显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置制造方法及图纸

技术编号:10938862 阅读:102 留言:0更新日期:2015-01-21 19:09
本发明专利技术公开了一种显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置。该显示基板包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵,所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。本发明专利技术提供的技术方案中,彩色矩阵图形和黑矩阵位于衬底基板入光面上,彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面,该凹凸不平表面可使透过的光线散射,极大的减少了垂直透射的光线,从而降低了显示装置的闪烁不良,提高了产品质量且降低了成本。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置。该显示基板包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵,所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。本专利技术提供的技术方案中,彩色矩阵图形和黑矩阵位于衬底基板入光面上,彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面,该凹凸不平表面可使透过的光线散射,极大的减少了垂直透射的光线,从而降低了显示装置的闪烁不良,提高了产品质量且降低了成本。【专利说明】显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种显示基板及其制造方法、测试方法和显示装置。
技术介绍
目前,高分辨率是显示装置发展的一个主要趋势,然而随着高分辨率显示装置的发展,对制造显示装置的显示材料提出了更为苛刻的要求。图1a为现有技术中彩膜基板的光线示意图,图1b为彩色矩阵图形和黑矩阵的结构示意图,如图1a和图1b所示,该彩膜基板包括衬底基板11、偏振片12、黑矩阵13和多个彩色矩阵图形,彩色矩阵图形和黑矩阵13位于衬底基板11的入光面,偏振片12位于衬底基板11的出光面,黑矩阵在图1a中未具体画出。其中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板,其特征在于,包括衬底基板和位于所述衬底基板入光面上的彩色矩阵图形和黑矩阵,所述彩色矩阵图形的表面为凹凸不平表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王宇鹏
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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