【技术实现步骤摘要】
一种用于垂直结构LED芯片的铜基板的制备方法
本专利技术涉及一种铜基板的制备方法,特别是涉及一种用于垂直结构LED芯片的铜基板的制备方法。
技术介绍
发光二极管(LED)作为一种新型固体照明光源和绿色光源,具有体积小、耗电量低、环保、使用寿命长、高亮度、低热量以及多彩等突出特点,在室外照明、商业照明以及装饰工程等领域都具有广泛的应用。在照明领域,LED发光产品的应用正吸引着世人的目光。目前,Si衬底LED芯片已逐步产业化。但由于Si衬底本身对光的吸收率达90%,极大降低了LED芯片的光提取效率;同时Si衬底的导热性能远不及金属,散热性能较差,这些问题大大限制了Si衬底LED的应用。在提高LED芯片性能的方法中,应用较普遍而且有效的是采用基板转移技术制作垂直结构LED芯片,即在生长Si衬底上的LED外延片表面压焊或沉积一种新基板,并去除原先的Si衬底后再进行后续芯片制作。采用基板转移技术后的垂直结构LED芯片的光提取效率与转移前相比可提高3倍左右,同时新基板优良的导电性可以实现垂直结构芯片,并保证芯片产生的热量被及时传递出去,大大降低结温。铜由于成本低、散热好(39 ...
【技术保护点】
一种用于垂直结构LED芯片的铜基板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)在外延片表面蒸镀一层P型金属电极层,所述P型金属电极层中的金属为Cr或Pt,采用光刻或蒸镀技术在P型金属电极层上再镀上一层Au,得到第一基板;2)对第一基板进行清洗,达到去油效果后,用浓度为5%‑10%的H2SO4进行表面活化;3)将含磷0.04‑0.065wt%的磷铜阳极进行黑化1‑5h,然后进行清洗;4)将经过步骤2)处理后的第一基板与经过步骤3)处理后的磷铜阳极放入镀铜液中进行电镀,得到电镀样品;5)电镀完成后,对电镀样品进行清洗,去除残余的镀铜液,得到铜基板。
【技术特征摘要】
1.一种用于垂直结构LED芯片的铜基板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)在外延片表面蒸镀一层P型金属电极层,所述P型金属电极层中的金属为Cr或Pt,采用光刻或蒸镀技术在P型金属电极层上再镀上一层Au,得到第一基板;2)对第一基板进行清洗,达到去油效果后,用浓度为5%-10%的H2SO4进行表面活化;3)将含磷0.04-0.065wt%的磷铜阳极进行黑化1-5h,然后进行清洗;4)将经过步骤2)处理后的第一基板与经过步骤3)处理后的磷铜阳极放入镀铜液中进行电镀,得到电镀样品;其中,电场方向垂直、电镀时间3-6h,其中电流变化趋势呈n型,即第一小时和最后一小时用同样电流,剩余时间电流大于该值;5)电镀完成后,对电镀样品进行清洗,去除残余的镀铜液,得到铜基板。2.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:李国强,
申请(专利权)人:广州市众拓光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。