【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种掩模数据产生方法，用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后使用另一掩模将曝光光照射到基板上的多次曝光中使用的多个掩模的数据，其特征在于，该方法包含由计算机执行的以下步骤：获得包含多个图案元素的图案的数据，确定图案元素的配置限制条件的规划，分析图案元素之间的距离，确定距离限制条件的规划，以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量，并由此划分图案。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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