本发明专利技术提供一种用于擦拭附着在狭缝喷嘴的喷出口和喷嘴侧面的处理液的擦拭垫(49)，其中，该擦拭垫(49)包括：刮除边(49d1)，其以与上述喷出口的长边方向交叉、并能够与上述喷出口和上述喷嘴侧面相抵接的方式设置；以及导出路径(49a)，其用于将由该刮除边(49d1)刮除的处理液向在沿着喷嘴长边方向的移动方向上的比上述刮除边(49d1)靠前侧的位置排出，上述导出路径(49a)是沿着上述移动方向形成于垫上表面(49g)侧的V字槽，上述V字槽形成为在上述V字槽的后端缘部形成有上述刮除边(49d1)且槽宽度和深度随着自上述刮除边(49d1)朝向前方去而逐渐变大。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种用于擦拭附着在狭缝喷嘴的喷出口和喷嘴侧面的处理液的擦拭垫(49)，其中，该擦拭垫(49)包括：刮除边(49d1)，其以与上述喷出口的长边方向交叉、并能够与上述喷出口和上述喷嘴侧面相抵接的方式设置；以及导出路径(49a)，其用于将由该刮除边(49d1)刮除的处理液向在沿着喷嘴长边方向的移动方向上的比上述刮除边(49d1)靠前侧的位置排出，上述导出路径(49a)是沿着上述移动方向形成于垫上表面(49g)侧的V字槽，上述V字槽形成为在上述V字槽的后端缘部形成有上述刮除边(49d1)且槽宽度和深度随着自上述刮除边(49d1)朝向前方去而逐渐变大。【专利说明】擦拭垫、使用该垫的喷嘴维护装置和涂覆处理装置
本专利技术涉及擦拭垫、使用该垫的喷嘴维护装置和涂覆处理装置，尤其涉及用于对 形成有狭缝状的喷出口且附着有自上述喷出口喷出的处理液的喷嘴顶端实施上述处理液 的擦拭处理的擦拭垫以及使用该垫的喷嘴维护装置和涂覆处理装置。 本申请基于2012年2月10日提出申请的日本特愿2012 - 026822号主张优先权， 并将其内容引入到说明书中。
技术介绍
例如，在FPD(平板显示器）的制造中，电路图案的形成通过所谓的光刻工序来进 行。 在该光刻工序中，在玻璃基板等被处理基板上成膜规定的膜之后，涂覆作为处理 液的光致抗蚀剂（下面，称为抗蚀剂或抗蚀剂液），从而形成抗蚀剂膜（感光膜）。然后，与 电路图案相对应地对上述抗蚀剂膜进行曝光，对该曝光后的抗蚀剂膜进行显影处理而形成 图案。 在这样的光刻工序中，作为对被处理基板涂覆抗蚀剂液而形成抗蚀剂膜的方法， 存在从狭缝状的喷出口带状地喷出抗蚀剂液而在基板上涂覆抗蚀剂的方法。 利用图29简单地对使用该方法的以往的抗蚀剂涂覆装置进行说明。 图29所示的抗蚀剂涂覆装置200具有用于载置基板G的载置台201、配置在该载 置台201的上方的抗蚀剂供给喷嘴202、以及用于使该喷嘴202移动的喷嘴移动部件203。 在喷嘴202上设有具有沿着基板G的宽度方向延伸的微小间隙的狭缝状的喷出口 202a，使从抗蚀剂液供给源204供给的抗蚀剂液R从喷出口 202a喷出。 然而，因为狭缝状的喷出口 202a由微小的间隙形成，所以如果对进行涂覆处理后 的喷嘴顶端（喷出口 202a)放置不管，则会由于抗蚀剂液的干燥等而产生堵塞，从而如图30 所示那样不能沿喷嘴宽度方向均匀地喷出抗蚀剂液。 因此，如图29所示，抗蚀剂涂覆装置200具有用于对在涂覆处理后附着在喷嘴顶 端而残留的抗蚀剂液R的状态进行调整的启动加注部件（日文4 $ >夕''手段）208。 该启动加注部件208在对基板G进行涂覆处理之前，向旋转自如的圆柱形状的启 动加注辊207的表面喷出抗蚀剂液R，使附着在喷嘴顶端的抗蚀剂液R均匀化（以下，称之 为启动加注处理）。 在该结构中，在对基板G进行抗蚀剂涂覆处理时，一边利用喷嘴移动部件203使喷 嘴202水平移动，一边从狭缝状的喷出口 202a将抗蚀剂液R带状地喷出到基板G的整个表 面，由此，进行抗蚀剂液R的涂覆处理。 另外，在喷嘴202待机时，利用上述启动加注部件208对喷嘴202进行启动加注处 理。在该启动加注处理中，在喷嘴202的喷出口 202a的涂覆方向后侧，使均匀的抗蚀剂液 R以珠线状（日文J 一卜''7 4 >状）附着在基板宽度方向上的状态，能够自接下来的涂覆 处理的开始时起进行均匀的涂覆处理。 另外，在专利文献1中记载有这样的抗蚀剂涂覆装置。 专利文献1 :日本专利第4040025号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问是页 如上所述，通过在对基板G进行涂覆处理之前对具有沿基板宽度方向延伸的狭缝 状的喷出口 202a的喷嘴202实施启动加注处理，能够调整附着在喷嘴顶端的抗蚀剂液R的 状态。 然而，在上述启动加注处理中存在如下问题：需要对旋转的启动加注辊207的辊 面喷出大量的抗蚀剂液R，从而使抗蚀剂液R的（无谓的）消耗过多。 另外，存在如下问题：需要在启动加注处理后清洗启动加注辊207,为此，需要大 量存储在存储槽209内的清洗液，从而使成本升高。 并且，还存在如下问题：启动加注处理和启动加注辊207的清洗处理需要较长时 间，生产节拍时间变长，因此使生产率降低。 本专利技术是鉴于上述那样的现有技术的问题点而做出的，其目的在于，提供擦拭垫、 使用该垫的喷嘴维护装置以及涂覆处理装置：在用于对形成有沿被处理基板的宽度方向延 伸的狭缝状的喷出口且附着有自上述喷出口喷出的处理液的喷嘴顶端实施上述处理液的 擦拭处理的喷嘴维护装置中，能够消除处理液等药液的无谓的消耗且能够缩短生产节拍时 间并提商生广率。 用于解决问题的方案 为了解决上述问题，本专利技术提供一种擦拭垫，通过使该擦拭垫相对于具有在被处 理基板的宽度方向上较长的狭缝状的喷出口且在上述喷出口的前后两侧平行地延伸的喷 嘴侧面形成为朝向喷出口去自上而下逐渐变细的锥形状的喷嘴自喷嘴长边方向的一端侧 移动到另一端侧，从而擦拭附着在上述喷出口和上述喷嘴侧面的处理液，其中，上述擦拭垫 包括：刮除边，其以与上述喷出口的长边方向交叉、并能够与上述喷出口和上述喷嘴侧面相 抵接的方式设置；以及导出路径，其用于将由该刮除边刮除的处理液向在沿着上述喷嘴长 边方向的移动方向上的比上述刮除边靠前侧的位置排出，上述导出路径是沿着上述移动方 向形成于垫上表面侧的V字槽，上述V字槽形成为在上述V字槽的后端缘部形成有上述刮 除边且槽宽度和深度随着自上述刮除边朝向前方去而逐渐变大。 或者，为了解决上述问题，本专利技术提供一种擦拭垫，通过使该擦拭垫相对于具有在 被处理基板的宽度方向上较长的狭缝状的喷出口且在上述喷出口的前后两侧平行地延伸 的喷嘴侧面形成为朝向喷出口去自上而下逐渐变细的锥形状的喷嘴自喷嘴长边方向的一 端侧移动到另一端侧，从而擦拭附着在上述喷出口和上述喷嘴侧面的处理液，其中，上述擦 拭垫包括：刮除边，其以与上述喷出口的长边方向交叉、并能够与上述喷出口和上述喷嘴侧 面相抵接的方式设置；以及导出路径，其用于将由该刮除边刮除的处理液向在沿着上述喷 嘴长边方向的移动方向上的比上述刮除边靠前侧的位置排出，上述刮除边通过设置于凸缘 部而形成为在俯视时朝向前方去自中央向左右两侧扩展的V字状，该凸缘部以在上述移动 方向上主视观察时呈V字状的方式形成于垫前表面的上部，且该凸缘部设在上述刮除边的 左右两侧并向前方突出，，由上述擦拭垫的包括上述凸缘部的下表面在内的垫前表面侧形 的部分成上述导出路径。 通过如此构成，在对被处理基板进行处理液的涂覆处理后，利用喷嘴刮除边刮除 附着在喷嘴顶端的多余的处理液，从而能够有效地擦拭，而不会使已刮除的处理液向（正 在移动的）擦拭垫的后方流出。 其结果，不需要以往那样的启动加注辊，并不必为了进行启动加注处理而向辊面 喷出抗蚀剂液，因此能够将处理液的消耗抑制得较低。 另外，以往的使用启动加注辊的启动加注处理相比，能够大幅短缩喷嘴顶端的维 护处理所需的时间而使生产节拍时间短缩，因此能够提高生产率。并且，由于不需要启动本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种擦拭垫，使该擦拭垫相对于具有在被处理基板的宽度方向上较长的狭缝状的喷出口且在上述喷出口的前后两侧平行地延伸的喷嘴侧面形成为朝向喷出口去自上而下逐渐变细的锥形状的喷嘴自喷嘴长边方向的一端侧移动到另一端侧，从而擦拭附着在上述喷出口和上述喷嘴侧面的处理液，其中，上述擦拭垫包括：刮除边，其以与上述喷出口的长边方向交叉、并能够与上述喷出口和上述喷嘴侧面相抵接的方式设置；以及导出路径，其用于将由该刮除边刮除的处理液向在沿着上述喷嘴长边方向的移动方向上的比上述刮除边靠前侧的位置排出，上述导出路径是沿着上述移动方向形成于垫上表面侧的V字槽，上述V字槽形成为在上述V字槽的后端缘部形成有上述刮除边且槽宽度和深度随着自上述刮除边朝向前方去而逐渐变大。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：稻益寿史，小笠原幸雄，田代佳，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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