【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学工程材料
，更加具体地说，涉及一种光学器件，一种微透镜阵列及其制备方法。
技术介绍
微透镜阵列是一系列口径在几个微米到几百个毫米的微小型透镜按一定排列组成的阵列。微透镜及其阵列是微光学系统中的重要器件之一，被广泛地应用于光学信息处理、光束整形、光学器件互连、三维成像等领域。近年来，用具有可塑性、重量轻的光学材料制备微光学元件的生产技术引起了人们的广泛关注。特别是有机聚合物，由于其容易加工，能大大简化制作工艺，得到的微透镜及其阵列具有高性能而更加引人注目。微透镜具有许多优点，诸如薄片状；重量轻；可复制；价格低廉；衍射效率高导致的充分利用光能；用计算机可设计能产生任意波面的微透镜；可以微型化与阵列化，并且可以同微电子器件一起集成化，提供微光电一体的集成器件，在光学传感、光通信、光计算、光互连和光学神经网络等领域，利用微透镜阵列可以实现光束的发射、聚焦、偏折、分割、复合、开关、耦合、接收等功倉泛。目前，聚合物微透镜及其阵列的制备方法有很多，如:光刻胶热熔法、离子束刻蚀、激光直接写入、微喷打印、灰度掩膜光刻法、各向异性刻蚀法和软模或硬...
【技术保护点】
一种微透镜的制备方法，其特征在于，按照下述步骤进行：步骤1，以利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板，使用聚甲基硅氧烷在模板上进行浇铸，以得到聚甲基硅氧烷印章；步骤2，使用氧等离子体对聚甲基硅氧烷印章进行修饰，以得到亲水性表面，将聚甲基硅氧烷印章表面基团由疏水性的Si‑CH变为亲水性的Si‑OH；步骤3，将亲水性表面修饰后的聚甲基硅氧烷印章进行全氟化处理，利用全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章进行反应，并使全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章之间形成稳定化学键键合，再将聚甲基硅氧烷在经过全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸，以得到反向的聚甲基硅氧烷印章，即与之前利用水...
【技术特征摘要】
1.一种微透镜的制备方法，其特征在于，按照下述步骤进行: 步骤1，以利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板，使用聚甲基硅氧烷在模板上进行浇铸，以得到聚甲基硅氧烷印章； 步骤2，使用氧等离子体对聚甲基硅氧烷印章进行修饰，以得到亲水性表面，将聚甲基硅氧烷印章表面基团由疏水性的S1-CH变为亲水性的S1-OH ； 步骤3，将亲水性表面修饰后的聚甲基硅氧烷印章进行全氟化处理，利用全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章进行反应，并使全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章之间形成稳定化学键键合，再将聚甲基硅氧烷在经过全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸，以得到反向的聚甲基硅氧烷印章，即与之前利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板制备的凸向的聚甲基硅氧烷印章相比，在全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸的第二层聚甲基硅氧烷印章变为凹向的； 步骤4，将制备的反向的聚甲基硅氧烷印章从水中取出，由于反向的聚甲基硅氧烷印章表面具有凹陷的凹坑，在凹坑中存有水，将反向的聚甲基硅氧烷印章上设置有凹坑的一面与亲水性石英玻璃基底相接触，进行冷却，以使凹坑中水转化为冰，取下反向的聚甲基硅氧烷印章，即可在亲水性石英玻...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚琲，崔灿，李轩，王楠，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：天津;12
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