掩膜版及滤光片制造技术

一种掩膜版及滤光片，其中，所述掩膜版包括：基板；吸收层，位于所述基板上；多个多边形开口，位于所述吸收层内且暴露出所述基板，所述多边形开口具有多个角部，相邻所述多边形开口的其中一个所述角部相对设置。利用本发明专利技术实施例提供的掩膜版形成的滤光片上的间隔柱，可以降低相邻间隔柱之间的相连高度，提高间隔柱尺寸的测量准确性。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及滤光片
本专利技术涉及液晶显示装置领域，特别是涉及一种掩膜版及滤光片。
技术介绍
随着科技的进步和发展，液晶显示器得到了广泛的应用，其中，薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面以及较高的生产良率等性能，目前逐渐占据了显示领域。现有的液晶显示器一般包括：TFT阵列基板、滤光片、位于TFT阵列基板和滤光片之间的液晶层。其中，滤光片上形成有遮光层和滤光层。为了使液晶中的液晶可以很好的固定在一定的空间内，避免液晶的流动造成显示不均匀的问题，在TFT阵列基板和滤光片之间形成多个间隔柱(PhotoSpacer，简称PS)。现有技术中采用光阻制作间隔柱，并且为了避免由于液晶显示器高温造成各个间隔柱延伸变形的不均匀，现有技术中采用在滤光片上制作有段差的主间隔柱和副间隔柱。所谓主间隔柱和副间隔柱之间具有段差是指：副间隔柱的上表面低于主间隔柱的上表面。现有技术中制作具有段差的主间隔柱和副间隔柱的常用方法包括半色调掩膜法(Half-to本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：/n基板；/n吸收层，位于所述基板上；/n多个多边形开口，位于所述吸收层内且暴露出所述基板，所述多边形开口具有多个角部，相邻所述多边形开口的其中一个所述角部相对设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
基板；
吸收层，位于所述基板上；
多个多边形开口，位于所述吸收层内且暴露出所述基板，所述多边形开口具有多个角部，相邻所述多边形开口的其中一个所述角部相对设置。


2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，相对设置的所述角部之间部分重叠，重叠的所述角部的顶点之间的距离小于等于所述多边形开口尺寸的14％。


3.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，相对设置的所述角部之间具有间隔。


4.如权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述多边形开口的形状为正多边形。


5.如权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述多边形开口的尺寸为所述正多边形的中心至所述正多边形任意一条边的垂直距离。


6.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，相邻所述多边形开口的中心之间的距离为20～8...

【专利技术属性】
技术研发人员：王红光，王菁晶，范刚洪，王群，徐广军，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31