光学装置、固体拍摄装置及光学装置的制造方法制造方法及图纸

公开一种光学装置、固体拍摄装置及光学装置的制造方法。实施方式涉及的光学装置包含：基板；和第1光学层。上述基板具有第1面、和与上述第1面在相反侧的第2面。上述第1光学层设置在上述第1面之上，并包含沿着上述第1面配置的多个第1折射率设定部。上述多个第1折射率设定部的各个具有使磁导率变化的多个金属图形。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】公开一种。实施方式涉及的光学装置包含：基板；和第1光学层。上述基板具有第1面、和与上述第1面在相反侧的第2面。上述第1光学层设置在上述第1面之上，并包含沿着上述第1面配置的多个第1折射率设定部。上述多个第1折射率设定部的各个具有使磁导率变化的多个金属图形。【专利说明】 相关专利申请的参照本申请要求享受2013年I月30日申请的日本专利申请号2013-015621的优先权的利益，在本申请中援引其日本专利申请的全部内容。
本实施方式涉及。
技术介绍
由于作为光学装置的透镜的厚度很薄，所以需要使用折射率高的材料。例如，在作为透镜使用SiO2系的玻璃的场合，SiO2的折射率为约1.45。如果透镜的折射率例如为3，则透镜的厚度与使用SiO2系的玻璃的场合相比为约1/3。折射率通过介电常数和磁导率的各个的平方根的积来决定。因此，如果能增大介电常数及磁导率的任一方则能提高折射率。在光学装置中，最好得到希望的折射率。
技术实现思路
本专利技术打算解决的课题在于提供一种能够得到希望的折射率的。实施方式的光学装置具备:基板，具有第I面、和与上述第I面在相反侧的第2面；和第I光学层，设置在上述第I面上，并具有沿着上述第I面配置的多个第I折射率设定部;上述多个第I折射率设定部的各个具有使上述多个第I折射率设定部的上述各个的磁导率变化的多个金属图形，具有与上述磁导率对应的折射率。其他的实施方式的固体拍摄装置具备:固体拍摄元件；和配置在上述固体拍摄元件的光轴上的光学装置；上述光学装置包含:基板，具有第I面、和与上述第I面在相反侧的第2面；和第I光学层，设置在上述第I面之上，并具有沿着上述第I面配置的多个折射率设定部；上述多个折射率设定部的各个具有使上述多个折射率设定部的上述各个的磁导率变化的多个金属图形，具有与上述磁导率对应的折射率。此外，其他的实施方式的光学装置的制造方法中，上述光学装置包含:基板，具有第I面、和与上述第I面在相反侧的第2面；和第I光学层，设置在上述第I面之上，并具有沿着上述第I面配置的多个第I折射率设定部；上述多个第I折射率设定部的各个具有使上述各个的磁导率变化的多个金属图形，上述多个第I折射率设定部的上述各个具有与上述磁导率对应的折射率； 上述光学装置的制造方法具备以下步骤:在上述第I面上形成按顺序层叠第I金属膜、层间膜、第2金属膜的层叠体；在上述层叠体上形成掩模；和通过经由上述掩模将上述层叠体蚀刻，将上述第I金属膜及上述第2金属膜图形化而形成上述2个金属图形。根据上述构成的，可以得到希望的折射率。【专利附图】【附图说明】图1 (a)及(b)是示例第I实施方式涉及的光学装置的模式图。图2(a)及(b)是示例金属图形的模式图。图3(a)及(b)是示例金属图形的布局的模式图。图4(a)及(b)是表示进行光学模拟时的定义的图。图5(a)及(b)是表示光学模拟结果的图。图6(a)及(b)是表示金属图形的几何关系的变化的例子的模式图。图7(a)?图7(c)是示例光学装置的制造方法的模式的剖面图。图8(a)及(b)是示例光学装置的制造方法的模式的剖面图。图9(a)及(b)是示例第3实施方式涉及的光学装置的模式的剖面图。图10(a)及(b)是示例2个金属图形的配置的模式图。图11 (a)及(b)是示例2个金属图形的间隔的模式图。图12(a)及(b)是示例金属图形的其他形状的模式图。图13是表示光学模拟结果的图。图14(a)及(b)是示例金属图形的其他形状的模式图。图15是示例光学装置的其他构成的模式图。图16是示例第4实施方式涉及的固体拍摄装置的模式的剖面图。图17是示例参考例涉及的固体拍摄装置的模式的剖面图。图18是示例第4实施方式涉及的其他固体拍摄装置的模式的剖面图。【具体实施方式】以下，根据【专利附图】【附图说明】本专利技术的实施方式。以下的说明中，为同样的部件附加同样的标号，关于已说明的部件适当地省略其说明。(第I实施方式)图1 (a)及(b)是示例第I实施方式涉及的光学装置的模式图。图1(a)中，表示光学装置110的模式的剖面图。图1 (b)中，表示光学装置110的模式的俯视图。图1(a)中表示的图是图1(b)的A-A线的模式的剖面图。第I实施方式涉及的光学装置110包含基板10、和第I光学层20。光学装置110作为光学透镜起作用。基板10由使预定波长的光透射的材料形成。本实施方式中，基板10由例如使可见光透射的材料(SiO2等)形成。在这里，可见光为波长360纳米(nm)以上且830nm以下的光。基板10具有第I面10a、和与第I面IOa在相反侧的第2面10b。基板10例如成平板形状。如图1(a)所示，第I面IOa与第2面IOb例如平行。本实施方式中，与第I面IOa正交的方向为Z方向，与Z方向正交的方向之一为X方向，与Z方向及X方向正交的方向为Y方向。光学装置Iio的光轴C为例如Z方向。光例如通过第I光学层20从基板10的第I面IOa入射，从第2面IOb出射。基板10的厚度(第I面IOa和第2面IOb在Z方向的距离)例如由作为光学透镜的光路长度来决定。如图1(b)所示，基板10在Z方向看的外形为例如矩形。再者，除矩形以外，基板10在Z方向看的外形也可以是圆形等。第I光学层20设置在基板10的第I面IOa之上。第I光学层20包含多个第I折射率设定部21。说明实施方式的附图中，为了说明的方便，通过虚线表示第I折射率设定部21。如图1 (b)所示，多个第I折射率设定部21沿着第I面IOa以二维状配置。图1(b)中表示的例子中，多个第I折射率设定部21分别配置在X方向及Y方向。即，多个第I折射率设定部21沿着第I面IOa以行列状配置。再者，多个第I折射率设定部21的排列不限于行列状。多个第I折射率设定部21的各个具有使各个的磁导率变化的多个金属图形。即，第I折射率设定部21的磁导率通过多个金属图形来调整。多个第I折射率设定部21的各个具有与磁导率对应的折射率。即，具有通过多个金属图形设定的折射率。设置有多个金属图形的第I折射率设定部21是所谓超材料(metamaterial)。所谓超材料是使金属以某种图形周期性地排列而形成的具有自然界中没有的特性的人工物质。以下，作为多个金属图形的一个例子，举例说明设置有2个金属图形的情况。可是，本实施方式中，不限于此，也可在第I折射率设定部21设置3个以上的金属图形。光学装置110中，通过沿着第I面IOa以行列状配置的多个第I折射率设定部21在XY方向的各个位置设定折射率。光学装置Iio中，通过关于多个第I折射率设定部21的各个设定折射率，对于透射的光作为光学透镜起作用。即，发挥作为光学透镜的功能。例如，在光学装置110的XY平面的中心为光轴c的场合，若设定为越沿着XY平面从光轴c离开折射率变得越小，则光学装置110作为凸透镜起作用。相反，若设定为越沿着XY平面从光轴C离开折射率变得越大，则光学装置110作为凹透镜起作用。这样，通过根据多个第I折射率设定部21在XY方向的各个位置设定的折射率，得到光学装置110的希望的透镜特性。图2(a)及(b)是示例金属图形的模式图。图2 (a)是示例2个金属图形mp的模式的立体图。图2 (b)是示例金属图形mp的模式的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学装置，其特征在于，具备：基板，具有第1面、和与上述第1面在相反侧的第2面；和第1光学层，设置在上述第1面之上，并具有沿着上述第1面配置的多个第1折射率设定部；上述多个第1折射率设定部的各个具有使上述多个第1折射率设定部的上述各个的磁导率变化的多个金属图形，具有与上述磁导率对应的折射率。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：国分弘一，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：日本;JP