一种IC掩膜版CD测量机制造技术

本技术公开了一种IC掩膜版CD测量机，包括固定底架、花岗岩基座、XY轴精密中空平台、电气控制系统、透射光源系统、Z轴支架、Z轴精密模组、显微成像系统、主动式隔振机构。本技术所提出的一种IC掩膜版CD测量机，实现了对于IC掩膜版的测量，设备最小可测量线缝宽度为0.4um,测量精度与重复精度可达5nm，可兼容多尺寸掩膜版，整机外形尺寸较小，可节省无尘室的宝贵空间。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及工业精密控制设备，具体是一种ic掩膜版cd测量机。

技术介绍

1、掩膜版(photomask或mask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版(photomask)的生产工序，包括图形设计、图形转换、涂胶、光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、cd测量(critical dimension)、tp测量(total pitch)、aoi检测、缺陷修补、pellicle贴膜等。cd测量(critical dimension)是指掩膜版生产过程中，对设计图纸的线缝宽度特征尺寸进行测量，cd测量的精度与重复精度要求在30nm内。

2、目前国内行业内的cd测量设备一般均从欧美日发达国家进口，比如德国莱卡、日本尼康与v-tech等，价格昂贵。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种ic掩膜版cd测量机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：

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【技术保护点】

1.一种IC掩膜版CD测量机，包括固定底架、花岗岩基座、XY轴精密中空平台、电气控制系统、透射光源系统、Z轴支架、Z轴精密模组、显微成像系统、主动式隔振机构；其特征在于：

2.根据权利要求1所述的一种IC掩膜版CD测量机，其特征在于：还包括MASK上下版机械手，MASK上下版机械手固定设置在固定底架上，用于抓取MASK放置或抓离XY轴精密中空平台，MASK上下版机械手设置有四个卡爪，其中至少有两个卡爪通过气动控制伸缩。

3.根据权利要求1所述的一种IC掩膜版CD测量机，其特征在于：还包括MASK中转盒，MASK中转盒设置在固定底架的边侧。>

4.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种ic掩膜版cd测量机，包括固定底架、花岗岩基座、xy轴精密中空平台、电气控制系统、透射光源系统、z轴支架、z轴精密模组、显微成像系统、主动式隔振机构；其特征在于：

2.根据权利要求1所述的一种ic掩膜版cd测量机，其特征在于：还包括mask上下版机械手，mask上下版机械手固定设置在固定底架上，用于抓取mask放置或抓离xy轴精密中空平台，mask上下版机械手设置有四个卡爪，其中至少有两个卡爪通过气动控制伸缩。

3.根据权利要求1所述的一种ic掩膜版cd测量机，其特征在于：还包括mask中转盒，mask中转盒设置在固定底架的边侧。

4.根据权利要求1所述的一种ic掩膜版cd测量机，其特征在于：还包括反射光源系统，反射光源系统设置在显微成像系统上，用于向mask发射反射光源，以实现对于透射光在mask上的定位，为显微成像系统提供精准成像定位。

5.根据权利要求1所述的一种ic掩膜版cd测量机，其特征在于：xy轴精密中空平台包括x轴模组、y轴模组和mas...

【专利技术属性】
技术研发人员：王景新，张建国，
申请(专利权)人：深圳清溢光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：