【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜领域，尤其是涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜技术中，往往将材料高温加热，然后冷却到基片形成薄膜，在镀膜过程中，由于材料会形成气体，气体具有不稳定性，并且由于真空镀膜的腔体的腔体较大，这样会使薄膜形成的不均匀；另外，由于真空腔体内存在多个蒸发源，当使用其中一个蒸发源时，会对其他的蒸发源造成污染，影响镀膜的质量。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种真空镀膜装置，结构简单，使用方便，镀膜均匀，能够避免蒸渡过程中的交叉污染。本专利技术的技术方案是：一种真空镀膜装置，包括腔体，所述的腔体内设置有探头、放置基片的模板、第一蒸发源和第二蒸发源；所述的腔体旁侧设置有气管；所述的气管与外部的真空泵连接；所述的第一蒸发源上设置有圆锥形的防护罩。进一步的，所述的圆锥形的防护罩可以用设置在第一蒸发源和第二蒸发源之间的挡板替代。进一步的，所述挡板为可活动的。本专利技术具有的优点和积极效果是：由于采用上述技术方案，结构简单，使用方便，镀膜均匀，能够避免蒸渡过程中的交叉污染。附图说明图1是本专利技术的结构示意图。图2是本专利技术实施例二的结构示意图。图中：1、腔体 2、探头 3、气管 4、真空泵 5、模板 6、第一蒸发源7、第二蒸发源 8、防护罩 9、挡板具体实施方式下面结合附图对本专利技术做详细说明。实施例一如图1所示，本专利技术一种真...
【技术保护点】
一种真空镀膜装置，包括腔体（1），其特征在于：所述的腔体（1）内设置有探头（2）、放置基片的模板（5）、第一蒸发源（6）和第二蒸发源（7）；所述的腔体（1）旁侧设置有气管（3）；所述的气管（3）与外部的真空泵（4）连接；所述的第一蒸发源（6）上设置有圆锥形的防护罩（8）。
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，包括腔体（1），其特征在于：所述的腔体（1）内设置有探
头（2）、放置基片的模板（5）、第一蒸发源（6）和第二蒸发源（7）；所述的腔体（1）
旁侧设置有气管（3）；所述的气管（3）与外部的真空泵（4）连接；所述的第一蒸发源
（6）上设置有圆锥形...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴军，
申请(专利权)人：天津普利爱特真空镀膜有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12
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