【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】单极存储器装置优先权申请本申请案主张2012年8月21日提出申请的序列号为13/590,758的美国申请案的优先权权益,所述美国申请案以全文引用的方式并入本文中。
本专利技术总体上涉及存储器装置,尤其涉及单极存储器装置。
技术介绍
半导体装置行业具有改进存储器装置的操作的受市场驱动的需要。可通过存储器装置设计及处理方面的进步来实现改进。
技术实现思路
本专利技术一方面涉及一种存储器设备,其包括电阻性存储器单元,其包含:氧汇;氧源;电介质,其安置于所述氧汇与所述氧源之间,所述电介质与所述氧汇接触并与所述氧源接触;及两个电极,其具有安置于其之间的所述氧汇、所述氧源及所述电介质,所述两个电极中的一者与所述氧汇接触且所述两个电极中的另一者与所述氧源接触,所述氧源及所述电介质经结构化:使得可通过将第一电压施加于所述两个电极之间来实现在所述电介质中设定导电细丝以将所述氧源耦合到所述氧汇,所述第一电压具有第一极性;及使得可通过将第二电压施加于所述两个电极之间而实现在所述电介质中重设所述细丝,所述第二电压具有第二极性,所述第二极性与所述第一极性相同。本专利技术还涉及一种存储器设备,其包括:存取装置;电阻性存储器元件,其耦合到所述存取装置,所述电阻性存储器元件包含:氧汇;氧源;电介质,其被结构化为操作可变电阻区域,所述电介质安置于所述氧汇与所述氧源之间,所述电介质与所述氧汇接触并与所述氧源接触;及两个电极,其中所述两个电极中的一者耦合到所述存取装置,所述两个电极具有安置于其之间的所述氧汇、所述氧源及所述电介质,所述两个电极中的一者与所述氧汇接触且所述两个电极中的另一者与所述氧源 ...
【技术保护点】
一种设备,其包括:电阻性存储器单元,其包含:氧汇;氧源;电介质,其安置于所述氧汇与所述氧源之间;及两个电极,其具有安置于其之间的所述氧汇、所述氧源及所述电介质,所述氧源及所述电介质经结构化:使得可通过将第一电压施加于所述两个电极之间来实现在所述电介质中设定导电细丝以将所述氧源耦合到所述氧汇,所述第一电压具有第一极性;及使得可通过将第二电压施加于所述两个电极之间而实现在所述电介质中重设所述细丝,所述第二电压具有第二极性,所述第二极性与所述第一极性相同。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.08.21 US 13/590,7581.一种存储器设备,其包括:电阻性存储器单元,其包含:氧汇;氧源;电介质,其安置于所述氧汇与所述氧源之间,所述电介质与所述氧汇接触并与所述氧源接触;及两个电极,其具有安置于其之间的所述氧汇、所述氧源及所述电介质,所述两个电极中的一者与所述氧汇接触且所述两个电极中的另一者与所述氧源接触,所述氧源及所述电介质经结构化:使得可通过将第一电压施加于所述两个电极之间来实现在所述电介质中设定导电细丝以将所述氧源耦合到所述氧汇,所述第一电压具有第一极性;及使得可通过将第二电压施加于所述两个电极之间而实现在所述电介质中重设所述细丝,所述第二电压具有第二极性,所述第二极性与所述第一极性相同。2.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述氧汇、所述氧源及所述电介质经结构化使得与用于实现所述重设相比,在所述两个电极之间使用量值较高、脉冲较短或量值既较高而脉冲又较短的电压来实现设定。3.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述氧汇、所述氧源及所述电介质经结构化使得与所述设定相比,所述电阻性存储器单元在所述重设中可借助较长脉冲或较短脉冲及较高电压或较低电压而操作。4.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述氧汇经结构化而在所述电阻性存储器单元的初始操作之前具有充足数目个空位使得所述电阻性存储器单元可操作达选定数目个循环。5.根据权利要求4所述的存储器设备,其中循环的所述数目等于至少一万个循环。6.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述电介质被结构化为所述氧汇与所述氧源之间的势垒区域。7.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述氧汇包含以下各项中的一或多者:(Pr,Ca)MnOx、(La,Sr)CaOx、(La,Sr)MnOx、SrTiOx,或呈ABO3、ABO3-δ、ABO3+δ、A2BO4、A0.6BO3、A1-xBO3、A0.3BO3及AnBnO3n+1的形式的材料,其中A及B为过渡金属离子。8.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述氧源包含以下各项中的一或多者:(Pr,Ca)MnOx、(La,Sr)CaOx、(La,Sr)MnOx、SrTiOx,或呈ABO3、ABO3-δ、ABO3+δ、A2BO4、A0.6BO3、A1-xBO3、A0.3BO3及AnBnO3n+1的形式的材料,其中A及B为过渡金属离子。9.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述两个电极中的一者或两者包含Pt、Ru、RuOx、Ir或SrRuO中的一或多者。10.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述电介质包含以下各项中的一或多者中的一或多者:ZrOx、YSZ、TaOx、HfSiOx、Al2O3、AlOx、CoO、CoOx、NiO、NiOx、Fe2O3、Fe3O4、FeOx、Cu2O、CuO、CuOx、Zn:FeOx、HfO2、HfOx、HfSiOx、SiOx、TiO2、TiOx、MgO、MgOx、MnO2、MnOx、Ti:NiO、TaOx、Ta2O5、WO2、WO3、WOx、ZnO、ZnOx、ZrO2、ZrOx、ZrSiOx,或这些材料的组合。11.根据权利要求1所述的存储器设备,其中所述电介质具有在约到约的范围内的厚度。12.一种存储器设备,其包括:存取装置;电阻性存储器元件,其耦合到所述存取装置,所述电阻性存储器元件包含:氧汇;氧源;电介质,其被结构化为操作可变电阻区域,所述电介质安置于所述氧汇与所述氧源之间,所述电介质与所述氧汇接触并与所述氧源接触;及两个电极,其中所述两个电极中的一者耦合到所述存取装置,所述两个电极具有安置于其之间的所述氧汇、所述氧源及所述电介质,所述两个电极中的一者与所述氧汇接触且所述两个电极中的另一者与所述氧源接触,所述氧源及所述电介质经结构化:使得可通过经由所述存取装置将第一电压施加于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:杜赖·维沙克·尼马尔·拉马斯瓦米,毕磊,
申请(专利权)人:美光科技公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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