一种微机械结构牺牲层及微机械结构制作方法技术

本发明专利技术提供了一种微机械结构牺牲层及微机械结构制作方法。采用低熔点合金作为材料制作微机械结构牺牲层；所述低熔点合金是指合金熔点在300摄氏度以下的合金材料。能够使微机械结构牺牲层达到数百微米，可快速有效的去除，并与有机物兼容。基于该牺牲层工艺的微机械结构制作方法操作简单，工艺周期相对于常用薄膜沉积方法缩短4倍。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种微机械结构牺牲层制作方法，其特征在于：采用低熔点合金作为材料制作牺牲层；所述低熔点合金是指合金熔点在300摄氏度以下的合金材料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：彭挺，林玉敏，刘志辉，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第二十九研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51