株式会社日立高新技术专利技术

株式会社日立高新技术共有2368项专利

  • 带电粒子束装置中,在使用具有圆环形状的带电粒子束光圈的情况下,带电粒子束中的电流密度最高的光轴上的带电粒子束被遮挡,因此难以将带电粒子束光圈配置到最优的搭载位置。因此,与圆环形状的带电粒子束光圈(120)分别地具备圆孔形状的带电粒子束光...
  • 本发明提供一种电解质分析装置,其抑制在用户进行试剂更换作业时因不同的试剂与吸引喷嘴液体接触而导致的污染。电解质分析装置具有:喷嘴支撑部(203),其与吸引喷嘴(6)结合,并能够在试剂容器更换位置和试剂吸引位置之间移动;锁定机构(301)...
  • 本发明提供一种电解质分析装置,其在由用户进行的试剂更换作业时抑制因不同试剂与吸引喷嘴接触而导致的污染。因此,电解质分析装置具备设置收纳稀释液的稀释液瓶(101‑1)、收纳内部标准液的内部标准液瓶(101‑2)以及收纳比较电极液的比较电极...
  • 本发明的扫描电子显微镜系统具备:初级电子线照射单元,其向具有在第一图案的周边区域形成的第二图案的基板的第一图案照射初级电子线;检测单元,其检测从被初级电子线照射单元照射了初级电子线的基板释放的后方散射电子;图像生成单元,其生成与通过检测...
  • 本发明提供不进行反应槽位置的控制便能避免携带污染从而防止分析性能变差的自动分析装置。本发明的自动分析装置具备使样本与试剂混合并反应的反应槽、向分注到反应槽内的样本和试剂的混合液照射光的光源、检测从光源照射出的光的检测器、以及清洗反应槽的...
  • 本发明的自动分析装置包括:分析部(8、9、16),其进行分析、以及为了保证分析的精度的精度管理分析;存储介质(1a),其存储分析部(8、9、16)所进行的精度管理分析的精度管理结果;监视器(2),其显示精度管理结果;以及控制PC(1),...
  • 提供一种带电粒子束装置,即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下,也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。该带电粒子束装置具备:带电粒子束照射部,向试料照射带电粒子束;第一检测器,对来自所述试料的二次电子进行检测;第二检测器,对来自...
  • 电子枪(1)照射电子束,具备闪烁器的照相机检测通过该电子束的照射而从样本产生的信号,并拍摄透射像。电流读入端子测量发向闪烁器的信号的电流值,电子束密度计算部(483)根据测量出的电流值和闪烁器的面积来计算电子束密度,输出控制部(485)...
  • 一种电极,其是通过对半导体器件进行树脂模塑而形成的。电极具有:第一树脂模塑部,其形成于半导体器件的正面,具有第一厚度(t1);第二树脂模塑部,其形成于半导体器件的背面,具有比第一厚度大的第二厚度(t2);和露出部,其形成于第一树脂模塑部...
  • 一种等离子体处理装置,具备:处理室(101),使用等离子体(111)对晶片(114)进行处理;高频电源(106),供给用于生成等离子体(111)的高频电力;机构,使用于形成ECR的磁场形成,并且控制该磁通密度;以及样品台(113),载置...
  • 本发明的超声波清洗器在清洗槽211内的侧面侧具备用于放大BLT100的超声波振动的振动部222,通过驱动BLT100而使供给到清洗槽211内的清洗液在喷嘴的周围无不均地产生因超声波振动引起的空蚀,能够有效清洗喷嘴。
  • 能够适当地管理/更换消耗品,能够抑制测定精度的下降。本发明的自动分析装置具备:分析部,其对分析对象的样品进行分析;输送部,其输送搭载了收容有样品的样品容器的样品架;控制部,其控制所述分析部和所述输送部;能够更换的部件,其被赋予了包括更换...
  • 在短时间内除去腔室内的残留卤素等,改善吞吐量的等离子体处理方法具有:蚀刻工序,在腔室内蚀刻晶片;等离子体清洁工序,通过向腔室内导入包含卤素元素的气体,从而除去所述腔室的内壁的异物;以及残留卤素除去工序,通过在所述腔室内交替地反复含有氧的...
  • 本发明能实现一种具有多个色谱仪的分析装置,即使在对具有不同的分析时间或试料分离时间的分析项目进行重复多个循环的分析的情况下,也能提高整体的运转效率。在分析项目(C)之前的分析项目(B’)的分注动作(202)与试料分析流路导入(203)之...
  • 本发明的课题在于,在制造商的试剂容器的截面积不同的情况下,在预约数量的测定结束前试剂容器为空,或在结束时还有剩余。每次分注时测定液面高度,根据试剂容器截面积和该液面高度来计算试剂容器的剩余测定次数(S211),计数从分注计划起至分注的测...
  • 本实用新型提供一种自动分析装置。在进行维护作业的维修人员等忘记将互锁机构从无效向有效切换时,存在普通用户不能注意到互锁被解除的情况。本实用新型的自动分析装置的特征在于,构成为具备:用于实施检体的分析所需的动作的动作部;控制动作部的动作的...
  • 本发明提供半导体制造装置,该半导体制造装置能够使用络合气体,高速且高精度地对包含过渡金属元素的金属膜进行蚀刻。半导体制造装置具有:真空容器(60);处理室(1),其设置在真空容器内,且设置有载置试料(3)的载置台(4),该试料(3)形成...
  • 在具备在比被加工物的设置位置靠下游侧处再激励而形成等离子体并监视该等离子体的发光的气体成分监视部的气体成分监视装置中,将气体成分监视部构成为具备:导入气体供给部,其供给导入气体;喷嘴部,其形成有孔和开口部,所述孔供从导入气体供给部供给的...
  • 本发明提供小型且简化的温度控制装置、以及具备该温度控制装置的基因检查装置。该温度控制装置具备温度调节对象部,该温度调节对象部在内部保持含有作为温度控制的对象的DNA的溶液,该温度控制装置的特征在于,还具备:单一的温度调节部,其被调整成预...
  • 需要通过管的内径固定的分注探头,短时间高效地搅拌少量的样本(血液等)和试剂(稀释液等)。自动分析装置执行以下的工序:分注探头(12)从试剂容器(29)吸引试剂的吸引工序;向反应容器(28)喷出所吸引的试剂中的第一液量,从反应容器吸引在反...