本发明专利技术提供一种多晶硅层形成方法，包括：在一基板的一表面上沉积形成非晶硅离子参杂层及氮化硅层，所述氮化硅层位于非晶硅离子参杂层之上；其中，所述非晶硅离子参杂层中含有磷离子；在所述氮化硅层上形成非晶硅层；在所述非晶硅层上形成镍层；形成多晶硅层，即对形成镍层后的非晶硅层进行退火并诱发所述非晶硅层结晶。本发明专利技术还提供一种LTPS阵列基板及显示装置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示制造领域，尤其涉及一种制多晶硅层形成方法、LTPS阵列基板及显示装置。
技术介绍
目前LTPS阵列基板的多晶硅层的结晶技术可分为雷射结晶(ELA)技术，金属诱发结晶(MIC)与固相结晶技术(SPC)，其中最为广泛使用的量产技术为雷射结晶技术，然而造成制造成本高。而传统的SPC技术有温度过高退火时间过久的缺点，不适合量产。而金属诱发结晶的技术就是能够克服SPC的缺点，利用金属在非晶矽中形成金属矽化物来诱发结晶，可降低退火温度和减少退火时间，但是在多晶硅层会产生金属污染的问题，在基板制作时会造成漏电流过大而影响到电晶体的效能，进而影响液晶面板的质量。
技术实现思路
本专利技术提供一种多晶硅层形成方法，可以减少多晶硅层的金属污染，保证液晶面板的质量。本专利技术还涉及一种LTPS阵列基板。本专利技术提供一种多晶硅层形成方法，包括:在一基板的一表面上沉积形成非晶硅离子参杂层及氮化硅层，所述氮化硅层位于非晶硅离子参杂层之上；其中，所述非晶硅离子参杂层中含有磷离子；在所述氮化硅层上形成非晶硅层；在所述非晶硅层上形成镍层；形成多晶硅层，即对形成镍层后的非晶硅层进行退火并诱发所述非晶硅层结晶。其中，所述非晶硅离子参杂层为N型离子与非晶硅通过化学气相沉积方式形成。其中，所述氮化硅层通过化学气相沉积方式形成。其中，所述氮化硅层厚度为500?1000埃，成型温度300?450度。其中，所述非晶硅离子参杂层的厚度为500埃，成型温度300?450度。其中，所述对形成镍层后的非晶硅层进行退火的步骤是在有氮气的环境且恒温进行。其中，所述在所述非晶硅层上形成镍层的方式是通过物理溅射沉积方式形成。其中，在形成多晶硅层的步骤中，所述镍层的一部分镍与非晶硅层中的硅元素形成金属硅化物进行诱发结晶，另一部分镍被吸附到非晶硅离子参杂层及氮化硅层内。本专利技术还提供一种LTPS阵列基板，其特征在于，所述LTPS阵列基板包括基板及多晶硅层，所述多晶硅层通过以上所述的多晶硅层形成方法形成于所述基板上。本专利技术还提供一种显示装置，其包括以上所述的LTPS阵列基板。。本专利技术的LTPS阵列基板设有非晶硅离子参杂层，用于吸附多晶硅层结晶时剩余部分的镍；进而使剩余的镍远离所述多晶硅层，减少金属杂质的污染。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术的多晶硅层形成方法流程图。图2-图4是图1所示的多晶硅层形成方法制造流程中的截面示意图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术保护一种多晶硅层形成方法，主要是形成LTPS阵列基板的半导体层。请参阅图1与图2，所述多晶硅层形成方法包括:步骤SI，在一基板11的一表面上沉积形成非晶硅离子参杂层12及氮化硅层13，所述氮化硅层13位于非晶硅离子参杂层12之上；其中，所述非晶硅离子参杂层12中含有磷离子。本实施例中，所述非晶硅离子参杂层12为P离子与非晶硅a-si通过化学气相沉积方式形成。所述非晶硅离子参杂层12的厚度为500埃，成型温度300?450度，可经由流量与成分比例控制来沈积适合的非晶硅离子掺杂层，一般的成分为SiH4，H2与PH3。此非晶硅离子掺杂层不掺杂时，即沈积成分中没有PH3也有同样的吸附效果。本实施例中，所述氮化硅层13通过化学气相沉积方式形成。所述氮化硅层13的厚度为500?1000埃，成型温度300?450度。步骤S2，在所述氮化硅层13上形成非晶硅层14。请一并参阅图3，步骤S3，在所述非晶硅层14上形成镍层15。本实施例中，所述在所述非晶硅层14上形成镍层15的方式是通过物理溅射沉积方式形成，可藉由控制沈积的功率与流量来控制镀覆的镍的浓度。请参阅图4，步骤S4，形成多晶硅层16，即对形成镍层后的非晶硅层进行退火并诱发所述非晶硅层结晶，一般退火温度为500?600度数小时，或者使用快速退火炉(RTA)可降低退火的时间到数分钟都可达到退火的效果本实施例中，在形成多晶硅层的步骤中，镍层15的一部分镍与硅元素形成金属硅化物进行诱发结晶，另一部分镍被吸附到非晶硅离子参杂层及氮化娃层内。本实施例中，所述对形成镍层后的非晶硅层进行退火的步骤是在有氮气的环境且恒温进行。现有技术在半导体制程中，由于会受到晶格缺陷或金属类杂质污染的影响，造成元件漏电流而影响元件特性的技术问题，而本专利技术恰好避免了这个技术问题，即本专利技术的多晶硅层形成方法通过在非晶硅层下方形成具有吸附作用的非晶硅离子参杂层12及氮化硅层13，当退火时镍会和硅发生化学反应形成NiSi2(金属硅化物)进行诱发结晶，也会有剩余部分没反应的镍存在，而这些存在的镍会因浓度差的关系被氮化硅层13吸附，同时与非晶硅离子参杂层12层中的磷和镍发生反应形成稳定的磷化物，S卩非晶硅离子参杂层12层同样吸附剩余部分的镍；进而使剩余的镍远离所述多晶硅层16，减少金属杂质的污染。本专利技术还提供一种LTPS阵列基板及具有所述阵列基板的显示装置，所述LTPS阵列基板包括基板11及多晶硅层16，所述多晶硅层通过所述的多晶硅层形成方法形成于所述基板11上。所述基板11为玻璃板。所述LTPS阵列基板的多晶硅层以上的其余部分结构(图未示)制造方法，均是通过现有技术光刻工艺以及刻蚀、预定图形的工艺、光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形等工艺形成，再次不做赘述。以上所揭露的仅为本专利技术一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本专利技术之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本专利技术权利要求所作的等同变化，仍属于专利技术所涵盖的范围。【主权项】1.一种多晶硅层形成方法，包括: 在一基板的一表面上沉积形成非晶硅离子参杂层及氮化硅层，所述氮化硅层位于非晶硅离子参杂层之上；其中，所述非晶硅离子参杂层中含有磷离子； 在所述氮化硅层上形成非晶硅层； 在所述非晶硅层上形成镍层； 形成多晶硅层，即对形成镍层后的非晶硅层进行退火并诱发所述非晶硅层结晶。2.如权利要求1所述的多晶硅层形成方法，其特征在于，所述非晶硅离子参杂层为P型离子与非晶硅通过化学气相沉积方式形成。3.如权利要求1或2所述的多晶硅层形成方法，其特征在于，所述氮化硅层通过化学气相沉积方式形成。4.如权利要求1或2所述的多晶硅层形成方法，其特征在于，所述氮化硅层厚度为500?1000埃，成型温度300?450度。5.如权利要求1或2所述的多晶硅层形成方法，其特征在于，所述非晶硅离子参杂层的厚度为500埃，成型温度300?450度。6.如权利要求1或2所述的多晶硅层形成方法，其特征在于，所述对形成镍层后的非晶硅层进行退火的步骤是在有氮气的环境且恒温进行。7.如权利要求1或2所述的多晶硅层形成方法，其特征在于，所述在所述非晶硅层上形成镍层本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种多晶硅层形成方法，包括：在一基板的一表面上沉积形成非晶硅离子参杂层及氮化硅层，所述氮化硅层位于非晶硅离子参杂层之上；其中，所述非晶硅离子参杂层中含有磷离子；在所述氮化硅层上形成非晶硅层；在所述非晶硅层上形成镍层；形成多晶硅层，即对形成镍层后的非晶硅层进行退火并诱发所述非晶硅层结晶。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：胡国仁，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。