试样的观察辅助装置具备：观察位置显示部，其将通过带电粒子束装置对试样进行拍摄而得到的多个拍摄图像的位置与图像显示部对应起来进行显示；显示处理部，其控制所述观察位置显示部；以及代表图像选择处理部，其根据所述多个拍摄图像来选择代表图像，所述...

提供一种在导入有气体的处理腔室内使晶片的温度控制变得容易的技术。半导体制造装置具备基于电磁波的晶片的加热器和控制电路。控制电路使用表示导入处理腔室内的气体的种类、晶片的周围的气体的压力、决定晶片与载台的间隔的推杆销的高度、加热器的输出、...

一种容器保管装置(101)，其经由搬运架子的搬运路径与自动分析装置连接，其具有：保管试样容器的保管库(204)；在保管库与架子(203)之间进行试样容器的交换的容器搬运机构(208)；以及控制部，搬运路径在从容器保管装置朝向自动分析装置...

从搬送部（117）向废弃物储藏单元（202）引导反应容器（116a）的滑槽（305）具有将从搬送部（117）落下的反应容器（116a）收入至滑槽（305）的反应容器废弃孔（113）、从反应容器废弃孔（113）沿铅垂方向延伸第一距离的第一...

本发明的自动分析装置(1)中，设置于自动分析装置(1)的风道(140)具有引导部，该引导部对由于从进气口(130)到散热器(120)之间空气的流动方向发生改变而相对于散热器(120)以规定的角度流入的空气进行引导，以使其流到散热器(12...

本公开的目的在于提供能够提高处理的成品率的技术。等离子体处理装置(100)的装置(CPU107)使用表示在高频电力的振幅大的期间(PA)和振幅小的期间(PB)中的任一期间(PA)开始后的经过了规定的时间(TMV)后的期间(PA)中检知到...

本发明的目的在于提供一种自动分析装置，其能够更准确地求出从接受分析指示到开始分析为止的预操作所需的时间。自动分析装置包括对样品进行分析的分析模块、对所述分析模块进行控制的控制部以及对所述分析模块的状态进行显示的显示部，其特征在于，所述控...

本发明提供等离子处理方法。具有使用等离子对含钌膜进行蚀刻的第一蚀刻工序(S01)和在第一蚀刻工序后使用等离子对含钌膜进行蚀刻的第二蚀刻工序(S02)，第二蚀刻工序具有：第一步骤(S11)，使用由含卤素元素气体生成的等离子在含钌膜的表面形...

缩短自动分析装置的操作时间，提高自动分析装置的便利性。因此，构成为能够在显示装置中显示操作菜单画面(400)、以及快捷方式画面(600)，所述操作菜单画面(400)显示被分层定义的针对自动分析装置的操作菜单，所述快捷方式画面(600)配...

本发明的蚀刻系统特征在于，具备：对晶片(104)进行蚀刻的蚀刻装置(103)；测定形成于被蚀刻装置(103)蚀刻的晶片(104)的表面上的图案的测定装置(101)；和对蚀刻装置(103)提供蚀刻条件的计算装置(102)，计算装置(102...

本发明提供一种分析装置，输出能够跟踪数据库和日志的信息。分析装置包括对检体进行分析的分析部；存储部，其存储数据库(DB1～DB3)以及包含检体ID的日志，该数据库将与提供了检体的患者的个人信息相关联的检体ID、由分析部分析的检体的检体信...

本发明的目的在于提供一种能够抑制装置的大型化、处理能力的降低，并且即使在发光量变动的状况下也能够进行可靠性高的分析的自动分析装置。因此，本发明的自动分析装置具备：容器保持部，其能够保持多个容器，该容器收容通过检体与试剂混合而生成的反应液...

本发明目的在于，提供对SiGe相对于Ge以高选择比进行蚀刻的技术。本发明的蚀刻方法之一是将形成于晶片的表面的包含硅锗膜和锗膜的膜构造当中的硅锗膜作为处理对象来进行蚀刻处理的蚀刻方法，具备如下工序：在将所述晶片加热的状态下对所述膜构造供给...

对于被传送到自动分析装置内的检体，有无异常或原因能够一目了然。自动分析装置包括：分析部(101)，该分析部(101)对收容在检体容器(105)中的检体进行测量；显示部(104)，该显示部(104)显示分析部的测量结果；传送部(107)，...

目标分类装置生成表示目标的区域信息的区域单位信息，基于从区域单位信息提取出的区域单位特征量和从输入图像的部分区域提取出的部分区域单位特征量来判别目标的种类或状态从而对目标进行分类，并向用户提示目标的分类结果。由此，即使在图像内混合存在具...

本发明提供一种物性信息检索系统、物性信息检索方法以及存储介质，容易收集为了决定测定条件以及解释测定数据而参照的、与过去测定的物质的测定相关的信息。物质信息数据库保存将确定物质的物质确定信息与至少一个测定记录信息对应起来的物性事例信息，其...

通过测长用图像变换模型将拍摄了试样的测量对象拍摄图像变换为测量对象测长用图像，对测量对象测长用图像中包含的测量图案像的尺寸进行测量。在此，测长用图像变换模型使用作为拍摄了试样的学习用拍摄图像和与该学习用拍摄图像对应的学习用测长用图像的组...

本发明提供一种自动分析装置，其具备：图像取得部(203)，其取得检体容器(105)的图像；确定部(204)，其根据从检体容器(105)的开口部到检体液面的距离信息以及图像来确定检体容器(105)的类别或者直径的信息；存储部(205)，其...

本发明提供一种能够提高离子分布的再现性的离子研磨装置。离子研磨装置具有：离子源(1)；试样台(2)，其载置通过照射来自离子源(1)的非聚焦离子束而被加工的试样(4)；以及驱动单元(8)，其配置在离子源(1)与试样台(2)之间，使在第一方...

具备：显示部(14)，其显示与部件管理系统(1)有关的信息；自动分析装置存储部(23)，其针对多个分析用设备(25)中的各个分析用设备(25)，将相应的分析用设备(25)的ID与表示分析用设备(25)的状态的状态信息关联起来进行存储；输...