导轨式设备行走结构制造技术

技术编号:10691244 阅读:331 留言:0更新日期:2014-11-26 18:56
本发明专利技术涉及设备行走结构的技术领域,公开了导轨式设备行走结构,包括两平台主梁及放置在平台主梁下方的导轨梁,两平台主梁之间设有用于调节两平台主梁之间间距的横向调节机构,各导轨梁与其上方的平台主梁之间设有用于调节导轨梁与其上方的平台主梁之间间距的纵向调节机构,且纵向调节机构的下端与导轨梁之间设有移动机构。将两个导轨梁放置在人行间隙带上,调节横向调节机构,使得纵向调节机构的下端与导轨梁配合,纵向调节机构可以沿着导轨梁移动;根据需要,调节纵向调节机构,使得两平台主梁处于合适的高度,这样,勘察设备等不需要直接在特殊场地中直接行走,解决其行走困难的问题,不会对场地造成损坏,行走效率高,大大提高施工进度。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及设备行走结构的
,公开了导轨式设备行走结构,包括两平台主梁及放置在平台主梁下方的导轨梁,两平台主梁之间设有用于调节两平台主梁之间间距的横向调节机构,各导轨梁与其上方的平台主梁之间设有用于调节导轨梁与其上方的平台主梁之间间距的纵向调节机构,且纵向调节机构的下端与导轨梁之间设有移动机构。将两个导轨梁放置在人行间隙带上,调节横向调节机构,使得纵向调节机构的下端与导轨梁配合,纵向调节机构可以沿着导轨梁移动;根据需要,调节纵向调节机构,使得两平台主梁处于合适的高度,这样,勘察设备等不需要直接在特殊场地中直接行走,解决其行走困难的问题,不会对场地造成损坏,行走效率高,大大提高施工进度。【专利说明】导轨式设备行走结构
本专利技术涉及设备行走结构的
,尤其涉及导轨式设备行走结构。
技术介绍
岩土工程勘察钻探施工等经常需在菜地、沟边、沼泽等场地进行或经过,这样,钻机等勘察设备在经过这些场地时,会对场地造成大面积损坏,如毁坏大面积菜地等,造成不必要的损失;另外,有时设备需要经过沼泽、浅水域等场地,勘察设备的搬运或行走困难,严重影响施工进度,甚至导致设备无法就位。 现有技术中,还没有相对应的结构设备,可以使勘察设备在通行菜地、沟边、沼泽等场地时,不毁坏菜地,且能快捷在沼泽、浅水域等疑难场地行走。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供导轨式设备行走结构,旨在解决现有技术中的勘察设备在菜地、沼泽、沟边等场地中行走困难,导致损坏场地以及影响施工进度的问题。 本专利技术是这样实现的,导轨式设备行走结构,包括两相间平行布置的平台主梁,两所述平台主梁之间设有用于调节两所述平台主梁之间间距的横向调节机构;所述导轨式设备行走结构还包括两对应放置在平台主梁下方的导轨梁,各所述导轨梁与其上方的平台主梁之间设有用于调节所述导轨梁与其上方的平台主梁之间间距的纵向调节机构,且所述纵向调节机构的下端与所述导轨梁之间设有使所述纵向调节机构沿所述导轨梁移动的移动机构。 进一步地,所述横向调节机构包括两交叉铰接布置且设于两所述平台主梁之间的横向交叉杆,两横向交叉杆的中部相互铰接,形成第一横向铰接点;各所述横向交叉杆的一端活动连接于一所述平台主梁,另一端交接于另一所述平台主梁。 进一步地,各所述平台主梁的内侧设有内侧开口且沿所述平台主梁长度延伸的第一槽条,所述横向交叉杆的一端连接有横向滚轮,所述横向滚轮置于所述第一槽条中。 进一步地,两所述平台主梁之间设有两横向调节杆,两所述横向调节杆的一端相互铰接,形成第二横向铰接点,另一端分别对应铰接于两所述平台主梁,且两所述横向调节杆与两横向交叉杆呈相对布置。 进一步地,于第一横向铰接点与第二横向铰接点之间,穿设有横向调节螺杆,所述横向调节螺杆的一段设有横向固定端头,另一端朝外延伸,且套设有横向调节螺母。 进一步地,所述纵向调节机构包括两交叉铰接布置且置于平台主梁与其下方的导轨梁之间的纵向交叉杆,两所述纵向交叉杆的中部相互铰接,形成第一纵向铰接点;两所述纵向交叉杆的下端分别通过所述移动机构连接于所述导轨梁,一所述纵向交叉杆的上端活动连接于所述平台主梁,另一所述纵向交叉杆的上端铰接于所述平台主梁。 进一步地,所述移动机构包括设置在导轨梁上端且上端开口的第二槽条以及设于所述纵向交叉杆下端的第一纵向滚轮,所述第二槽条沿所述导轨梁延伸,所述第一纵向滚轮置于所述第二槽条中。 进一步地,所述平台主梁的下端设有下端开口且沿所述平台主梁延伸的第三槽条,一所述纵向主梁的上端连接有第二纵向滚轮,所述第二纵向滚轮置于所述第三槽条中。 进一步地,所述平台主梁与其下方的导轨梁之间设有两个纵向调节杆,两所述纵向调节杆的一端相互铰接,形成第二纵向铰接点,一所述纵向调节杆的另一端铰接于所述平台主梁,另一所述纵向调节杆的另一端交接于与其相邻的纵向交叉杆的下端,且两所述纵向调节杆与两所述纵向交叉杆相对布置。 进一步地,所述第一纵向铰接点与第二纵向铰接点之间穿设有纵向调节螺杆,所述纵向调节螺杆的一端设有纵向固定端头,另一端套设有纵向调节螺母。 与现有技术相比,当需要在一些特殊场地运输勘察设备等时,将两个导轨梁放置在人行间隙带上,然后调节两平台主梁之间的横向调节机构,调整两个平台主梁之间的间距,使得纵向调节机构的下端与导轨梁配合,这样,可以使得纵向调节机构以及平台主梁沿着导轨梁移动;接着,根据需要,调节纵向调节机构,使得两平台主梁处于合适的高度,这样,勘察设备等不需要直接在菜地、沼泽、沟边等场地中直接行走,解决其行走困难的问题,且不会对场地造成损坏,其行走效率也高,大大提高施工进度。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术实施例提供的导轨式设备行走结构的立体示意图; 图2是本专利技术实施例提供的纵向调节机构分别与平台主梁、导轨梁之间的配合示意图; 图3是本专利技术实施例提供的横向调节机构分别与两平台主梁之间的配合示意图; 图4是本专利技术实施例提供的导轨梁铺设在菜地中的俯视示意图。 【具体实施方式】 为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。 以下结合具体实施例对本专利技术的实现进行详细的描述。 如图1?4所示,为本专利技术提供的较佳实施例。 参照图1?4所示,本实施例提供的导轨式设备行走结构1,可以放置在菜地、沼泽、沟边等场地,用于供勘察设备等行走,当然,其也可以用于供其他各种类型的设备行走,并不仅限制于本实施例中的运用。 导轨式设备行走结构I包括两相间平行布置的平台主梁11,平台主梁11呈条形状,根据实际需要,可以设置为直条时,或者对于一些特殊需要,还可以设置为弯条式等。两个平台主梁11相邻布置,可以是平行,也可以非平行布置,且在两个平台主梁11之间设有横向调节机构13,该横向调节机构13分别连接于两平台主梁11,用于调节两平台主梁11之间相离或相向移动。 导轨式设备行走结构I还包括两导轨梁12,两导轨梁12对应与两平台主梁11对应,且位于平台主梁11的下方,也就是各平台主梁11的下方设置有导轨梁12。各平台主梁11与其下方的导轨梁12之间设有纵向调节机构14,该纵向调节机构14分别连接于平台主梁11与导轨梁12,用于调节平台主梁11相对于导轨梁12上下移动,并且纵向调节机构14的下端与导轨梁12之间设有移动机构,该移动机构可以使得整个纵向调节机构14沿着导轨梁12移动。 在实际运用中,当需要在菜地、沼泽或沟边等场地运载勘察设备等时,将两导轨梁12放置在场地的合适位置,例如,参照图4所示,两导轨梁12放置在菜地中的两人行间隙带上,然后调节两平台主梁11之间的横向调节机构13,调整两个平台主梁11之间的间距,也就是两个纵向调节机构14之间的距离,使得纵向调节机构14的下端与导轨梁12配合,这样,可以使得纵向调节机构14以及平台主梁11沿着导轨梁12移动;接着,根据需要,调节纵向调节机构14,使得两平台主梁11处于合适的高度。 将勘察设备等放置在上述已经调整好的两个平台主梁11上,通过纵向调节机构14与导轨梁12之间的移动机本文档来自技高网...

【技术保护点】
导轨式设备行走结构,其特征在于,包括两相间平行布置的平台主梁,两所述平台主梁之间设有用于调节两所述平台主梁之间间距的横向调节机构;所述导轨式设备行走结构还包括两对应放置在平台主梁下方的导轨梁,各所述导轨梁与其上方的平台主梁之间设有用于调节所述导轨梁与其上方的平台主梁之间间距的纵向调节机构,且所述纵向调节机构的下端与所述导轨梁之间设有使所述纵向调节机构沿所述导轨梁移动的移动机构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:罗锦华
申请(专利权)人:深圳市工勘岩土集团有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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