一种涂胶显影机制造技术

本实用新型专利技术提供一种涂胶显影机，至少包括：涂胶单元；位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；位于相邻所述涂胶单元之间的溶剂槽；位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上的机械手臂。将涂胶单元呈2×2的阵列分布，便于光刻胶喷嘴对其进行不间断的旋转喷涂，节省了涂布时间，节约了生产成本；将光刻胶喷嘴设置成四个，既可以实现同时为放置于四个涂胶单元内托盘上的晶圆进行光刻胶涂布，有效地提高了生产量，又可以实现在一个工作系统中对涂胶单元进行不同种类光刻胶的涂布；设计两条机械手臂，即使一条机械手臂出现故障，整个涂胶显影机机台仍可以继续运转工作。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种涂胶显影机，至少包括：涂胶单元；位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；位于相邻所述涂胶单元之间的溶剂槽；位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上的机械手臂。将涂胶单元呈2×2的阵列分布，便于光刻胶喷嘴对其进行不间断的旋转喷涂，节省了涂布时间，节约了生产成本；将光刻胶喷嘴设置成四个，既可以实现同时为放置于四个涂胶单元内托盘上的晶圆进行光刻胶涂布，有效地提高了生产量，又可以实现在一个工作系统中对涂胶单元进行不同种类光刻胶的涂布；设计两条机械手臂，即使一条机械手臂出现故障，整个涂胶显影机机台仍可以继续运转工作。【专利说明】一种涂胶显影机
本技术涉及一种半导体工艺设备
，特别是涉及一种涂胶显影机。
技术介绍
涂胶显影机(Track)是制造半导体的常用设备，一般用于光刻胶涂布及显影等工艺。涂布光刻胶是涂胶显影机在光刻工艺中必要的一步，光刻胶涂布的过程一般包括:将晶圆安置于涂胶显影机上，由涂胶显影机的光刻胶喷嘴向晶圆表面喷涂上光刻胶。在设计涂胶显影机的时候，追求的目标在于涂布光刻胶控制膜厚性能的同时，尽可能的提高产量，以及避免光刻胶的浪费。现有技术中涂胶显影机的设计如图1所示，四个涂胶单元11与对应的加热/冷却盘12平行地纵向分布于机械手臂13的运行轨道14两侧，为较少光刻胶损耗，设计一个光刻胶喷嘴15为涂胶单元11喷涂光刻胶。在工作的时候，光刻胶喷嘴15沿直线轨道16移动，依次为第一涂胶单元111、第二涂胶单元112、第三涂胶单元113和第四涂胶单元114内托盘17上的晶圆喷涂光刻胶，而后直接返回第一涂胶单元111位置，重复上述动作。由于在光刻胶喷嘴15为晶圆涂布好光刻胶后，机械手臂13会及时将涂布好光刻胶的晶圆传送至加热/冷却盘12，并在对应的涂胶单元11的托盘17上放好新的需要涂布光刻胶的晶圆，因此，在光刻胶喷嘴15移动回第一涂胶单元111的时候，第一涂胶单元111已经闲置了一段时间，这就浪费了涂布时间，使得机器处于空转状态，造成生产成本的浪费。同时，由于使用一条机械手臂进行晶圆传送，一旦机械手臂出现故障，就会导致整个涂胶显影机机台停产，严重影响了生产量。鉴于此，有必要设计一种新的结构以解决上述技术问题。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种涂胶显影机，用于解决现有技术中使用一个光刻胶喷嘴直线往返为每个涂布单元进行光刻胶涂布时，由于光刻胶喷嘴回程为空载，而导致的机器处于空转状态，浪费涂布时间，降低生产量，浪费生产成本的问题，以及由于使用一条机械手臂进行传送，一旦机械手臂出现故障，就会导致整个涂胶显影机机台停产，进而严重影响生产量的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种涂胶显影机，所述涂胶显影机至少包括:涂胶单元，所述涂胶单元包括呈2X2的阵列分布、用于放置晶圆的托盘；位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；位于相邻所述涂胶单元之间、用于清洗光刻胶喷嘴的溶剂槽；位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上、用于传送晶圆的机械手臂。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴的数量为至少一个。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴固定在一个主轴上，在所述主轴的控制下进行O?360度旋转，依次对放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴在主轴的控制下升降移动。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴的尾部设置有用于保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述光刻胶喷嘴的数量为四个。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴固定在主轴上，在所述主轴的控制下进行O?360度旋转，同时为四个放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴(25)旋转的角度为45度至90度。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下左右移动用于对晶圆上不同区域喷涂不同种类的光刻胶。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下可以进行上下升降移动。作为本技术的涂胶显影机的一种优选方案，所述四个光刻胶喷嘴尾部都设置有左右自由移动的、用以保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。如上所述，本技术的涂胶显影机，具有以下有益效果:本技术中将涂胶单元呈2X2的阵列分布，便于光刻胶喷嘴对其进行不间断的旋转喷涂，进而避免了现有技术中光刻胶喷嘴空载返程的情况，节省了涂布时间，节约了生产成本；将光刻胶喷嘴设置成四个，既可以实现同时为放置于四个涂胶单元内托盘27上的晶圆进行光刻胶涂布，大大提高生产效率，有效地提高了生产量，又可以实现在一个工作系统中根据需要对涂胶单元进行不同种类光刻胶的涂布；设计两条机械手臂，即使一条机械手臂出现故障，整个涂胶显影机机台仍可以继续运转工作，不会像现有技术中那样整个机台导致停产，同时两条机械手臂传送晶圆，明显提高了晶圆涂布传送的速度，大大提高了生产量。【专利附图】【附图说明】图1显示为现有技术中涂胶显影机的结构示意图。图2a显示为本技术的涂胶显影机的结构示意图。图2b显示为本技术的光刻胶喷嘴的结构示意图。图3a显示为本技术另一实施例的涂胶显影机的结构示意图。图3b显示为本技术另一实施例的光刻胶喷嘴的结构示意图。元件标号说明【权利要求】1.一种涂胶显影机，其特征在于，所述涂胶显影机至少包含: 涂胶单元，所述涂胶单元包括呈2X2的阵列分布、用于放置晶圆的托盘； 位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴； 位于相邻所述涂胶单元之间、用于清洗光刻胶喷嘴的溶剂槽； 位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘； 以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上、用于传送晶圆的机械手臂。2.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于:所述光刻胶喷嘴的数量为至少一个。3.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于:所述光刻胶喷嘴固定在主轴上，在所述主轴的控制下进行O?360度旋转，依次对放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。4.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于:所述光刻胶喷嘴在主轴的控制下升降移动。5.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于:所述光刻胶喷嘴的尾部设置有用于保持光刻胶喷嘴旋转时力矩平衡的重物。6.根据权利要求2所述的涂胶显影机，其特征在于:所述光刻胶喷嘴的数量为四个。7.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于:所述四个光刻胶喷嘴固定在主轴上，在所述主轴的控制下进行O?360度旋转，同时为四个放置于托盘上的晶圆进行光刻胶涂布。8.根据权利要求7所述的涂胶显影机，其特征在于:所述四个光刻胶喷嘴旋转的角度为45度至90度。9.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于:所述四个光刻胶喷嘴在主轴的控制下左右移动用于对晶圆上不同区域喷涂不同种类的光刻胶。10.根据权利要求6所述的涂胶显影机本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶显影机，其特征在于，所述涂胶显影机至少包含：涂胶单元，所述涂胶单元包括呈2×2的阵列分布、用于放置晶圆的托盘；位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；位于相邻所述涂胶单元之间、用于清洗光刻胶喷嘴的溶剂槽；位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上、用于传送晶圆的机械手臂。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：岳力挽，邢滨，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11