株式会社日立高新技术专利技术

株式会社日立高新技术共有2368项专利

  • 本发明提供具备能够使用超声波来高精度地检测各种高度的样本容器内的液面的液面检测功能的自动分析装置。具备:搬运架(22),其载置并搬运放入有样本的样本容器;固定的超声波距离传感器(200),其测定载置于搬运架的样本容器内的液面位置;声波导...
  • 等离子处理装置具有:使用等离子来对晶片(1)进行处理的处理室;提供生成上述等离子的高频电力的高频电源;配置于上述处理室且载置晶片(1)的样品台(2);和与样品台(2)电连接且使样品台(2)产生吸附力的直流电源(106)。样品台(2)具备...
  • 关于真空处理装置的运转方法,在链接式的真空处理装置的情况下,提供一种能够实现多个工序处理所涉及的有效的搬运以及处理的技术。实施方式的真空处理装置的运转方法具有第一步骤(步骤601~607),在该第一步骤中,对于各个晶片选择多个处理单元当...
  • 在对成膜于试料的被蚀刻膜进行等离子蚀刻的等离子处理方法中,具有:保护膜形成工序,在形成于试料的图案的上部选择性地形成保护膜,调整所形成的保护膜的宽度以使得该形成的保护膜的宽度的试料的面内的分布成为所希望的分布;和在保护膜形成工序后,对被...
  • 在蚀刻处理中的晶片的膜厚/深度测定中,由于光源的光量波动、光通过的区域的空气的波动等而在检测光量中产生变动,膜厚/深度的测定精度下降,因此,根据在蚀刻处理中的各时刻测定的分光光谱而算出任意的波长的总光量或平均光量,算出使用比当前时刻靠前...
  • 根据使用了等离子体的干蚀刻方法,在对有机膜进行蚀刻时,交替地重复进行将Ar离子遮挡而向试料的有机膜仅照射氧自由基的第一工序、以及向有机膜照射稀有气体的离子的第二工序,由此能够抑制有机膜的蚀刻的偏差从而进行精度良好的蚀刻处理。由此,能够抑...
  • 本发明提供一种半导体元件的制造方法以及等离子体处理装置。在具有SiGe沟道的半导体元件的制造工序中,能够不对SiGe沟道造成损伤地形成保护SiGe沟道的Si偏析层。半导体元件的制造方法包括:第1工序,对至少具有硅层和在硅层上形成的硅锗层...
  • 本发明的目的在于,提供不增设用于检测对象离子的离子选择电极之外的离子选择电极、且能够降低由共存离子带来的影响的自动分析装置。本发明的自动分析装置使用计算离子选择电极的选择系数的结果、和计测试样中所含的共存离子浓度的结果来计算上述试样中所...
  • 能在抑制、减少过渡金属膜的表面粗糙度的同时高精度地进行蚀刻。对形成于样品的含过渡金属元素的过渡金属膜通过如下工序来进行蚀刻:第1工序,将样品的温度保持在100℃以下,并在过渡金属膜的表面各向同性地生成过渡金属氧化物层;第2工序,对过渡金...
  • 本发明提高通过向试样照射非聚焦的离子束加工试样的离子铣削装置的加工精度、或加工面形状的再现精度。为此,具有试样室(6)、设置于试样室的离子源位置调整机构(5)、经由离子源位置调整机构安装于试样室且射出离子束的离子源(1)、以及以旋转中心...
  • 本发明提供一种自动分析装置,其能在维持运行状态的状态下抑制水的使用量并进行反应槽水的更换。自动分析装置具备在反应槽水中浸渍反应容器的反应槽、测定反应槽水的吸光度的吸光度测定部、向反应槽供给反应槽水的供水部、从反应槽排出反应槽水的排水部、...
  • 本发明可实现一种自动分析装置,其能够设定测定分注精度的分注机构和分注量,并且能够省略吸光度的测定而测量分注精度。指定要测定分注精度的分注机构(S201),输入分注量等参数(S202)。对于每个指定的分注机构,自动地执行所输入的分注量的分...
  • 带电粒子束装置(110)具备:镜筒(111),其具备带电粒子源(112);试样室(101),其设置被照射带电粒子束的试样;热释放型电子源(102),其配置在试样室(101)内,维持为比其内壁低的电位,其中,通过电子源电源(103)的电压...
  • 本发明提供一种在被检查物旋转的加减速中也能够检查异物的检查装置。检查装置包括:使被检查物旋转和平移的旋转/平移单元;调制激光束的强度而对被检查物照射激光束的光强度调制单元;基于电压控制信号来多等级地控制光强度调制单元的光强度控制单元;被...
  • 本发明提供一种信号处理装置和信号处理方法,即使在发生仅对时间序列信号有微小影响的异常时,也能够通过对其进行检测来实现可靠性更高的测定。该信号处理装置的特征在于,具备:第一测量部,其以第一时间分辨率取得第一时间序列信号;第二测量部,其以比...
  • 在毛细管电泳装置中,即使是爬电距离、空间距离并非充分的部件结构也能够避免放电并兼顾小型化和性能。具备:对毛细管(02)进行加热的电阻加热型加热器(62)、对毛细管电极进行保持并与高电压部连接的电极保持器(05)、以及至少一部分由金属制成...
  • 本发明提供自动分析装置,将试剂容器保管箱内的来自装置外部的微生物引起的污染防患于未然,其具备保持试剂容器的试剂容器保管箱、容纳试剂容器且将之输送到试剂容器保管箱的所需位置的试剂盘、以及具有向试剂盘和试剂容器的装填系统照射紫外线的照射部(...
  • 产生进行了空间相位调制的电子波。具备激光输出装置、空间光相位调制器以及光阴极。光阴极在表面具有形成有NEA膜的半导体膜,半导体膜的厚度比半导体膜中的电子的相干弛豫时间乘以半导体膜中的电子的移动速度得到的值薄。根据该结构,进行了空间相位调...
  • 本发明提供一种自动分析装置,其与现有技术相比提高了对分注探针内表面的清洗能力。具备:将试剂、试样向反应容器(2)分注的分注探针(7a、8a、11a、12a);向分注探针(7a、8a、11a、12a)供给清洗水的齿轮泵(34);使从齿轮泵...
  • 随着半导体器件的微细化而具有晶圆上的划线区域也减少的倾向。因此,划线区域所配置的TEG也需要减小,并且需要高效地配置供探针接触用的电极焊垫。因此,需要使电极焊垫的高效布局与探针对应。本发明的目的是提供一种使容易进行电气特性评价的TEG的...