本发明提出了一种自动分析装置以及检测体检查自动化系统。为了从回收到容纳部(13)的支架(31)、从容纳部(13)取出的支架(31)之中清楚地辨别未检查项目等残留而应抽出的检测体，用智能设备(18)的摄像机(18d)映现支架(31)，并在...

本发明提出了一种检测体信息提供方法。为了从回收到容纳部(13)的支架(31)、从容纳部(13)取出的支架(31)之中清楚地辨别未检查项目等残留而应抽出的检测体，用智能设备(18)的摄像机(18d)映现支架(31)，并在智能设备(18)具...

一种生物分子分析装置，其特征在于，具备具有纳米孔的薄膜、与所述薄膜相接触地配置且含有电解质溶液的液槽、与所述液槽相接触的电极、与所述电极连接的测定部、以及根据所述测定部的测定结果控制施加于所述电极的电压的控制部，所述电解质溶液中导入有生...

本发明在自动分析装置中混合测定培育时间不同的多个测定项目的情况下，将测定的周转时间的恶化抑制在最小限度。自动分析装置在接受到检体的委托时(步骤5

本发明的目的在于提供一种能够有效地实施对分注装置所具备的分注探针的表面状态进行评价的工序的试验方法。本发明涉及的试验方法中，通过第一分注探针将溶解有色素的第一溶液预先分注到第一容器中，并且将未溶解色素的第二溶液预先分注到第二容器中，通过...

等离子处理装置具有：过程处理室，被配置于真空容器内部；试料台，被配置于所述过程处理室内，并在其上表面载置试料；第二喷淋板，在所述真空容器内，被配置于所述试料台的上方；第一喷淋板，被配置在所述第二喷淋板之上；以及电介质窗，被配置在所述第一...

本发明的检体托架传送线在不使用新的驱动机构的情况下，能在传送方向不同的传送线之间交接检体托架。检体托架传送线包括:第一传送线，用于朝第一方向传送检体托架；第二传送线，用于朝与第一方向不同的第二方向传送检体托架；以及通过口,设置在第一传送...

具备进行试样的分析的生化分析单元(201)、电解质分析单元(211)、生化分析单元(201)、控制电解质分析单元(211)的动作的1个分析单元用控制CPU(120)、生化分析单元(201)、按照每个电解质分析单元(211)存储不同目的的...

本发明实现廉价且能获得高精度的定量结果的质量分析装置。小区间测量指令部(101)指令检测器(9)在信道(4)中的多个小区间(5)中实施测量，将由检测器(9)检测到的信号存储在数据存储部(102)中，利用小区间信号量累计部(103)对信号...

提供一种无需设置空样品载体用输送线就能降低因不提供空样品载体导致的输送停滞的样品检测自动化系统。样品检测自动化系统构成为，包括：输送线(101)，输送可搭载1个或多个样品容器的样品载体，大规模样品载体缓冲区(104)，保管多个所述样品载...

提供结构简单且能够小型化的自动分析装置。本公开的自动分析装置具备：试剂库，其对收容试剂的试剂容器进行保持；以及盖开闭装置，其具备盖开闭构件，盖开闭构件构成为能够沿与铅垂方向平行的第一方向以及与第一方向垂直的第二方向移动。其特征在于，盖开...

实现具有能够在维持高精度的温度调整的同时小型化的调温装置的自动分析装置。在自动分析装置的调温部(20)中，将第一储药部(1)设为直径大的螺旋状的管道，将第二储药部(2)设为直径大的储药容器。将位于第二储药部(2)的上游侧的第一储药部(1...

本发明提供一种光谱校正装置及光谱校正方法，即使在荧光色素间同时出现峰的情况下也能够高精度地进行光谱校正。光谱校正装置算出用于颜色变换处理的颜色变换矩阵，包括：分光信号取得部，其取得随时间而检测到的荧光的分光信号；候选算出部，其基于所述分...

在毛细管电泳时，有时会发生由杂质等产生尖峰状的噪声、或者检测到光谱不同于标识荧光体的波长光谱的噪声峰的现象。因此，本公开提供一种确定标识荧光体自身的强度而不受杂质所产生的噪声荧光峰影响的技术。本公开中，设定噪声峰共有的荧光强度特性(噪声...

本发明提供一种高精度地校正光电元件的倍增因子的变动的自动分析装置和光测量方法。自动分析装置包括:光电元件，该光电元件用于通过光来产生电子并输出电流信号；电压施加部，该电压施加部用于向光电元件施加电压；以及处理部，该处理部用于校正光电元件...

热循环器(160)具备：支承块(3)，其支承反应容器(2)；珀尔帖元件(5)，其与支承块(3)热连结，且通过对支承块(3)进行加热、冷却而对保持于反应容器(2)的试液1的温度进行调整；温度传感器(4)，其对支承块(3)的温度进行计测；以...

由于洗剂是消耗品，因此希望在避免清洗效果实质性地降低的限度内尽量减少洗剂的使用量。提供一种自动分析装置，其具备：与探针连接来进行液体的抽吸和喷出的注射器泵；经由注射器泵将用于对探针内部进行清洗的清洗水向探针供给的供水泵；以及控制器。控制...

本公开涉及尺寸测量装置，缩短尺寸测量所需的时间和排除由操作员引起的误差。为此，使用在剖面图像整体范围内提取加工构造与背景之间的边界线及/或异种材料间的界面的边界线的第一图像识别模型、以及输出信息的第二图像识别模型，求出按照每个单位图案而...

在分光散射测量中，在散射光测定时的视野中包括多个图案的情况下，不对该尺寸管理对象外的图案进行模型化地实现从该视野中的分光反射强度去除尺寸(三维形状)管理的对象外的图案的影响。三维形状检测装置(100)具有通过向作为对象的样本(103)照...

本发明是一种使用掩模对被蚀刻膜进行等离子蚀刻的等离子处理方法，其特征在于，具有：沉积工序，对载置有成膜了所述被蚀刻膜的试料的试料台提供高频电力，并且使含有硼元素的沉积膜沉积到所述掩模；以及蚀刻工序，在所述沉积工序之后，使用等离子对所述被...