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用于修正掩模的倾角的设备以及基质处理设备制造技术
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文档序号:11158969
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本发明提供一种用于修正掩模的倾角的设备。所述设备包含:掩模支撑主体,其经配置以支撑其上形成有图案的掩模;掩模支撑主体移动单元,其经配置以改变掩模支撑主体的XY平面的倾角;照相机单元,其为穿过设置在基质支撑件上的基质的激光束拍照,以产生激光束...
该专利属于AP系统股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。
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