用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备制造技术

本发明专利技术提供一种用于修正掩模的倾角的设备。所述设备包含：掩模支撑主体，其经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，其经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，其为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，其经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XY平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，激光束穿透图像与参考焦点图像匹配。

【技术实现步骤摘要】
用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备
本专利技术涉及一种用于修正掩模的倾角的设备，所述掩模用于通过使用激光束使基质图案化，所述用于修正掩模的倾角的设备应用于基质处理设备。
技术介绍
根据有机电致发光装置的材料和工艺，有机电致发光显示装置可以分为使用湿法工艺的高分子装置和使用沉积工艺的低分子装置。在使高分子发光层或低分子发光层图案化的方法之中的喷墨印刷方法的情况下，除了发光层之外的有机层在材料上受到限制，并且不便于在基质上形成用于喷墨印刷的结构。而且，当发光层通过沉积工艺得到图案化时，由于金属掩模的使用而难以制造大型装置。 作为图案化方法的替代技术，使用激光诱导热成像(13861 111(11106(1 1111叫1118，1111)方法。III！方法被定义为这样一种方法，其中从光源产生的激光束被转换成热能，并且随后用于形成图案的材料由于热能而传递到基质上以在基质上形成图案。为此，施体薄膜具有这样一种结构，其中作为受体的基质完全由施体薄膜覆盖，并且施体薄膜和基质被固定到载物台上。施体薄膜和基质通过层压工艺进一步彼此附接，并且随后通过使用激光束传递到基质上以使基质完全图案化。也就是说，当激光被照射到发光层先前形成于其上的施体薄膜或施体基质上时，发光层与施体薄膜或施体基质分离并且随后被传递到受体基质上以形成像素。 图1是使用激光束的基质处理设备的视图。 使用激光束的基质处理设备10包含激光源300，所述激光源300用于产生激光束；投影透镜400，所述投影透镜400设置在激光源300的下方；以及掩模1，所述掩模1设置在激光源300与投影透镜400之间并且通过使用激光束I传递图案。然而，当掩模1由新的掩模替换时，激光束在基质上的焦点和位置方面有所变化。当替换掩模时，掩模可以在高度、倾角、位置等等方面有所变化，并且因此激光束也可以在基质上的焦点和位置方面有所变化。由于激光束的焦点和位置因掩模的替换而变化，因此基质处理过程可能无法顺利地执行基质处理过程。 【现有技术文献】 【专利文献】 第2012-0042144号韩国专利公开案
技术实现思路
本专利技术提供一种用于修正倾角的设备，以在即使替换掩模的情况下也能防止激光束的焦点和位置发生变化。 本专利技术还提供一种基质处理设备，以在即使替换掩模的情况下也能稳定地处理基质。 根据一个不例性实施例，用于修正掩模的倾角的设备包含:掩模支撑主体，所述掩模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变掩模支撑主体的IX平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XV平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。 所述掩模支撑主体可以包含:掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形状，所述掩模固持器具有第一、第二、第三和第四顶点，其中掩模被放置在掩模固持器上，并且掩模固持器的XV平面在倾角方面有所变化；掩模状态，所述掩模状态经配置以支撑其顶部表面上的掩模固持器；以及倾角变化模块，所述倾角变化模块经配置以单独地调节掩模固持器的顶点的2轴高度，从而改变XV平面的倾角。 所述倾角变化模块可以包含:高度调节部分，所述高度调节部分经配置以使掩模固持器的第一、第二、和第三顶点的2轴高度能够单独地升高或降低；以及支撑主体，所述支撑主体经配置以将掩模固持器的第四顶点连接到掩模载物台上。 所述高度调节部分可以包含:第一高度调节部分，所述第一高度调节部分经配置以使掩模固持器的第一顶点的2轴高度能够升高或降低；第二高度调节部分，所述第二高度调节部分经配置以使掩模固持器的第二顶点的2轴高度能够升高或降低；以及第三高度调节部分，所述第三高度调节部分经配置以使掩模固持器的第三顶点的2轴高度能够升高或降低。 根据另一示例性实施例，基质处理设备包含:腔室，所述腔室具有基质在其中图案化的内部空间；基质支撑件，所述基质支撑件设置在所述内部空间中以支撑基质；激光源，所述激光源经配置以产生激光束；掩模支撑主体，所述掩模支撑主体设置在激光源与基质支撑件之间，以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变掩模支撑主体的XV平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元经配置以为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制掩模支撑主体移动单元，由此改变掩模的XV平面的倾角，以使得当激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。 【附图说明】 可以从结合附图所作的以下描述中更详细地理解示例性实施例，其中: 图1是使用激光束的基质处理设备的视图。 图2是说明根据一个示例性实施例的基质处理设备的构成的视图。 图3是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的耦合图。 图4是根据一个示例性实施例的掩模支撑主体的分解图。 图5是根据一个示例性实施例的说明其中掩模载物台移动部分被实现为线性电动机11101:01-, 11)引导件的实例的视图。 图6(4、(幻是说明其中高度调节部分在2轴长度上进行调节，以使得掩模固持器的第一顶点能够在2轴方向上升高的状态的视图。 图7(4、(?)是说明其中高度调节部分在2轴长度上进行调节，以使得掩模固持器的第三顶点能够在2轴方向上升高的状态的视图。 主要元件标号说明: 1:导轨 2:平台 10:基质处理设备 100:腔室 200:基质支撑件 300:激光源 350:反射镜 400:投影透镜 500:掩模支撑主体 510:掩模固持器 510&:边缘 520:倾角变化模块 521:支撑主体 522,5228,52213,5220:高度调节部分 530:掩模载物台 600:控制单元 700:掩模支撑主体移动单元 800:照相机单元 1:掩模 I激光束 1:基质 【具体实施方式】 下文中将参考附图详细描述特定实施例。然而，本专利技术可以以不同的形式来体现，且不应解释为限于本文所陈述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本专利技术透彻和完整，且将本专利技术的范围完整地传达给所属领域的技术人员。全文中相同的参考编号指代相同的元件。 图2是说明根据一个示例性实施例的基质处理设备的构成的视图。 在基质处理设备10中，从激光源300中产生的激光束穿过掩模1并且被照射到基质评上。此处，形成于基质I上的施体薄膜的发光层被分离且随后基质I经图案化以形成像素。为此，基质处理设备10包含腔室100、基质支撑件200、激光源300、掩模支撑主体500、掩模支撑主体移动单元700、照相机单元800以及控制单元600。 尽管腔室100具有带有内部空间的矩形盒形状，但是本专利技术不限于此。举例来说，腔室可以具有多种容器形状。也就是说，腔室100可以具有圆柱体形状或多边形盒形状。设置在内部空间中的基质经图案化以形成像素。用于加载/卸载基质的入口被界定在腔室的一个侧表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于修正掩模的倾角的设备，其特征在于，所述设备包括：掩模支撑主体，所述掩模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模；掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变所述掩模支撑主体的XY平面的倾角；照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及控制单元，所述控制单元经配置以控制所述掩模支撑主体移动单元，由此改变所述掩模的所述XY平面的所述倾角，以使得当所述激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。

【技术特征摘要】
2013.08.28 KR 10-2013-01024781.一种用于修正掩模的倾角的设备，其特征在于，所述设备包括: 掩模支撑主体，所述掩模支撑主体经配置以支撑其上形成有图案的掩模； 掩模支撑主体移动单元，所述掩模支撑主体移动单元经配置以改变所述掩模支撑主体的XY平面的倾角； 照相机单元，所述照相机单元为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照，以产生激光束穿透图像；以及 控制单元，所述控制单元经配置以控制所述掩模支撑主体移动单元，由此改变所述掩模的所述XY平面的所述倾角，以使得当所述激光束穿透图像偏离参考焦点图像时，所述激光束穿透图像与所述参考焦点图像匹配。2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述照相机单元设置在所述基质支撑件中。3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述照相机单元包括红外线照相机和近红外线照相机中的一者。4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述掩模支撑主体包括: 掩模固持器，所述掩模固持器具有中心部分穿透的框架形状，所述掩模固持器具有第一顶点、第二顶点、第三顶点和第四顶点，其中所述掩模放置在所述掩模固持器上，并且所述掩模固持器的所述XY平面的倾角是变化的； 掩模状态，所述掩模状态经配置以支撑其顶部表面上的所述掩模固持器；以及倾角变化模块，所述倾角变化模块经配置以单独地调节所述掩模固持器的所述顶点的Z轴高度，以改变所述XY平面的所述倾角。5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述倾角变化模块包括: 高度调节部分，所述高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第一顶点、所述第二顶点和所述第三顶点的所述Z轴高度能够单独地升高或降低；以及 支撑主体，所述支撑主体经配置以将所述掩模固持器的所述第四顶点连接到掩模载物台上。6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高度调节部分是在其纵向方向上长度可变地调节的电动机，并且其纵向方向上的两端分别连接到所述掩模载物台和所述掩模固持器的所述顶点上。7.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述高度调节部分包括: 第一高度调节部分，所述第一高度调节部分经配置以使所述掩模固持器的所述第一顶点的所述Z轴高度能够升高或降低； 第二高度调节部分，所述第二高度调节...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁相熙，白圣焕，金戊一，金镐岩，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR