光固化物及其制造方法技术

旨在提供利用光压印法制备的并具有良好的图案精度和图案缺陷改善的光固化物。本发明专利技术提供通过将与模具接触的涂布膜用光照射获得的光固化物，该光固化物含有含氟原子表面活性剂，其中在通过光固化物的基于飞行时间二次离子质谱法的表面分析获得的二次离子信号中，C2H5O+离子信号的强度高于C3H7O+离子信号的强度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
近年来，半导体集成电路已经变得更加精细且集成度更高。光刻法经常被用作半 导体的图案化技术。然而，基于光刻法的更精细图案不能超出曝光光的衍射极限。 因此，为了进一步促进更精细和更精密的电路，已经提议了纳米压印法。纳米压印 法是指薄膜图案化技术，其包括将具有精细凹凸图案的模具压向涂布有树脂薄膜的基板， 以将模具中的凹凸图案转印至涂布基板的树脂薄膜。 在纳米压印法中，在例如非专利文献1中公开的光纳米压印法已经受到关注。光 纳米压印法包括：将对于曝光光灯透明的模具压印在涂布基板的光固化性组合物上；通过 光照射将光固化性组合物固化；将模具从所得固化物脱模，以制造与基板集成的精细的抗 蚀剂图案。 然而，对于使用光纳米压印法，应该解决一些问题。一个问题是：将模具从固化物 脱模所需的力即脱模力大。由于该大的脱模力，光纳米压印法具有缺点，例如图案缺陷和由 基板从平台（stage)的脱落引起的在模具与基板之间的校准精度的降低。 为了应对这样的问题，专利文献1公开了压印用的光固化物，其包括配置于基板 侧上的深层部和配置于深层部上的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光固化物，其通过用光照射与模具接触的光固化性组合物而获得，所述光固化物含有含氟原子表面活性剂，其中在通过所述光固化物的基于飞行时间二次离子质谱法的表面分析获得的二次离子信号中，C2H5O+离子信号的强度高于C3H7O+离子信号的强度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.02.09 JP 2012-0261441. 一种光固化物，其通过用光照射与模具接触的光固化性组合物而获得， 所述光固化物含有含氟原子表面活性剂，其中 在通过所述光固化物的基于飞行时间二次离子质谱法的表面分析获得的二次离子信 号中，C2H50+离子信号的强度高于C3H70+离子信号的强度。2. 根据权利要求1所述的光固化物，其中所述含氟原子表面活性剂是包含氧化乙烯的 化合物。3. -种光固化性组合物，其用于在与模具接触下通过光照射来获得光固化物，所述光 固化性组合物至少具有 聚合性单体， 光聚合引发剂，和 含氟原子表面活性剂，其中 在通过所述光固化物的基于飞行时间二次离子质谱法的表面分析获得的二次离子信 号中，C2H50+离子信号的强度高于C3H70+离子信号的强度。4. 一种在基板上具有预定的图案形状的光固化物的形成方法，其包括以下步骤： 用光固化性组合物涂布所述基板； 将所述光固化性组合物与模具接触； 隔着所述模具用光照射所述光固化性组合物；和 将所述模具从所述光固化性组合物脱模，其中 所述光固化物是根据权利要求1或2所述的光固化物。5. -种电路基板的制造方法，其包括以下步骤： 将光固化性组合物施涂到被加工基板上； 将模具压向所述光固化性组合物，以在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：村山阳平，伊藤俊树，三原知惠子，冲仲元毅，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP