，示出了现有技术一种液晶显示面板的剖面示意图，所述液晶显示面板的TFT基板包括：第二玻璃基板17、位于所述第二玻璃基板17上的电极层16，所述电极层16包括多条栅极线和多条数据线以及位于栅极线和数据线交界处的薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)，栅极线和数据线围成一个子像素(SubPixel)，薄膜晶体管的栅极与所述栅极线相连，薄膜晶体管的源极与所述数据线相连，所述薄膜晶体管的漏极连接有像素电极。滤色片上的B光阻121、R光阻122和G光阻123与TFT基板上的子像素一一对应，三个子像素构成一个像素18。TFT基板上像素电极和CF基板上公共电极之间形成的电场可以控制液晶分子15的翻转的角度，进而改变从B光阻121、R光阻122和G光阻123出射的不同色彩的光量，再基于加法混色原理使像素18可以得到丰富的色彩表现。近年来，触控技术取得重大技术突破，并已广泛的应用于我们日常生活的各个领域，特别是应用在手机、平板电脑等手持式移动显示终端上。传统的，为了实现此类产品源源不断的小型轻量化要求，触控感应电极(TPSensor)与液晶显示面板整合的技术始终是业内研发的重点。根据触控感应电极与液晶盒的相对位置，此技术又可分为In-cell、On-cell两种。In-cell技术是指至少有一层触控感应电极设在液晶盒内。现有技术有两种比较成熟的In-cell的技术方案，一种是两层触控感应电极均设置在TFT基板上，另一种是采用一层触控感应电极在滤色片上，一层触控感应电极在TFT基板上。相比而言，前者技术难度更高，特别是在信号处理方面难度较大，显示信号与触控信号互相影响，噪声较大，良率也较差。而后者由于两层触控感应电极设置在不同两块基板上，因此触控感应电极的驱动难度较高。此外，现有技术的触控感应电极的材料通常选用氧化铟锡(ITO)，ITO的透明度较高，有较好的视觉体验，也容易驱动，但是ITO的阻抗较大，因此触控信号的噪声较大，影响触控感应的反应速度。为降低触控感应电极的阻抗，现有技术正在尝试采用金属网格电极替代ITO电极，作为触控感应电极。金属网格电极是由铜线、银线等金属线围绕而成的镂空图形，与ITO相比，金属线的阻抗较低，并且人眼能够通过金属网格电极的镂空区域观察到液晶显示装置像素形成的画面。通常在液晶显示装置中集成金属网格的触控感应电极的方法为：先在一基片的一个表面或正反两面压印形成金属网格的触控感应电极，再将形成有触控感应电极的基片压合于滤色片上，然后将滤色片与TFT基板真空贴合以形成液晶显示装置。这样形成滤色片的制程较为复杂，成本较高，与传统的滤色片生产工艺相比，增加了额外的压合基片的工艺，基片与滤色片的结合性不强，容易出现不良。因此，业内一直在寻找一种噪声较低并且制作工艺较简单，良率较高的In-cell触控检测技术。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种滤色片的制作方法、滤色片和液晶显示装置，制作集成有触控检测功能的滤色片，简化集成有触控检测功能的滤色片的制作工艺，提高滤色片的良率，并使滤色片以及设有滤色片液晶显示装置在进行触控感应时噪声较低，触控检测较为灵敏。为解决上述问题，本专利技术提供一种滤色片的制作方法，包括：提供基板；在所述基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；在所述绝缘层中形成凹槽；在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；在所述绝缘层和第二金属网格层上形成黑色矩阵和彩色光阻。可选的，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：在所述基板上形成第一导电材料层，对所述第一导电材料层进行光刻，去掉部分第一导电材料层至露出基板表面，以形成第一金属网格层。可选的，在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层的步骤包括：通过涂布的方法在所述第一金属网格层上形成绝缘层，涂布方式包括旋涂、狭缝式涂布，或者刮涂，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内。可选的，在所述绝缘层中形成凹槽的步骤包括：对绝缘层进行曝光显影，去掉部分绝缘层，在绝缘层中形成凹槽，所述凹槽的深度在1到5微米的范围内，宽度在3到5微米的范围内。可选的，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤包括：在所述绝缘层上涂布第二导电材料层，使第二导电材料层填充在绝缘层的凹槽中，所述凹槽中的第二导电材料层形成所述第二金属网格层，使所述第二金属网格层上表面与所述绝缘层的上表面齐平。可选的，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层之后，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤还包括：对所述第二导电材料层进行固化处理。可选的，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层的方式包括：旋涂，或狭缝式涂布，或者刮涂。可选的，在所述基板上形成第一金属网格层之前，在所述基板上形成防反射层，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：在所述防反射层上形成所述第一金属网格层。可选的，在形成所述黑色矩阵和彩色光阻的步骤之后，所述形成方法还包括：在所述黑色矩阵和彩色光阻上覆盖平坦层，所述绝缘层与所述平坦层的材料相同。可选的，在所述彩色光阻和黑色矩阵上覆盖平坦层的步骤之后，所述形成方法还包括：在所述平坦层上形成间隔柱；或者，在所述平坦层上覆盖透明导电层，在所述透明导电层上形成间隔柱。可选的，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料相同或不同，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。本专利技术还提供一种滤色片，包括：基板；位于所述基板上的第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；形成于所述第一金属网格层上的绝缘层；形成于所述绝缘层中且与所述第一金属网格层相绝缘的第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极；所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；位于所述绝缘层和第二金属网格层上的黑色矩阵和彩色光阻。可选的，所述绝缘层采用涂布方式形成于第一金属网格层上，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滤色片的制作方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；在所述绝缘层中形成凹槽；在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；在所述绝缘层和第二金属网格层上形成黑色矩阵和彩色光阻。

【技术特征摘要】
1.一种滤色片的制作方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层，所述绝缘层为感光树脂材料；对所述感光树脂材料的绝缘层进行曝光和显影，去除部分绝缘层，在所述感光树脂材料的绝缘层中形成凹槽；在所述感光树脂材料的绝缘层中形成的凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；在所述感光树脂材料的绝缘层和第二金属网格层上形成黑色矩阵和彩色光阻。2.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：在所述基板上形成第一导电材料层，对所述第一导电材料层进行光刻，去掉部分第一导电材料层至露出基板表面，以形成第一金属网格层。3.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层的步骤包括：通过涂布的方法在所述第一金属网格层上形成绝缘层，涂布方式包括旋涂、狭缝式涂布，或者刮涂，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内。4.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，所述凹槽的深度在1到5微米的范围内，宽度在3到5微米的范围内。5.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤包括：在所述绝缘层上涂布第二导电材料层，使第二导电材料层填充在绝缘层的凹槽中，所述凹槽中的第二导电材料层形成所述第二金属网格层，使所述第二金属网格层上表面与所述绝缘层的上表面齐平。6.根据权利要求5所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层之后，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤还包括：对所述第二导电材料层进行固化处理。7.根据权利要求5所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层的方式包括：旋涂，或狭缝式涂布，或者刮涂。8.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成第一金属网格层之前，在所述基板上形成防反射层，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：在所述防反射层上形成所述第一金属网格层。9.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在形成所述黑色矩阵和彩色光阻的步骤之后，所述形成方法还包括：在所述黑色矩阵和彩色光阻上覆盖平坦层，所述绝缘层与所述平坦层的材料相同。10.根据权利要求9所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述彩色光阻和黑色矩阵上覆盖平坦层的步骤之后，所述形成方法还包括：在所述平坦层上形成间隔柱；或者，在所述平坦层上覆盖透明导电层，在所述透明导电层上形成间隔柱。11.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料相同或不同，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。12.一种滤色片，其特征在于，包括：基板；位于所述基板上的第一金属网格层，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张莉，唐文静，范刚洪，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31