【技术实现步骤摘要】
配置涂胶显影机内工艺模块数量及机器人速度的方法
本专利技术涉及半导体
,具体的说涉及开发设计涂胶显影机时,配置涂胶显影机内工艺处理模块数量及机器人工艺传递速度的方法。
技术介绍
目前,大规模集成电路生产线上,要求与光刻机联线作业的涂胶显影机的产能较大,并且要高于光刻机产能,这种高产能并与光刻机联线生产的涂胶显影机,其主要功能是将晶圆在本机的片盒中卸载后,在本机内进行涂胶工艺处理,之后通过接口部分进入光刻机中曝光,之后再经接口部分返回本机进行显影工艺处理,最后再将晶圆装载回本机的片盒。该涂胶显影机主要需要完成涂胶前增粘处理、涂胶、涂胶后软烘,曝光后烘烤、显影、显影后硬烘等主要工艺处理过程,使得该机台内工艺模块种类及数量较多、晶圆传递的机器人较多。涂胶显影机的产能主要取决于机台内工艺模块的产能、工艺模块的数量及机器人的传片速度、晶圆传递路径、机台内工艺模块的结构及布局等方面,几方面之间还存在一定的影响关系。进行涂胶显影机的设计,需要在以上几个方面着手,还必须考虑它们之间的相互关系,才能完成高性价比产品的开发设计。
技术实现思路
开发设计高产能并与光刻机联线生产的涂胶显影机,需要合理配置机台内工艺处理模块的数量及机器人工艺传递的速度,本专利技术提供一种配置涂胶显影机内工艺处理模块数量及机器人工艺传递速度的方法,根据目标产能确立机台的工艺时间参数,设计机台内各个工艺处理模块的工艺处理周期时间参数与各个晶圆传递机器人的工艺传递周期时间参数,使得三个时间参数保持一致。本专利技术为实现上述目的所采用的技术方案是:一种配置涂胶显影机内工艺模块数量及机器人速度的方法,根据 ...
【技术保护点】
一种配置涂胶显影机内工艺模块数量及机器人速度的方法,其特征在于,根据目标产能确立机台的工艺时间参数TP,设计机台内各个工艺处理模块的工艺处理周期时间参数与晶圆传递机器人的工艺传递周期时间参数,使得三个时间参数趋于一致。
【技术特征摘要】
1.一种配置涂胶显影机内工艺模块数量及机器人速度的方法,其特征在于,根据目标产能确立机台的工艺时间参数TP,设计机台内各个工艺处理模块的工艺处理周期时间参数与晶圆传递机器人的工艺传递周期时间参数,使得三个时间参数趋于一致,即,涂胶显影机内各个工艺处理模块的工艺处理周期时间参数Tn与机台的工艺时间参数TP的差值最小,且涂胶显影机内各个晶圆传递机器人的工艺传递周期时间参数Tr与机台的工艺时间参数TP的差值最小;所述涂胶显影机内各个工艺处理模块的工艺处理周期时间参数Tn=(模块工艺处理时间+模块工艺辅助时间)/模块数量;所述涂胶显影机内各个工艺处理模块的工艺处理周期时间参数Tn通过配置模块数量,使得Tn...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡延兵,冯伟,
申请(专利权)人:沈阳芯源微电子设备有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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