一种带有抛光功能的研磨盘制造技术

本发明专利技术涉及一种带有抛光功能的研磨盘，适用于光学元件、非晶薄膜衬底等工件表面的研磨与抛光加工。它包括包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。本发明专利技术结构简单紧凑，成本较低，自动化程度高，通过螺旋形研磨盘的磨料粒度梯度化设计，可以对工件分别进行从粗磨到精抛的不同程度的加工。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种带有抛光功能的研磨盘，适用于光学元件、非晶薄膜衬底等工件表面的研磨与抛光加工。它包括包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。本专利技术结构简单紧凑，成本较低，自动化程度高，通过螺旋形研磨盘的磨料粒度梯度化设计，可以对工件分别进行从粗磨到精抛的不同程度的加工。【专利说明】一种带有抛光功能的研磨盘
本专利技术涉及一种带有抛光功能的研磨盘，适用于光学元件、非晶薄膜衬底等工件表面的研磨与抛光加工。
技术介绍
研磨是利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。加工精度可达IT5?01，表面粗糙度可达Ra0.63?0.01微米。抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽(消光)。当我们需要对代加工工件进行光整加工，用以改善工件表面粗糙度或强化其表面的加工过程，通常同时采用研磨和抛光。传统的利用研磨盘或者抛光盘的光整系统将研磨与抛光工序分开，使得由研磨过度到抛光时系统需要将研磨盘更换为抛光盘，很难提升加工效率。即使是单一的研磨加工，单一磨粒粒度的研磨盘也并不能使工件完全达到所需的表面粗糙度或者需要很长的加工时间。且传统的研磨和抛光系统，加工时需要人为添加砝码或由工件和承托工件的器件本身的重力来决定施加于工件表面与研磨盘(或抛光盘)表面的压力，这使得所是施加的压力不能根据加工需求得到动态调节而且无法得到低于工件和承托工件的器件本身的重力的压力，在更换研磨盘或抛光盘后需添加或者更换砝码，由于砝码的质量固定，很难实现施加压力的连续变化，从而影响了加工质量，并且受人为因素影响大，很难实现自动化。
技术实现思路
为了克服现有技术加工中存在的加工效率低、自动化程度不高、抛光和研磨加工需要分开等缺点，本专利技术提供一种可以集粗磨、精磨、粗抛、精抛为一体的一种带有抛光功能的研磨盘。为达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案是:一种带有抛光功能的研磨盘，包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。进一步的，所述底座砂轮底部设有中心轴安装孔，所述安装孔内设有平键槽。进一步的，所述废液流道直接连通砂轮底部的废水槽。，本专利技术的技术构思为:利用螺旋形研磨盘对工件进行连续加工，将研磨盘的粒度从外圈从内圈依次增加，可以对工件进行由粗磨、到精抛不同程度的加工；研磨盘上设有螺旋形挡板，可以防止加工的时候磨屑溅落到相邻的区域；研磨盘在底部电机的带动下可以旋转的角速度不变，但是线速度由内至外逐渐降低，研磨加工时加工精度越低需要的转动线速度越低，需要的盘面磨料粒度越高，通过磨料粒度的渐变和加工线速度的渐变实现无级加工的目的。与现有技术相比，本专利技术具有以下优点:本专利技术结构简单紧凑，成本较低，自动化程度高，通过螺旋形研磨盘的磨料粒度梯度化设计，可以对工件分别进行从粗磨到精抛的不同程度的加工。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术一种带有抛光功能的研磨盘的结构示意图。图2是本专利技术一种带有抛光功能的研磨盘的结构示意图俯视图。图3是本专利技术一种带有抛光功能的研磨盘的结构示意图立体图。【具体实施方式】为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合【具体实施方式】并参照附图，对本专利技术进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本专利技术的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本专利技术的概念。结合图1至图3，一种带有抛光功能的研磨盘，包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。应当理解的是，本专利技术的上述【具体实施方式】仅仅用于示例性说明或解释本专利技术的原理，而不构成对本专利技术的限制。因此，在不偏离本专利技术的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。此外，本专利技术所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。【权利要求】1.一种带有抛光功能的研磨盘，其特征在于:包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。2.根据权利要求1所述的一种带有抛光功能的研磨盘，其特征在于:所述底座砂轮底部设有中心轴安装孔，所述安装孔内设有平键槽。3.根据权利要求1所述的一种带有抛光功能的研磨盘，其特征在于:所述废液流道直接连通砂轮底部的废水槽。【文档编号】B24B37/16GK103878684SQ201410079959【公开日】2014年6月25日 申请日期:2014年3月6日 优先权日:2014年3月6日 【专利技术者】金明生, 计时鸣, 张利, 潘烨 申请人:浙江工业大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带有抛光功能的研磨盘，其特征在于：包括底座砂轮和螺旋形挡板，所述螺旋形挡板固定安装在底座砂轮上，所述底座砂轮的表面粒度随着螺旋形挡板梯度式变化，越靠近螺旋形中心，底座砂轮的表面粒度越高；所述底座砂轮上沿着螺旋形挡板的内外侧均设有废液流道。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金明生，计时鸣，张利，潘烨，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33