光固化图案的形成方法技术

技术编号:12394924 阅读:167 留言:0更新日期:2015-11-26 01:57
本发明专利技术涉及光固化图案的形成方法。本发明专利技术涉及光固化图案的形成方法,在基板的至少一面涂布感光性树脂组合物,用复合波长的光曝光的光固化图案的形成方法中,通过进行上述曝光以使上述光中j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值相对于i线(超过340nm且380nm以下)的波长的光量积分值,成为5~20%,上述感光性树脂组合物包含吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂,从而提高图案的密合力,能够形成微细图案,由此能够实现高析像清晰度。

【技术实现步骤摘要】
光固化图案的形成方法
本专利技术涉及通过调节曝光阶段的光的光量和波长,从而能够显著地提高图案的析像清晰度的光固化图案的形成方法。
技术介绍
在显示器领域中,感光性树脂组合物用于形成光刻胶、绝缘膜、保护膜、黑底、柱状间隔物等的各种光固化图案。具体地,通过光刻工序对感光性树脂组合物选择性地曝光和显像而形成所需的光固化图案,但在该过程中,为了提高工序上的收率,提高应用对象的物性,要求高感光度的感光性树脂组合物。此外,一般的显示装置,为了维持上下基板的恒定间隔,使用了具有恒定直径的二氧化硅珠粒或塑料珠粒等。但是,将这样的珠粒在基板上无规地分散而位于像素的内部的情形下,存在开口率下降、产生漏光现象的问题。为了解决这样的问题,在显示装置的内部使用通过光刻法形成的间隔物,现在,用于显示装置的大量的间隔物采用光刻法形成。采用光刻法的间隔物的形成方法是在基板上涂布感光性树脂组合物,经由掩模照射紫外线后,通过显像工序,如掩模中形成的图案那样,在基板上的所需的位置形成间隔物。现在,间隔物图案等的光固化图案的形成中,曝光时主要采用包含i线(365nm)的复合波长,i线的光量非常大,微细图案的形成困难,不适合高析像清晰度的实现。此外,由于用于发生固化的感光性树脂组合物的吸收波长与光量为最大的i线的波长范围不一致,因此存在感光度降低的问题。
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术的目的在于提供能够形成微细图案的光固化图案的形成方法。此外,本专利技术的目的在于提供能够实现高析像清晰度的光固化图案的形成方法。用于解决技术问题的技术手段1.光固化图案的形成方法,是在基板的至少一面涂布感光性树脂组合物,用复合波长的光进行曝光而形成光固化图案的方法,其中,进行上述曝光以使上述光中j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值相对于i线(超过340nm且380nm以下)的波长的光量积分值,成为5~20%,上述感光性树脂组合物包含吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂。2.上述项目1的光固化图案的形成方法,其中,使用使j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值减少的滤光器进行上述曝光。3.上述项目2的光固化图案的形成方法,其中,相对于从光源射出的光,以20~80%进行上述j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值减少。4.上述项目2的光固化图案的形成方法,其中,相对于从光源射出的光,以20~70%进行上述j线中300nm以上且小于330nm的波长的光的光量积分值减少。5.上述项目2的光固化图案的形成方法,其中,相对于从光源射出的光,以15~90%进行上述j线中330nm以上340nm以下的波长的光的光量积分值减少。6.上述项目1的光固化图案的形成方法,其中,上述光聚合引发剂为选自苯乙酮系化合物、联咪唑系化合物和肟系化合物中的至少1种。7.上述项目1的光固化图案的形成方法,其中,以感光性树脂组合物的总固形分为基准,以1~30质量%的量含有上述光聚合引发剂。8.上述项目1的光固化图案的形成方法,其中,上述感光性树脂组合物还包含碱可溶性树脂、光聚合性化合物和溶剂。9.上述项目1的光固化图案的形成方法,其中,上述光固化图案选自阵列平坦化膜图案、保护膜图案、绝缘膜图案、光刻胶图案、黑底图案和柱状间隔物图案。10.采用上述项目1~9所述的方法形成的光固化图案。11.图像显示装置,其具备上述项目10所述的光固化图案。专利技术的技术效果本专利技术的光固化图案的形成方法,通过调节曝光阶段的光的波长和光量,能够形成密合力优异的图案。此外,本专利技术的光固化图案的形成方法能够形成能够实现高析像清晰度的微细图案。附图说明图1为表示根据调制例1~5中使用的光聚合引发剂的吸收波长以及实施例和比较例的曝光阶段中使用的光的波长的光量积分值的图。图2为简要地表示用于测定图案的底部CD(BottomCD)和上部CD(TopCD)的方法的图。具体实施方式本专利技术涉及光固化图案的形成方法,更详细地说,涉及光固化图案的形成方法、使用其制造的光固化图案和具备该光固化图案的图像显示装置,在基板的至少一面涂布感光性树脂组合物,用复合波长的光进行曝光的光固化图案的形成方法中,进行上述曝光以使上述光中j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值,相对于i线(超过340nm且380nm以下)的波长的光量积分值,成为5~20%,上述感光性树脂组合物包含吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂,从而使图案的密合力提高,能够形成微细图案,由此能够实现高析像清晰度。<光固化图案的形成方法>根据本专利技术的光固化图案的形成方法,通过调节在曝光阶段照射的光的波长和光量,能够形成密合力优异的微细图案。更具体地,本专利技术通过在曝光阶段中使j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值减少到适当范围,与此同时使用吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂,能够形成微细图案,同时也将图案的高度维持在适当范围,形成密合力优异的图案。以下列举本专利技术的一具体例,进行更详细地说明。涂膜形成阶段首先,在基板的至少一面涂布感光性树脂组合物。本专利技术中使用的感光性树脂组合物,通过包含吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂,能够调节引发不饱和双键间的聚合的自由基的产生,形成微细图案,同时也将图案的高度维持在适当范围,形成密合力优异的图案。首先,涂布感光性树脂组合物后,通过加热干燥,从而将溶剂等挥发成分除去,得到平滑的涂膜。作为涂布方法,可采用例如旋涂、流延涂布法、辊式涂布法、狭缝和旋转涂布或狭缝涂布法等实施。列举更具体的例子对涂膜的形成阶段进行说明,可在涂布后加热干燥(预烘焙)、或者减压干燥后加热,使溶剂等挥发成分挥发而进行。其中,加热温度一般地可为70~200℃、优选地80~130℃,加热干燥后的涂膜厚度一般地可为1~8μm左右。用于本专利技术的感光性树脂组合物可包含碱可溶性树脂(A)、光聚合性化合物(B)、光聚合引发剂(C)和溶剂(D)。碱可溶性树脂(A)上述碱可溶性树脂(A)通常具有由光、热的作用引起的反应性和碱溶解性,作为材料的分散介质发挥作用。本专利技术的碱可溶性树脂(A)可以是具有包含下述(A1)和(A2)的化合物通过共聚反应而得到的结构单元的共聚物。(A1):具有不饱和键和羧基的化合物、(A2):选自由下述化学式1a和1b组成的组的、具有环氧基和不饱和键的脂肪族多环状化合物。上述碱可溶性树脂,除了上述单体以外,能够加入其他的单体而一并聚合。即,还包含上述A1乃至A2以外的单体使其共聚的情形也包含在本专利技术中。[化学式1a][化学式1b]上述化学式1a和1b中,R各自独立地为氢原子或被羟基取代或未取代的碳数1~4的烷基,X各自独立地为单键或者具有或不具有杂原子的碳数1~6的亚烷基。作为上述具有不饱和键和羧基的化合物(A1),只要是具有能够聚合的不饱和双键的羧酸化合物,则能够没有限制地使用。上述具有不饱和键和羧基的化合物(A1),可列举例如不饱和单羧酸、不饱和二羧酸或不饱和三羧酸这样的在分子中具有2个以上的羧基的多元羧酸等。作为上述不饱和单羧酸,可列举例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等。作为上述不饱和多元羧酸,可列举例如马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等。上述多元羧本文档来自技高网...
光固化图案的形成方法

【技术保护点】
光固化图案的形成方法,是在基板的至少一面涂布感光性树脂组合物,用复合波长的光进行曝光而形成光固化图案的方法,其中,进行上述曝光以使上述光中j线(300nm以上340nm以下)的波长的光的光量积分值相对于i线(超过340nm且380nm以下)的波长的光量积分值,成为5~20%,上述感光性树脂组合物包含吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂。

【技术特征摘要】
2014.05.20 KR 10-2014-00603861.光固化图案的形成方法,是在基板的至少一面涂布感光性树脂组合物,用复合波长的光进行曝光而形成光固化图案的方法,其中,进行上述曝光以使上述光中j线中300nm以上340nm以下的波长的光的光量积分值相对于i线中超过340nm且380nm以下的波长的光量积分值,成为5~20%,上述感光性树脂组合物包含吸收波长为325~340nm的光聚合引发剂。2.权利要求1所述的光固化图案的形成方法,其中,使用使j线中300nm以上340nm以下的波长的光的光量积分值减少的滤光器进行上述曝光。3.权利要求2所述的光固化图案的形成方法,其中,相对于从光源射出的光,以20~80%进行上述j线中300nm以上340nm以下的波长的光的光量积分值减少。4.权利要求2所述的光固化图案的形成方法,其中,相对于从光源射出的光,以20~70%进行上...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔和燮白基範朴根永
申请(专利权)人:东友精细化工有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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