【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带电粒子束装置
本专利技术涉及向试样照射带电粒子束的带电粒子束装置。
技术介绍
扫描型电子显微镜(SEM:ScanningElectronMicroscope)、聚焦离子束系统(FIB:FocusedIonBeamSystem)这样的带电粒子束装置通过使带电粒子束聚束到试样,而进行纳米级的观察、分析、加工。在要求纳米级的观察、分析、加工的半导体领域、材料领域、生物
中广泛地使用了这些带电粒子束装置。另外,以推进了精细化的半导体领域为代表,在各种领域中,要求进一步的图像分辨率的提高、加工精度的提高。在专利文献1中,公开了一种能够通过以下的办法而以简单的构造实现的球面像差校正器,其具备入射板和出射板,在其任意一方上形成圆形开孔,在另一方上形成圆环开孔,通过向入射板和出射板之间施加电压,而具有通过形成在圆环开孔的电场消除正的球面像差的发散。另外,在非专利文献1中,揭示了通过使用圆环形状的光圈,来提高焦点深度。现有技术文献专利文献专利文献1:专利文献1:国际公开第2016/174891号 ...
【技术保护点】
1.一种带电粒子束装置,其特征在于,具备:/n带电粒子束源,其产生带电粒子束;/n第一带电粒子束光圈,其具有圆孔形状;/n第二带电粒子束光圈,其具有圆环形状;/n带电粒子束光圈器,其使上述第一带电粒子束光圈和上述第二带电粒子束光圈移动;/n第一偏转器群,其配置在上述带电粒子束源与上述第一带电粒子束光圈或上述第二带电粒子束光圈之间;/n物镜,其使上述带电粒子束聚束到试样;/n检测器,其检测上述带电粒子束照射到上述试样而释放的二次带电粒子;以及/n计算机,其基于由上述检测器检测出的二次带电粒子形成带电粒子像,/n设定上述带电粒子束的光轴和上述第一带电粒子束光圈的位置以便通过上述 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带电粒子束装置,其特征在于,具备:
带电粒子束源,其产生带电粒子束;
第一带电粒子束光圈,其具有圆孔形状;
第二带电粒子束光圈,其具有圆环形状;
带电粒子束光圈器,其使上述第一带电粒子束光圈和上述第二带电粒子束光圈移动;
第一偏转器群,其配置在上述带电粒子束源与上述第一带电粒子束光圈或上述第二带电粒子束光圈之间;
物镜,其使上述带电粒子束聚束到试样;
检测器,其检测上述带电粒子束照射到上述试样而释放的二次带电粒子;以及
计算机,其基于由上述检测器检测出的二次带电粒子形成带电粒子像,
设定上述带电粒子束的光轴和上述第一带电粒子束光圈的位置以便通过上述第一偏转器群使上述带电粒子束在上述第一带电粒子束光圈上进行扫描而得的圆形的带电粒子束像在图像的中心最亮,之后,从上述第一带电粒子束光圈切换到上述第二带电粒子束光圈,将切换后的上述第二带电粒子束光圈的位置设定成通过上述第一偏转器群使上述带电粒子束在上述第二带电粒子束光圈上进行扫描而得的圆形的带电粒子束像位于图像的中心。
2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置,其特征在于,
具备:带电粒子束光圈电源,其向上述第二带电粒子束光圈施加电压。
3.根据权利要求2所述的带电粒子束装置,其特征在于,
对于上述第二带电粒子束光圈,具有圆环形状的带电粒子束光圈和具有圆孔形状的带电粒子束光圈在上述带电粒子束的光轴方向上重叠,通过上述带电粒子束光圈电源向上述具有圆环形状的带电粒子束光圈与上述具有圆孔形状的带电粒子束光圈之间施加电压。
4.根据权利要求1所述的带电粒子束装置,其特征在于,
存储上述第二带电粒子束光圈被设定的位置,
选择上述第二带电粒子束光圈,由此通过上述带电粒子束光圈器将上述第二带电粒子束光圈移动到上述设定的位置。
5.一种带电粒子束装置,其特征在于,具备:
带电粒子束源,其产生带电粒子束;
物镜,其使上述带电粒子束聚束到试样;
第一带电粒子束光圈,其具有圆孔形状;
第二带电粒子束光圈,其具有圆环形状;
带电粒子束光圈器,其使上述第一带电粒子束光圈和上述第二带电粒子束光圈移动;
第二偏转器群和第三偏转器群,其配置在上述物镜与上述第一带电粒子束光圈或上述第二带电粒子束光圈之间;
检测器,其检测上述带电粒子束照射到上述试样而释放的二次带电粒子;以及
计算机,其基于由上述检测器检测出的二次带电粒子形成带电粒子像,
通过上述第二偏转器群调整上述带电粒子束的路径以便使上述物镜的励磁周期性变动的同时通过上述第三偏转器群使上述带电粒子束在上述试样上进行扫描而得的带电粒子束像中的与上述物镜的励磁的周期性变动同步的图像的移动停止,之后,从上述第一带电粒子束光圈切换到上述第二带电粒子束光圈,将切换后的上述第二带电粒子束光圈的位置设定成使上述物镜的励磁周期性变动的同时通过上述第三偏转器群使上述带电粒子束在上述试样上进行扫描而得的带电粒子束像中的与上述物镜的励磁的周期性变动同步的移动停止。
6.根据权利要求5所述的带电粒子束装置,其特征在于,
代替通过使上述物镜的...
【专利技术属性】
技术研发人员:本村俊一,野间口恒典,川崎忠宽,加藤丈晴,吉田龙视,
申请(专利权)人:株式会社日立高新技术,一般财团法人日本精细陶瓷中心,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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