本发明专利技术适用于光掩模生产领域，尤其涉及降低光掩模板条纹的方法及装置，所述方法包括下述步骤：通过光掩模检测板测量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线；根据所述精度变化曲线在进行光刻之前对所述扫描带重叠部分进行反补。本发明专利技术通过对产生光掩模板条纹的原因，在生产光掩模板进行光刻之前对所述扫描带重叠部分图形进行反补，使得光刻后反补的效果抵消了由于误差导致的出现条纹的情况，使得降低光掩模板出现条纹的情况。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光光掩模生产领域，尤其涉及降低光掩模板条纹的方法及装置。
技术介绍
平板显示器显示是基于每个像素对光的反射、透过、或发光实现的，这些像素点的反射、透过、或发光的強度如果在同等系统驱动条件下，如果反射、透过、或发光的強度不一致，对于同样亮度与顔色的区域，会让人的眼睛感觉到不同亮度或顔色的图像。而引起这些不同的主要原因，是在显示器设计时本来相同的像素图形，由于在制造中的各个环节的误差，导致最终产品上的部分像素的大小发生细微的变化。由于人眼对光具有极强的敏感性，导致最終人眼在显示器上看到本来应该相同的顔色与亮度的区域出现明暗变化的区块或线条。产生这一问题的主要原因之ー是用于复制平板显示器线路的光掩模板出现条纹。条纹的产生主要有以下几种情形光刻机扫描带之间的重叠区与非重叠区的能量差别，弓丨起的在光掩模板上不同位置的像素图形出现差别；多光束光刻机，不同的光刻机光束之间的能量差异，引起的光掩模板上不同位置的像素图形出现差别；在同样的光刻机能量作用下，由于涂胶不均，引起的光掩模板上不同位置的相素图形出现差別。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供降低光掩模板条纹的方法及装置，g在解决由于光掩模板在制造过程中的误差，导致的光掩模板上出现条纹的问题。本专利技术实施例是这样实现的，降低光掩模板条纹的方法，所述方法包括下述步骤通过光掩模检测板測量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线；根据所述精度变化曲线在进行光刻之前对所述扫描带重叠部分进行反补。进ー步的，在通过光掩模检测板測量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线步骤前还包括设计制作光掩模检测板，所述光掩模检测板以光掩模制作设备或平板显示器曝光设备的最高设计能力设计最小线缝，最小线缝之间距离不等于光刻机扫描带宽度，且最小线缝之间的距离与光刻机扫描带宽度不成倍数关系。降低光掩模板条纹的方法，所述方法包括下述步骤按照光刻机设备的光斑大小，光束数量计算图形由于光束能量差异造成的条纹的图形收缩系数；根据所述收缩系数对图形中的所有顶点进行收缩，得到收缩图形；根据所述收缩图形在将收缩图形进行光刻前，在设备上使用相反系数进行反补。降低光掩模板条纹的方法，所述方法包括下述步骤设计制作光掩模检测板；根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光強度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；将图形按照划分间隔进行分割，分割成小単元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补。进ー步的，在根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差步骤前还包括设计制作光掩模检测板，所述光掩模检测板以光掩模制作设备或平板显示器曝光设备的最高设计能力设计最小线缝。本专利技术实施例的另一目的在于提供降低光掩模板条纹的装置，所述装置包括重叠检测単元，用于通过光掩模检测板测量像素图形和扫描带重叠部分的精度变化曲线；重叠区反补单元，用于根据所述精度变化曲线在进行光刻之前对所述扫描带重叠部分进行反补。降低光掩模板条纹的装置，所述装置包括收缩系数测量单元，用于按照光刻机设备的光斑大小，光束数量计算图形由于光束能量差异造成的条纹的图形收缩系数；收缩图形计算单元，用于根据所述收缩系数对图形中的所有顶点进行收缩，得到收缩图形；反补单元，用于根据所述收缩图形在将收缩图形进行光刻前，在设备上使用相反系数进行反补。降低光掩模板条纹的装置，所述装置包括光强或涂胶测量単元，用于根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；图形分割反补单元，用于将图形按照划分间隔进行分割，分割成小単元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小単元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补。本专利技术通过降低光掩模板条纹的方法及装置，解决了由于生成光掩模板过程由于生产误差的问题，使得光掩模板上出现条纹的问题，通过在对光掩模板进行光刻前光刻采用的图形进行反补，使得光刻时使用的图形是经过反补的，反补后的图形能够抵消了由于误差导致的出现条纹的情况，使得降低光掩模板出现条纹的情況。附图说明图1是本专利技术第一实施例提供的降低光掩模板条纹的方法的实现流程图；图2是本专利技术第一实施例提供的扫描带能量周期图；图3是本专利技术第一实施例提供的显示器的像素图形周期变化图；图4是本专利技术第一实施例提供的反补光掩模板设计方法图；图5是本专利技术第一实施例提供的反补光掩模测试版示意图；图6是本专利技术第二实施例提供的降低光掩模板条纹的方法的实现流程图；图7是本专利技术第三实施例提供的降低光掩模板条纹的方法的实现流程图8是本专利技术第三实施例提供的測量得到的每个区域的偏差示意图；图9是本专利技术第三实施例提供的计算补偿点的示意图；图10是本专利技术第四实施例提供的降低光掩模板条纹装置的结构图；图11是本专利技术第四实施例提供的降低光掩模板条纹装置的结构图；图12是本专利技术第四实施例提供的降低光掩模板条纹装置的结构图。具体实施例方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进ー步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。以下结合具体实施例对本专利技术的具体实现进行详细描述实施例一:图1示出了本专利技术第一实施例提供的降低光掩模板条纹的方法的实现流程，详述如下SlOl中，通过光掩模检测板測量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线。由于光刻机设备扫描带与像素图形都是呈现周期性的变化的，其中当两个扫描带的重叠区与像素图形的边沿部分重叠时就会在生产中出现光掩模板的条纹，具体的光刻机设备扫描带的宽度最大值是固定的，在扫描带的垂直方向，曝光到整个光掩模板上的能量也是成周期变化的，具体的光刻机设备曝光能量周期如图2所示，即与扫描带重叠区呈周期变化。对于显示器的像素图形，同样在X方向及Y方向都也存在周期性的变化，如图3所示。当两者扫描带的重叠区与像素图形边沿重叠时就会出现光掩模板条纹。由于光刻机设备光束能量周期与显示器的像素图形周期都是不同的，由于扫描带重叠区的存在，而引起曝光能量变化，导致同一像素图形出现在重叠区与非重叠区的时，最終的图形尺寸出现偏差，从而产生条纹，现有技术方案通过改变光刻机的扫描带的宽度与像素达到一定的倍数关系，以减少条纹产生，，由于扫描带被变窄导致进行光刻时效率较低。本专利技术通过光掩模检测板測量得到像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线。S102中，根据所述精度变化曲线在进行光刻前对所述扫描带重叠部分进行反补。将图形按照光刻机设备的扫描带最大宽度，沿扫描带方向分割成条状，对每个扫描带按照图形周期进行反补，反补的具体方法按图形像素的大小，将分割出的扫描带宽度按照图形边沿对照能量曲线的位置，然后按照能量曲线的变化，将线段的顶点向图形内或图形外移动，即如果图形显示是缺少，则对缺少的部分进行图形平移，缺少多少，则反补多少，使得在原有图形上缺少的部分和反补上去的图形点完全相同，只有坐标方向相反，同样对于多出的部分则按照同样的本文档来自技高网...
【技术保护点】
降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：通过光掩模检测板测量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线；根据所述精度变化曲线在进行光刻之前对所述扫描带重叠部分进行反补。
【技术特征摘要】
1.降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤 通过光掩模检测板测量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线； 根据所述精度变化曲线在进行光刻之前对所述扫描带重叠部分进行反补。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法在通过光掩模检测板测量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线步骤前还包括 设计制作光掩模检测板，所述光掩模检测板以光掩模制作设备或平板显示器曝光设备的最高设计能力设计最小线缝，最小线缝之间距离不等于光刻机扫描带宽度，且最小线缝之间的距离与光刻机扫描带宽度不成倍数关系。3.降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤 按照光刻机设备的光斑大小，光束数量计算图形由于光束能量差异造成的条纹的图形收缩系数； 根据所述收缩系数对图形中的所有顶点进行收缩，得到收缩图形； 根据所述收缩图形在将收缩图形进行光刻前，在设备上使用相反系数进行反补。4.降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤 设计制作光掩模检测板； 根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差； 将图形按照矩阵点划分间隔进行分割，分割成小单元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补。5.如权利要求4所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：邓振玉，张沛，李跃松，
申请(专利权)人：深圳清溢光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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