【技术实现步骤摘要】
涂胶系统
本专利技术涉及显示领域,尤其涉及一种涂胶系统。
技术介绍
TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示装置)的制造一般需要经过4-6次掩膜(Mask),光刻胶的涂布是每一道掩膜(Mask)制程必不可少的步骤。一般在TFT-LCD设备安装之前,产线使用的光刻胶就已经检讨完毕,每条产线使用的光刻胶也已经确定,在装机后设备调试时直接使用既定的光刻胶即可,调试完成后直接进行量产。如果没有什么特殊情况,各产线使用的PR (photo resist,光刻胶)胶不会变更。但是,由于各种新工艺的出现,以及改善型PR胶的测试,使得产线不同PR胶的切换越来越频繁。参见图1,图1是现有技术中的一种涂胶系统,该系统包括备用的光刻胶容器ir,但其对于光刻胶的切换并没有任何没有帮助。在更换另外一种光刻胶时,需要使用稀释溶剂浸泡和清洗所有的光刻胶管路,具体地,将该涂胶系统停机,拆卸稀释剂容器6'接出的稀释管道5',参见图2,将拆卸的管道5'放入塑料桶12'中,并通过加压管道13'对稀释剂容器6'加 ...
【技术保护点】
一种涂胶系统,其特征在于,包括多通阀、稀释剂容器、排水管以及至少两路光刻胶管路,其中,所述至少两路光刻胶管路中的每一路光刻胶管路包括四通阀、过滤缓冲装置、第一三通阀以及光刻胶容器;所述四通阀的第一端与所述过滤缓冲装置的一端相连接,第二端与所述排水管路相连接,第三端与所述稀释剂容器相连接,第四端与所述多通阀相连接;所述过滤缓冲装置的另一端与所述第一三通阀的第一端相连;所述第一三通阀的第二端与所述稀释剂容器相连,第三端与所述光刻胶容器相连。
【技术特征摘要】
1.一种涂胶系统,其特征在于,包括多通阀、稀释剂容器、排水管以及至少两路光刻胶管路,其中,所述至少两路光刻胶管路中的每一路光刻胶管路包括四通阀、过滤缓冲装置、第一三通阀以及光刻胶容器; 所述四通阀的第一端与所述过滤缓冲装置的一端相连接,第二端与所述排水管路相连接,第三端与所述稀释剂容器相连接,第四端与所述多通阀相连接; 所述过滤缓冲装置的另一端与所述第一三通阀的第一端相连; 所述第一三通阀的第二端与所述稀释剂容器相连,第三端与所述光刻胶容器相连。2.根据权利要求1所述的涂胶系统,其特征在于,所述过滤缓冲装置包括依次连接的第一过滤器、缓冲容器及第二过滤器。3.根据权利要求1所述的涂胶系统,其特征在于,所述光刻胶容器包括隔膜泵、第二三通阀、接头以及光刻胶桶; 所述隔膜泵的一端连接所述第二三通阀的第一端; 所述第二三通阀的第二端与所述接头连接,所述第二三通阀通过所述接头实现与所述光刻胶桶的连接。4.根据权利要求3所述的涂胶系统,其特征在于,所述接头包括接头主体以及贯穿所述接头主体的第一管道和第二管道,当所述接头插入所述光刻胶桶时,通过所述第一管道向所述光刻胶桶...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹景博,徐海涛,鲁成祝,江涛,黄炳相,王守波,
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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