一种新型倒装芯片及其制作与封装方法技术

技术编号:11471584 阅读:83 留言:0更新日期:2015-05-20 01:18
本发明专利技术提供一种新型倒装芯片及其制作与封装方法,该倒装芯片包括透明衬底,在透明衬底上表面依次层叠有N型外延层、载流子复合层及P型外延层,所述N型外延层与P型外延层均为掺杂的氮化镓外延层。所述N型外延层下表面与所述透明衬底上表面面积相等,且所述载流子复合层上表面与所述P型外延层下表面面积相等且小于N型外延层下表面面积;所述N型外延层一端的上表面依次层叠设有N-GaN电极和第一锡球,所述P型外延层远离N-GaN电极的一端的上表面依次层叠设有P-GaN电极和第二锡球;所述N-GaN电极和P-GaN电极的间距约为300μm。该倒装芯片结构简单、成本较低且出光效率高,可实现全周角发光。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种新型倒装芯片,包括透明衬底,在透明衬底上表面依次层叠有N型外延层、载流子复合层及P型外延层,所述N型外延层与P型外延层均为掺杂的氮化镓外延层;其特征在于:所述N型外延层下表面与所述透明衬底上表面面积相等,所述载流子复合层上表面与所述P型外延层下表面面积相等且小于N型外延层下表面面积;所述N型外延层一端的上表面依次层叠设有N‑GaN电极和第一锡球,所述P型外延层远离N‑GaN电极的一端的上表面依次层叠设有P‑GaN电极和第二锡球;所述N‑GaN电极和P‑GaN电极的间距约为300μm;所述P型外延层和N型外延层上表面以及P型外延层和载流子复合层靠近N‑GaN电极的侧面裸露处设有一阻焊保护层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:高凯颜海灿
申请(专利权)人:常州乐迪电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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