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株式会社日立高新技术专利技术
株式会社日立高新技术共有2460项专利
等离子处理装置制造方法及图纸
提供一种等离子处理装置,不使微波能量因等离子生成以外而积极地损失,在宽泛的条件下生成轴对称的电场分布,能进行均匀的处理,为了提供这样的等离子处理装置,等离子处理装置具备:隔膜偏振器,其使经由环行器传播的微波向处理室传播,环行器的一方的端...
作业辅助方法、作业辅助装置以及作业辅助系统制造方法及图纸
本发明目的在于,提供能进行减少了作业工序的分割或评价的遗漏的作业的评价来促进作业的改善的技术。因此,本发明的作业辅助方法辅助作业者对作业对象物进行的作业,具备如下工序:将真实作业数据基于时间或位置的信息分割成包含多个工序的作业工序数据,...
半导体制造装置的诊断装置、诊断系统以及诊断方法制造方法及图纸
本发明的目的在于,提供如下技术:针对半导体制造装置的设备的随时间劣化所引起的异常,基于从装备于设备的传感器的信号波形得到的特征量趋势的变化,早期虚报少且有效率地进行诊断。因此,本发明的半导体制造装置的诊断装置具备:特征量运算部,其根据与...
数据集作成辅助系统、数据集作成辅助装置以及数据集作成辅助程序制造方法及图纸
本发明目的在于,在用于作成学习用等的数据集的说明变量数据组的选定中,定量地评价该说明变量数据组的性质,将用于作成数据集的说明变量数据组的选定变得容易。为此,本发明的数据集作成辅助系统执行:说明变量输入处理,取得说明变量的种类和说明变量的...
诊断装置、诊断方法以及半导体器件制造系统制造方法及图纸
本发明的目的在于,提供一种能够掌握样品台的表面状态并且能够对异常的产生进行诊断的技术。因此,本发明的诊断装置的特征在于,在诊断载置有样品的样品台有无异常的诊断装置中,基于进行除电处理时的电流的过渡变化中的时间常数,来判定样品台有无异常,...
搅拌装置以及提取装置制造方法及图纸
本发明提供一种减少搅拌动作时产生的气溶胶对相邻的检体的污染的技术。本发明的搅拌装置的特征在于,具备:搅拌棒,其在内部具有空间,并具有与所述空间连通的通气口;以及吸气机构,其向所述空间吸引空气,通过所述吸气机构的动作,将包含在搅拌动作时产...
数据集生成装置、数据集生成方法、摄像装置、摄像方法、显微镜装置、数据集生成系统、摄像系统以及半导体器件制造系统制造方法及图纸
在本公开中,目的在于,提供能在识别带电粒子束像的情况下生成确保辨识性能的识别器的构建所需的数据集的技术。为此,本发明的数据集生成装置生成进行带电粒子束像的图像辨识的识别器的学习中所用的数据集,其特征在于,以为了进行图像辨识而登记的关注区...
预处理一体型电泳装置制造方法及图纸
本公开的预处理一体型电泳装置具备:预处理单元,其对生物体试样执行预处理来制备电泳用的样品;以及光学系统,其向在毛细管内被泳动分离后的所述样品照射光,检测来自所述样品的光,所述预处理一体型电泳装置具备:第一主体部和第二主体部;以及连接部件...
自动分析装置制造方法及图纸
本发明提供一种能够在清洗槽中不使分注检测体或试剂的分注管嘴上下移动地进行清洗的自动分析装置。一种自动分析装置,其具备:分注管嘴,其用于分注检测体或试剂;以及管嘴清洗槽,其对所述分注管嘴进行清洗,其特征在于,所述管嘴清洗槽具有向所述分注管...
监督信息制作辅助装置、图像分类装置以及程序制造方法及图纸
监督信息制作辅助装置具有:类别得分计算部,其针对由多个像素构成的图像,使用分割模型,按像素与类别的组合,计算表示该像素属于该类别的可靠度的类别得分;推论图像决定部,其根据所述类别得分,计算推论图像;邻接类别计算部,其受理关注类别的输入,...
自动分析装置制造方法及图纸
本发明提供一种能够准确地求出在配管中流动的液体的流量的自动分析装置。分析检体的自动分析装置的特征在于,具备:配管,其供液体流动;温度传感器,其与所述配管分离地配置,测定设置有所述配管的空间的温度;以及流量计算部,其基于基准温度时事先测定...
分级装置以及使用该分级装置的粉体的分级方法制造方法及图纸
本发明提供一种分级装置,该分级装置即使在对例如锂离子电池的电极材料等附着性强的粉体进行分级的情况下,网也不会破损,并且能够在确保规定的生产率的基础上进行分级,因此采用了以下的结构。一种分级装置以及使用了该分级装置的粉体的分级方法,所述分...
自动分析装置以及自动分析装置中的喷嘴的清洗方法制造方法及图纸
本发明具有:第一清洗部(52),其从第一方向对检体分注探针(21)的前端放出第一清洗水;第二清洗部(54),其从隔着检体分注探针(21)而与第一方向对置的第二方向对检体分注探针(21)的前端放出第二清洗水,在检体分注探针(21)的前端,...
进展管理系统、服务器以及进展管理方法技术方案
本发明的目的在于,提供能够考虑评价进展度来管理与制造配方开发相关的多个评价的进展的技术。本发明的进展管理系统之一的特征在于,由进展管理应用执行以下步骤:以全部评价结束的时间即评价结束时间或与各个评价的内容对应的应用的使用顺序为基础,来算...
容器供给装置制造方法及图纸
为了提供一种即使在输送中容器成为异常姿势的情况下也不易发生容器堵塞的容器供给装置,做成以下的结构。一种容器供给装置,其中,容器输送部具有:环状带;区分部件,其设置于环状带,能够将管状容器一个一个地区分并载置;以及带旋转机构,其使环状带向...
粉体处理装置以及使用该粉体处理装置的粉体处理方法制造方法及图纸
为了提供能够以现实的装置尺寸对大量的粉体进行处理的异物除去方法以及异物除去装置,本发明采用以下结构。一种粉体处理装置,其具备:基板,其能够载置粉体;多个处理部,其对载置于所述基板的粉体进行处理;以及基板输送机构,其在所述多个处理部之间输...
自动分析装置制造方法及图纸
本公开提供了一种自动分析装置,即使在容器与探针之间的静电容量过度变大的情况下,也能够检测出探测器的前端接触到液面的情况。用于分析检体的自动分析装置的特征在于,包括用于容纳液体的容器、用于吸引所述液体的探针、用于根据所述容器与所述探针之间...
搜索装置、数据压缩处理装置、半导体器件制造系统、搜索方法以及数据压缩处理方法制造方法及图纸
本发明的目的在于,提供能够考虑感测数据的生成过程而对感测数据进行压缩并进行形状预测的技术。因此,本发明的搜索装置的特征在于,在对等离子体处理装置中的获得期望的蚀刻形状的配方进行搜索的搜索装置中,基于由等离子体处理装置蚀刻的试样的材料、构...
半导体器件制造系统、服务器以及异物产生原因确定方法技术方案
本发明提供不需要处理容器内的构件的涂层也能应对以蚀刻工艺为起因的异物的技术。本发明的半导体器件制造系统之一的特征在于:在具备安装有用于确定附着于由半导体制造装置处理的样品的异物的产生原因的应用的平台的半导体器件制造系统中,由应用执行如下...
尺寸测量装置、尺寸测量方法以及半导体器件制造系统制造方法及图纸
本公开目的在于,提供能对具有产生图案变形的构造的截面图像测量变形前的图案的尺寸的手法。本发明的尺寸测量装置之一在于,在使用包含所蚀刻的图案的截面图像测量图案的所期望部位的尺寸的尺寸测量装置中,在图案与其他的图案接触的情况下,在将图案的接...
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